主語＋カンマ＋補足の説明文＋カンマ＋having

連続した、表面が滑らかで、高い均一性を有する全厚さ１，０００Åの非晶質のＳｉＧｅフィルム（部分的にボロンがドープされている）が、第１ステップで成膜された非晶質シリコン層上に形成された。

A continuous, smooth, highly uniform amorphous silicon germanium film, partially doped with boron, having a total thickness of 1,000A was deposited on the amorphous silicon layer deposited in the first step.

特許公表２００５－５０３０００
WO02065517より引用