特許の英語（特許翻訳分野）: be greatly affected by

2008年1月12日 (土)

第１ステージでは、核生成が非常に重要であり、その核生成は、基板表面の性質や品質に大きな影響を受ける。

Nucleation, the first stage, is very important and is greatly affected by the nature and quality of the substrate surface.

特許公表２００５－５０３０００
WO02065517より引用

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