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2009年1月 4日 (日)

金属化工程、全面にわたって、金属化層XXを塗布する

図9は、図8で示された第8工程に続いて行われる第9工程を表わす。図9は金属化工程を示す。当該過程においては、HBT20の全面にわたって金属化層46を塗布するための従来の技術が使用される。

FIG. 9 illustrates a ninth processing stage that follows the eighth processing stage depicted in FIG. 8. FIG. 9 shows a metallization process which uses conventional techniques to deposit a metallized layer 46 over the entire surface of HBT 20.

特許公表2001-518716
WO9917372より引用

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