ラビング処理が施されている

アレイ基板１１及び対向基板１２の各配向膜１６には、図３に示すように同じ方向Ａにラビング処理が施されている。

A rubbing process has been performed on the alignment films 16 of the array substrate 11 and the counter substrate 12 in the same direction A as shown in FIG. 3.

特許公表２００７－５１６４６４
WO2005071477 （英文は日本人による翻訳：英文は参考程度に）
より