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2008年7月17日 (木)

「一般に」と「より詳細には」

本発明は、一般に、バイポーラ・トランジスタに関し、より詳細には、BiCMOS(バイポーラ・相補型金属酸化膜半導体)トランジスタ集積回路中に突出外因性ベースを備えるバイポーラ・トランジスタを形成するプロセスに関する。

The present invention relates generally to bipolar transistors and, more particularly, to a process for forming a bipolar transistor with a raised extrinsic base in an integrated bipolar and complementary metal-oxide-semiconductor (BiCMOS) transistor circuit.

特許公表2004-532534
WO03001603より引用

★「一般に」と「より詳細には」は、定型文中の定型文である。

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