シリコンを含むフィルム

本発明は、一般的にはシリコンを含む材料の成膜に関し、さらに詳細には混合基板上へのシリコンを含むフィルムの化学気相成長に関する。

This application relates generally to the deposition of silicon-containing materials, and more particularly to chemical vapor deposition of silicon-containing films over mixed substrates.

特許公表２００５－５０３０００
WO02065517より引用