due to #02

一般に、酸化物の表面では核生成が起こりにくいために、長時間の成膜によって、最終的に、連続した、ほぼ均一な厚さになる。この長時間の処理は、活性領域のウインドウ（単結晶面）５２０上への過剰の膜形成という結果になる。

Due to generally poornucleation over the oxide surfaces, extended deposition eventually results in a continuous and acceptably uniform thickness, which extended process results in excessive deposition over the active area window 520.

特許公表２００５－５０３０００
WO02065517より引用