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2008年1月13日 (日)

抽象的な主語+depend on+…

このコントロールが難しい理由は、形成されるシリコン含有フィルムの形態と厚さが、下層の基板の成膜温度と形態の両方の影響を受けるからである。

Control is difficult because the morphology and thickness of the resulting Si-containing film depend on both the deposition temperature and the morphology of the underlying substrate.

特許公表2005-503000
WO02065517より引用

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