be patterned

この基板にパターニングを施し、酸化物コーティングの約２０％を除去して、下層のＳｉ（１００）ウェーハを露出させた。この処理により、単結晶面と非晶質の酸化物面を有する混合基板を作製した。

The substrate was patterned to remove about 20% of the oxide coating to expose the underlying Si(100) wafer, thus creating a mixed substrate having a single-crystal surface and an amorphous oxide surface.

特許公表２００５－５０３０００
WO02065517より引用