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2009年1月 2日 (金)

Although not shown、toward the upper regions of、distally removed from

図には示さないが、第2の層40の上層域に向かって、即ち第1のエミッタ層36から離れるにつれて、温度は低くされ、これによって第2のエミッタ層40の一部が多結晶とされてもよい。また、これによってHBT20の高温に曝される時間が短縮され、ベース-エミッタ間における相互拡散の危険性を更に低減せしめられる。

Although not shown, toward the upper regions of second layer 40, distally removed from first emitter layer 36, temperature may be lowered so that this portion of second emitter layer 40 becomes polycrystalline. Among other benefits, this lessens the time HBT 20 spends at elevated temperatures to further lessen risks of interdiffusion at the base-emitter junction.

特許公表2001-518716
WO9917372より引用

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