化合物を全角、書名を半角にした例

例えば、シリコンテトラクロライド（ＳｉＣｌ4）、シラン（ＳｉＨ4）及びジクロロシラン（ＳｉＨ2Ｃｌ2）は、半導体製造業界では、Ｓｉ含有フィルム成膜用のシリコン源として、もっとも広く使用されている（参照：Peter Van Zant, "Microchip Fabrication," 4th Ed., McGraw Hill, New York, (2000), pp.380-382）。

For example, silicon tetrachloride(SiC14), silane (SiH4), anddichlorosilane (SiHzCk) are the most widely used silicon sources in the semiconductor manufacturing industry for depositing Sicontaining films, see Peter Van Zant,"MicrochipFabrication,"4th Ed., McGraw Hill, New York, (2000), p 380-382.

特許公表２００５－５０３０００
WO02065517より引用