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2007年8月23日 (木)

カンマ+including

本発明の有機EL要素の電子輸送層111を形成する際に用いる好ましい薄膜形成物質は、オキシン自体(一般に8-キノリノールまたは8-ヒドロキシキノリンとも呼ばれる)のキレートを含む金属キレート・オキシノイド化合物である。

Preferred thin film-forming materials for use in forming the electron-transporting layer 111 of the organic EL elements of this invention are metal chelated oxinoid compounds, including chelates of oxine itself (also commonly referred to as 8-quinolinol or 8-hydroxyquinoline).

特許公表2007-514966
WO2005055186
より

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