により (主語の訳し方)
エッチング、乾燥、洗浄及びベーキングというステップにより、エピタキシャルフィルムを成長させるために、単結晶面を活性化させた。
The steps of etching, drying, rinsing, and baking rendered the single crystal surface active for epitaxial film growth.
特許公表2005-503000
WO02065517より引用
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エッチング、乾燥、洗浄及びベーキングというステップにより、エピタキシャルフィルムを成長させるために、単結晶面を活性化させた。
The steps of etching, drying, rinsing, and baking rendered the single crystal surface active for epitaxial film growth.
特許公表2005-503000
WO02065517より引用
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