成膜する

また、図１Ｂと１Ｃは、化学気相成長法でシランを使用することによって、基板１００にシリコンフィルムを成膜した結果を示す模式的断面図である。

Figures 1B and 1C schematically illustrate the results obtained by using silane in a chemical vapor deposition process to deposit a silicon film onto the substrate100.

特許公表２００５－５０３０００
WO02065517より引用