広く利用されている方法の１つ

例えば、もっとも広く利用されている方法の１つに、化学気相成長（“ＣＶＤ”）法があり、ＣＶＤ法では、気相に含まれる原子又は分子を基板表面に析出、堆積させ、膜を形成させる。

For example, one of the most widely used methods is chemical vapor deposition ("CVD"), in which atoms or molecules contained in a vapor deposit on a surface and build up to form a film.

特許公表２００５－５０３０００
WO02065517より引用