定型文書 #19

本発明が属する技術分野の技術者であれば、ＬＯＣＯＳ法やトレンチ分離法を含む、上記のような基板３００を形成するためのいくつかの方法を十分に理解しているはずである（参照：Peter Van Zant, "Microchip Fabrication," 4th Ed., McGraw Hill, New York, (2000), pp.522-526）。

Those skilled in the art will appreciate a variety of methods for making such a structure 300, including local oxidation of silicon (LOCOS) and trench isolation processes, see Peter Van Zant,"MicrochipFabrication,"4th Ed., McGraw Hill, New York, (2000), pp. 522-526.

特許公表２００５－５０３０００
WO02065517より引用