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2009年5月15日 (金)

[Claims] 精度を高めた測定回路

【特許請求の範囲】
【請求項1】
測定回路であって、
第1入力と第2入力とを有する差動増幅器と、
前記差動増幅器の第1入力に結合され、ペデスタル信号を発生するペデスタル源と、
測定すべき入力信号を受け取る第1入力と、フィードバック信号を受け取る第2入力と、前記差動増幅器の第2入力に結合された出力とを有するフィードバック増幅器と、
前記差動増幅器の第1および第2入力間に結合され、前記フィードバック増幅器にフィードバック信号を供給する減衰器と、
を備えた測定回路。
【請求項2】
請求項1記載の測定回路において、前記フィードバック増幅器の第1入力における入力信号は、差動入力信号のHI側であり、前記測定回路は、更に、
前記ペデスタル源に直列に結合され、前記差動入力信号のLO側を前記ペデスタル信号に加算する加算回路を備えている、
測定回路。
【請求項3】
請求項1記載の測定回路において、前記減衰器は、
前記フィードバック増幅器の出力に結合された第1ノードと、前記フィードバック増幅器の第2入力に結合された第2ノードとを有する第1インピーダンスと、
前記フィードバック増幅器の第2入力に結合された第1ノードと、前記差動増幅器の第1入力に結合された第2入力とを有する第2インピーダンスと、
を備えている測定回路。
【請求項4】
請求項1記載の測定回路において、前記第1および第2インピーダンスは、各々ある抵抗値を有する抵抗であり、前記第1インピーダンスの抵抗値は、前記第2インピーダンスの抵抗値よりも少なくとも100倍大きい、測定回路。
【請求項5】
請求項4記載の測定回路において、前記差動増幅器は、100未満の差動利得を有する測定回路。
【請求項6】
請求項1記載の測定回路において、前記ペデスタル源はディジタル-アナログ変換器を備えている、測定回路。
【請求項7】
請求項6記載の測定回路において、前記ペデスタル源は前記測定回路の予測入力電圧に等しい値にプログラム可能である、測定回路。
【請求項8】
請求項1記載の測定回路において、前記フィードバック増幅器は、前記フィードバック回路の所望の動特性を確立するための補償増幅器を備えている、測定回路。
【請求項9】
請求項8記載の測定回路において、前記補償増幅器は積分器を備えている、測定回路。
【請求項10】
請求項1記載の測定回路において、前記フィードバック増幅器は、
前記測定すべき入力信号と前記フィードバック信号とを受け取る入力段と、
前記入力段の出力に結合された入力と、前記差動増幅器の第2入力に結合された出力とを有し、DCにおいて高い利得を与える積分段と、
を備えている測定回路。
【請求項11】
請求項10記載の測定回路において、前記フィードバック増幅器は、更に、前記入力段の出力と前記反転段の入力との間に直列に結合されている反転段を備えている、測定回路。
【請求項12】
請求項11記載の測定回路において、前記入力段、反転段、および積分段の各々は、少なくとも1つのオペアンプを備えている、測定回路。
【請求項13】
電子デバイスを検査する自動検査システムであって、
検査プログラムを実行するコンピュータと、
前記コンピュータの制御下で動作可能な複数の刺激回路と、
前記コンピュータの制御下で動作可能な複数の測定回路であって、各測定回路が、
第1入力と第2入力とを有する差動増幅器と、
前記差動増幅器の第1入力に結合され、ペデスタル信号を発生するペデスタル源と、
測定すべき入力信号を受け取る第1入力と、フィードバック信号を受け取る第2入力と、前記差動増幅器の第2入力に結合された出力とを有するフィードバック増幅器と、
前記差動増幅器の第1および第2入力にそれぞれ結合された第1および第2ノードと、前記フィードバック増幅器に前記フィードバック信号を供給する第3ノードとを有する減衰器と、
を含む自動検査システム。
【請求項14】
請求項13記載の自動検査システムにおいて、前記フィードバック増幅器の第1入力における入力信号は、差動入力信号のHI側であり、前記測定回路は、更に、
前記ペデスタル源と直列に結合され、前記差動入力信号のLO側を前記ペデスタル信号に加算する加算回路を備えている、
自動検査システム。
【請求項15】
請求項13記載の自動検査システムにおいて、前記減衰器は、
前記フィードバック増幅器の出力に結合された第1ノードと、前記フィードバック増幅器の第2入力に結合された第2ノードとを有する第1インピーダンスと、
前記フィードバック増幅器の第2入力に結合された第1ノードと、前記差動増幅器の第1入力に結合された第2入力とを有する第2インピーダンスと、
を備えている自動検査システム。
【請求項16】
請求項13記載の自動検査システムにおいて、前記第1および第2インピーダンスは、各々ある抵抗値を有する抵抗であり、前記第1インピーダンスの抵抗値は、前記第2インピーダンスの抵抗値よりも少なくとも100倍大きい、自動検査システム。
【請求項17】
請求項16記載の自動検査システムにおいて、前記差動増幅器は100未満の差動利得を有する、自動検査システム。
【請求項18】
電子回路の製造方法であって、
前記電子回路上において、複数の製造工程を実行するステップと、
前記電子回路を検査して、前記複数の製造工程を検証するステップと、
から成り、
前記検査するステップは、刺激を前記電子回路に印加し、前記電子回路からの応答を測定するステップを含み、
前記応答を測定するステップは、測定回路を用い、該測定回路が、
第1入力と第2入力とを有する差動増幅器と、
前記差動増幅器の第1入力に結合され、ペデスタル信号を発生するペデスタル源と、
入力信号を受け取る第1入力と、フィードバック信号を受け取る第2入力と、前記差動増幅器の第2入力に結合された出力とを有するフィードバック増幅器と、
前記差動増幅器の第1および第2入力間に結合され、前記フィードバック増幅器にフィードバック信号を供給する減衰器と、
を含む、方法。
【請求項19】
請求項18記載の方法において、応答を測定する前記ステップは前記測定回路から値を読み取るステップを含む、方法。
【請求項20】
請求項19記載の方法であって、更に、前記読み取った値を検査限度値と比較し、前記電子回路がその検査に合格したかまたは不合格かを判定するステップを含む、方法。
【請求項21】
請求項18記載の方法において、前記フィードバック増幅器の第1入力における入力信号は、差動入力信号のHI側であり、前記測定回路は、更に、
前記ペデスタル源と直列に結合され、前記差動入力信号のLO側を前記ペデスタル信号に加算する加算回路を備えている、方法。
【請求項22】
請求項18記載の方法において、前記減衰器は、
前記フィードバック増幅器の出力に結合された第1ノードと、前記フィードバック増幅器の第2入力に結合された第2ノードとを有する第1インピーダンスと、
前記フィードバック増幅器の第2入力に結合された第1ノードと、前記差動増幅器の第1入力に結合された第2入力とを有する第2インピーダンスと、
を備えている、方法。
【請求項23】
請求項18記載の自動検査システムにおいて、前記第1および第2インピーダンスは、各々ある抵抗値を有する抵抗であり、前記第1インピーダンスの抵抗値は、前記第2インピーダンスの抵抗値よりも少なくとも100倍大きい、自動検査システム。
【請求項24】
請求項23記載の自動検査システムにおいて、前記差動増幅器は10未満の差動利得を有する、自動検査システム。

What is claimed is: 1. A measurement circuit, comprising : a differential amplifier having a first input and a second input; a pedestal source coupled to the first input of the differential amplifier for generating a pedestal signal; a feedback amplifier having a first input for receiving an input signal to be measured, a second input for receiving a feedback signal, and an output coupled to the second input of the differential amplifier; and an attenuator coupled between the first and second inputs of the differential amplifier and providing the feedback signal for the feedback amplifier.

2. A measurement circuit as recited in claim 1, wherein the input signal at the first input of the feedback amplifier is a HI side of a differential input signal, the measurement circuit further comprising: an adding circuit coupled in series with the pedestal source for adding a LO side of the differential input signal to the pedestal signal.

3. A measurement circuit as recited in claim 1, wherein the attenuator comprises : a first impedance having a first node coupled to the output of the feedback amplifier and a second node coupled to the second input of the feedback amplifier; and a second impedance having a first node coupled to the second input of the feedback amplifier and a second input coupled to the first input of the differential amplifier.

4. A measurement circuit as recited in claim 1, wherein the first and second impedances are resistors each having a resistance, and the resistance of the first impedance is at least 100 times greater than the resistance of the second impedance.

5. A measurement circuit as recited in claim 4, wherein the differential amplifier has a differential gain of less than 100.

6. A measurement circuit as recited in claim 1, wherein the pedestal source comprises a digital-to-analog converter.

7. A measurement circuit as recited in claim 6, wherein the pedestal source is programmable to a value that equals an expected input voltage of the measurement circuit.

8. A measurement circuit as recited in claim 1, wherein the feedback amplifier comprises a compensation amplifier for establishing desired dynamic characteristics of the feedback circuit.

9. A measurement circuit as recited in claim 8, wherein the compensation amplifier comprises an integrator.

10. A measurement circuit as recited in claim 1, wherein the feedback amplifier comprises: an input stage for receiving the input signal to be measured and the feedback signal; and an integrator stage, having an input coupled to the output of the input stage and an output coupled to the second input of the differential amplifier, for providing high gain at DC.

11. A measurement circuit as recited in claim 10, wherein the feedback amplifier further comprises an inverting stage coupled in series between the output of the input stage and the input of the inverter stage.

12. A measurement circuit as recited in claim 11, wherein each of the input stage, inverting stage, and integrator stage comprises at least one op amp.

13. An automatic test system for testing electronic devices, comprising : a computer for executing a test program, a plurality of stimulus circuits operable under control of the computer ; and a plurality of measurement circuits operable under control of the computer, each measurement circuit including- a differential amplifier having a first input and a second input; a pedestal source coupled to the first input of the differential amplifier for generating a pedestal signal; a feedback amplifier having a first input for receiving an input signal to be measured, a second input for receiving a feedback signal, and an output coupled to the second input of the differential amplifier; and an attenuator having first and second nodes coupled respectively to the first and second inputs of the differential amplifier, and a third node for providing the feedback signal for the feedback amplifier.

14. An automatic test system as recited in claim 13, wherein the input signal at the first input of the feedback amplifier is a HI side of a differential input signal, the measurement circuit further comprising: an adding circuit coupled in series with the pedestal source for adding a LO side of the differential input signal to the pedestal signal.

15. An automatic test system as recited in claim 13, wherein the attenuator comprises: a first impedance having a first node coupled to the output of the feedback amplifier and a second node coupled to the second input of the feedback amplifier; and a second impedance having a first node coupled to the second input of the feedback amplifier and a second input coupled to the first input of the differential amplifier.

16. An automatic test system as recited in claim 13, wherein the first and second impedances are resistors each having a resistance, and the resistance of the first impedance is at least 100 times greater than the resistance of the second impedance.

17. An automatic test system as recited in claim 16, wherein the differential amplifier has a differential gain of less than 100.

18. A method of manufacturing an electronic circuit, comprising : performing a plurality of manufacturing steps on the electronic circuit ; and testing the electronic circuit to verify the plurality of manufacturing steps, wherein the step of testing includes applying stimuli to the electronic circuit and. measuring responses from the electronic circuit, and wherein the step of measuring responses employs a measurement circuit including- a differential amplifier having a first input and a second input; a pedestal source coupled to the first input of the differential amplifier for generating a pedestal signal; a feedback amplifier having a first input for receiving an input signal, a second input for receiving a feedback signal, and an output coupled to the second input of the differential amplifier; and an attenuator coupled between the first and second inputs of the differential amplifier and providing the feedback signal for the feedback amplifier.

19. A method as recited in claim 18, wherein the step of measuring responses includes reading values from the measurement circuit.

20. A method as recited in claim 19, wherein further comprising comparing the values read with test limits to determine whether the electronic circuit passes or fails its tests.

21. A method as recited in claim 18, wherein the input signal at the first input of the feedback amplifier is a HI side of a differential input signal, the measurement circuit further comprising : an adding circuit coupled in series with the pedestal-source for adding a LO side of the differential input signal to-the pedestal signal.

22. A method as recited in claim 18, wherein the attenuator comprises: a first impedance having a first node coupled to the output of the feedback amplifier and a second node coupled to the second input of the feedback amplifier; and a second impedance having a first node coupled to the second input of the feedback amplifier and a second input coupled to the first input of the differential amplifier.

23. An automatic test system as recited in claim 18, wherein the first and second impedances are resistors each having a resistance, and the resistance of the first impedance is at least 100 times greater than the resistance of the second impedance.

24. An automatic test system as recited in claim 23, wherein the differential amplifier has a differential gain of less than 10.

「特表2006-525513およびWO2004097436より引用」

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精度を高めた測定回路

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、一般的には、自動検査機器に用いられる測定回路に関し、更に特定すれば、高精度のペデスタル源を用いた測定装置に関する。
【背景技術】
【0002】
自動検査システムの基本的な要件は、被検査デバイスからの電子信号を精度高く測定できることである。この目的のために、種々の回路構成(トポロジー)が考案されている。
図1は、高精度ペデスタル源112を用いた測定回路のハイレベルの例である。ペデスタル源は、通常プログラム可能であり、これを調節して、予測される測定回路の差動入力電圧HI-LOにほぼ等しい高精度電圧VPEDを生成する。加算回路114が、測定回路のロー(低)側(LO)をVPEDに加算し、差動増幅器110が、測定回路のハイ(高)側(HI)と加算器114の出力(LO+VPED)との差を測定する。次いで、差動増幅器の出力は、アナログ-ディジタル変換器116によって、ディジタル信号に変換されるのが慣例である。
【0003】
測定回路は、値G*{(HI-LO)-VPED]を読み取る。ここで、Gは差動増幅器110の利得である。この読み取り値は、実際の入力電圧HI-LOと予測入力電圧VPEDとの間の差即ち「残余」に対応する。この読み取り値は、VPEDに対応する数値を読み取り値に加算する(そして利得を補正する)ことによって、入力電圧HI-LOの測定値に変換することができる。したがって、例えば、測定回路が、G=100およびVPED=1のときに2.4ボルトを読み取るべき場合、これらの条件によって生ずる実際の入力電圧は、1ボルト+2.4ボルト/100=1.024ボルトとなる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
測定回路は、VPEDを正確に特徴付けることができ、しかも非常に安定にすることができるので、非常に正確に作ることができる。しかしながら、測定回路は、その性能に悪影響を及ぼし得る誤差を有することが認められている。例えば、差動増幅器110におけるオフセット電圧誤差は、測定回路における誤差を誘発する。残余は一般には小さな電圧であるので、差動増幅器110を高利得で動作させ、残余が容易に測定できる程に確実に大きくすることができるようにすることが望ましい。しかしながら、周知のように、差動増幅器のオフセット誤差は、利得が増大するに伴って、比例的に大きくなる。
【0005】
ペデスタル源を用いた測定回路が、差動増幅器における誤差による悪影響を受けることなく、大きな残余信号を生成することができれば、望ましいであろう。
前述の背景を念頭に入れて、本発明の目的は、ペデスタル源を用いた測定回路の誤差を減少させることである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
前述の目的、ならびにその他の目的および利点を達成するために、測定回路は、フィードバック増幅器と、差動増幅器とを含み、各々、第1入力と、第2入力と、出力とを有する。フィードバック増幅器の第1入力は入力信号を受け取る。差動増幅器の第1入力は、ペデスタル源に結合されており、差動増幅器の第2入力は、フィードバック増幅器の出力に結合されている。減衰器が差動増幅器の第1および第2入力の間に結合されており、フィードバック信号を供給する。フィードバック信号は、フィードバック回路の第2入力に搬送される。
【0007】
フィードバック増幅器の動作は、効果的に残差信号を昇圧し、したがって、差動増幅器が、大幅に少ない利得で動作可能とすることにより、回路全体の誤差を低減する。
本発明の更に別の目的、利点、および新規な特徴は、以下に続く説明および図面の検討から明白になるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【0008】
図2は、本発明による測定回路の代表的実施形態を示す。図2の測定回路のある部分は、図1のそれらと同様である。例えば、ペデスタル源212は、ペデスタル源112と同様であり、加算器214は加算器114と同様であり、ADC216はADC116と同様である。加えて、図2の差動増幅器210は、かなり低い利得で動作することが好ましいことを除いて、図1の差動増幅器110と同様である。
【0009】
また、図2の測定回路は、「残余」、即ち、入力電圧、ここではHI-LOとペデスタル電圧VPEDとの差を示す信号を生成する。しかしながら、図2において生成される残余は、図1において生成される残余よりもかなり大きい。図1では、差動増幅器110は、残余を増幅するタスク全体を処理して、ADC116が容易に測定できる、十分に大きな信号を供給する。しかしながら、図2では、差動増幅器110およびフィードバック回路がこのタスクを分担する。好ましくは、フィードバック回路が残余を増幅するための利得の殆どまたは全てを与え、差動増幅器は比較的少ない利得を与える。
【0010】
フィードバック回路は、フィードバック増幅器220と、減衰器222とを含む。減衰器222は、フィードバック信号をフィードバック増幅器220に供給する。減衰器222の公称減衰度(nominal attenuation)は1/Gであり、フィードバック増幅器220にフィードバックされる電圧が、
[数1]
V_+(V+-V_)/G
となることを意味する。
【0011】
ここで、V+およびV_は、それぞれ、差動増幅器210の非反転入力および反転入力である。入力電圧のHI側は、フィードバック増幅器220の入力に印加される。また、入力電圧のLO側は、ペデスタル電圧に加算され、差動増幅器210の反転入力に印加される。フィードバック増幅器および減衰器の閉ループ動作によって、差動増幅器210の非反転(+)入力は、以下の式に等しいレベルに強制される。
[数2]
HI+((HI-(LO+VPED))*(G-1)
差動増幅器210の利得が1であると仮定すると、差動増幅器の出力は、次のようになる。
[数3]
VDIFF=V+-V_=HI+((HI-LO-VPED))*(G-1)-(LO+V PED)
=G*((HI-LO)-VPED)
=G*(残余)
この値は、正確に所望量であり、1のみの利得を有する差動増幅器によって得られる。この値を測定した後、実際の入力電圧HI-LOを、VPED+VDIFF/Gとして計算することができる。
【0012】
他の全てのものは等しいので、図2の回路における誤差は、図1の回路におけるそれらよりも格段に小さい。差動増幅器VDIFFの出力をGで除算して入力電圧を計算するので、差動増幅器のオフセット電圧の回路全体の性能に対する影響は無視することができる。フィードバック増幅器220は、多少のオフセット誤差を付加するが、フィードバック増幅器に低オフセットの演算増幅器を選択することによって、またはフィードバック増幅器のオフセットを0の近くまで削減することによって、無視できるようにすることができる。
【0013】
このように、図2の測定回路は、オフセット誤差源を、差動増幅器210からフィードバック増幅器220に事実上移転させる。これは、当初は大幅な改良とは思えないかもしれない。しかしながら、多くの低オフセット演算増幅器が市販されている一方で、殆どの差動増幅器は比較的大きなオフセット誤差を有する。したがって、図2の測定回路は、容易に入手可能な市販の構成部品を用いて、精度の向上を図ることができる。
【0014】
また、図2の測定回路は、図1の構成よりも共通(同相)モード誤差が少ないことも発見した。差動増幅器の共通モード誤差は、利得と共に改善する傾向があるが、図2の回路における程は改善しない。例えば、利得1000で動作する従来の差動増幅器の共通モード除去比率(RMRR:common mode rejection ratio)は、同じ利得で動作する図2の測定回路のCMRRよりも約35dB低い。
【0015】
図3は、図2の測定回路の更に詳細な実施形態を示す。この実施形態例では、フィードバック増幅器は、3つの異なる段、即ち、入力段322と、反転(インバータ)段324と、積分段326とを含むことがわかる。これら3つの段の各々は、好ましくは、別個の演算増幅器(オペアンプ)を用いて実施する。入力段322に用いられるオペアンプは、低いオフセット電圧と、高い固有共通モード除去比率を有することが好ましい。積分段326に用いられるオペアンプは、入力抵抗344、入力コンデンサ346、およびフィードバック・コンデンサ348を有し、これらが全体として主にフィードバック増幅器の開ループ利得および周波数応答に寄与する。反転段324は、適正なフィードバック極性を確立し開ループ利得を更に高めるために望まれる反転を達成するための入力抵抗340およびフィードバック抵抗342を有する。
【0016】
図3の減衰器は、1対の抵抗328および330で実施することが好ましい。これらの抵抗の比が、フィードバック増幅器の利得(前述の式の「G」)を設定し、抵抗328の抵抗330に対する比率はG-1に等しい。
【0017】
積分段326は、測定回路の精度を高める。周知のように、積分器はDCにおいて非常に高い利得を有する。したがって、入力段322の出力は、フィードバック増幅器全体としてのいずれの所望の出力電圧を確立するためにも、少量だけ動けばよい。これが重要なのは、入力段322が有限の開ループ利得を有するからである。即ち、その非反転入力と反転入力との間における電圧変化を受けることによってのみ、その出力電圧を変化させることができるからである。閉ループ動作の間、出力電圧が変化すると、回路には事実上出力に依存するオフセット誤差が生じ、これが測定結果に反映される。積分段326は、入力段322の出力の動きを確実に微量に止めることによって、この誤差を事実上排除する。
【0018】
図4は、図2および図3の測定回路を用いることができる、典型的な検査環境を示す。この検査環境は、検査プログラム(図示せず)を実行する検査コンピュータ410を有する自動テスト(検査)システム400を含む。検査コンピュータは、刺激回路414および測定回路416のような計器を制御し、被検査デバイス、即ち、「DUT」412を動作させる。測定回路は、ここに開示し図2および図3に示す測定回路を含む。検査プログラムの制御の下で、刺激回路414は所定の刺激をDUT412に印加し、測定回路416はDUT412からの応答として、電圧および/または電流を測定する。検査プログラムは、測定電圧および/または電流を、予測値と比較する。読み取り値が予測値の許容範囲内にある場合、検査プログラムは合格とする。それ以外の場合、検査プログラムは不合格とする。
【0019】
図4の検査環境は、集積回路のような電子回路を製作する製造環境には有用である。製造コストを節約するために、封入する前のような、製造プロセスにおける初期にデバイスを検査する。検査プログラムに合格したデバイスは、後続の製造工程に進み、一方不合格となったデバイスは破棄してもよい。このレベルにおいて検査を行うと、製造業者が、破棄することになる欠陥デバイスに対して、費用のかかる製作工程を実行しないで済む。加えて、検査プログラムは、デバイスの性能に応じて、これらを格付けするために用いることもできる。より高い規格を満たすデバイスは、別にしておき、これらよりも低い規格で動作するデバイスよりも高い価格で販売することもできる。
代替案
以上、一実施形態について説明したが、多数の代替実施形態または変形も可能である。図2および図3に示した測定回路は、HI入力およびLO入力双方を有する差動入力電圧を受け取るように構成されている。代わりに、LO入力を接地し、入力信号を事実上シングル・エンドにすることもできる。この場合、加算器214/213を省略することができ、ペデスタル源を直接差動増幅器210/310に結合することができる。
【0020】
名目上、入力信号のHI側はLO側よりも正側にあるが、測定回路の設計においては必ずしもそうでなくてもよい。LO側がHI側よりも正側の電圧を搬送することも、その逆も可能である。
【0021】
図2および図3に示した測定回路は入力信号を電圧(差動またはシングル・エンド)として受け取るが、この回路は、必ずしも被検査デバイスからの電圧のみを測定するだけでなくてもよい。検査回路は、例えば、HIおよびLO間に分路抵抗を接続し、分路間を流れる電流によって誘起される電圧を測定することによって、電流を測定するために用いることもできる。
【0022】
以上、好適な実施形態を参照しながら、本発明を特定的に示し説明したが、本発明の精神およびその範囲から逸脱することなく、その形態および詳細において種々の変更が可能であることは、当業者には理解されれであろう。

TITLE OF THE INVENTION MEASUREMENT CIRCUIT WITH IMPROVED ACCURACY

CROSS-REFERENCES TO RELATED APPLICATIONS: Not Applicable.

STATEMENT REGARDING FEDERALLY SPONSORED RESEARCH OR DEVELOPMENT: Not Applicable.

Reference to Microfiche Appendix: Not Applicable BACKGROUND OF THE INVENTION FIELD OF THE INVENTION This invention relates generally to measurement circuits used in automatic test equipment, and, more particularly, to measurement circuits employing accurate pedestal sources.

DESCRIPTION OF RELATED ART

A fundamental requirement of automatic test systems is the ability to measure accurately electronic signals from devices under test. A variety of circuit topologies have been devised for this purpose.

Fig. 1 shows a high-level example of a measurement circuit that employs an accurate pedestal source 112. The pedestal source is generally programmable and is adjusted to produce an accurate voltage VPED approximately equal to an expected differential input voltage HI-LO of the measurement circuit. A summing circuit 114 adds a low side (LO) of the measurement circuit to VPED, and a differential amplifier 110 measures the difference between a high side of the measurement circuit (HI) and the output of the summer 114 (LO + VPED). The output of the differential amplifier is then customarily converted to a digital signal by an analog-to-digital converter 116.

The measurement circuit reads the value, G * [(HI-LO)-VPED], where G is the gain of the differential amplifier 110. This reading corresponds to the difference, or "residue, "between the actual input voltage HI-LO and the programmed expected input voltage, VPED. This reading can be converted to a measurement of input voltage, HI- LO, by and adding a numeric value that corresponds to VPED to the reading (and correcting for gain). Thus, for example, if the measurement circuit were to read 2.4 volts with G = 100 and VPED = 1 volt, the actual input voltage implied by these conditions would be 1 volt + 2.4 volts/100 = 1.024 volts.

The measurement circuit can be made to be very precise because VPED can be precisely characterized and can be very stable. We have recognized, however, that the measurement circuit has errors that may adversely affect its performance. For example, offset voltage errors in the differential amplifier 110 induces errors in the measurement circuit. Because the residue is generally a small voltage, it is desirable to operate the differential amplifier 110 at high gain, to assure that the residue is large enough to be readily measured. As is known, however, offset errors of differential amplifiers grow proportionally larger as gain is increased.

It would be desirable for measurement circuits employing pedestal sources to produce large residue signals without being so adversely affected by errors in the differential amplifier.

BRIEF SUMMARY OF THE INVENTION With the foregoing background in mind, it is an object of the invention for a measurement circuit employing a pedestal source to have reduced errors.

To achieve the foregoing object, as well as other objectives and advantages, a measurement circuit includes a feedback amplifier and a differential amplifier, each having a first input, a second input, and an output. The first input of the feedback amplifier receives an input signal. The first input of the differential amplifier is coupled to a pedestal source, and the second input of the differential amplifier is coupled to the output of the feedback amplifier. An attenuator is coupled between the first and second inputs of the differential amplifier and provides a feedback signal, which is conveyed to the second input of the feedback circuit.

The operation of the feedback amplifier effectively boosts the residue signal and therefore allows the differential amplifier to be operated at substantially reduced gain, reducing overall circuit errors.

BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Additional objects, advantages, and novel features of the invention will become apparent from a consideration of the ensuing description and drawings, in which- Fig. 1 is block diagram of a measurement circuit employing a pedestal source according to the prior art; Fig. 2 is a block diagram of an improved measurement circuit employing a pedestal source according to the invention; Fig. 3 is a simplified schematic of the measurement circuit of Fig. 2; and Fig. 4 is a high-level block diagram of a tester that includes measurement circuits according to the invention.

DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT Fig. 2 shows an illustrative embodiment of a measurement circuit according to the invention. Certain portions of the measurement circuit of Fig. 2 are similar to those of Fig. 1. For instance, pedestal source 212 is similar to pedestal source 112, summer 214 is similar to summer 114, and ADC 216 is similar to ADC 116. In addition, differential amplifier 210 of Fig. 2 is similar to differential amplifier 110 of Fig. 1, except that it is preferably operated at substantially lower gain.

The measurement circuit of Fig. 2 also produces a"residue, "i. e. , a signal indicative of the difference between the input voltage, here HI-LO, and the pedestal voltage, VPED. However, the residue produced in Fig. 2 is substantially larger than the residue produced in Fig. 1. In Fig. 1, the differential amplifier 110 handles the entire task of amplifying the residue to provide a large enough signal that can readily be measured by the ADC 116. In Fig. 2, however, the differential amplifier 110 and a feedback circuit share this task. Preferably, the feedback circuit provides most or all of the gain for amplifying the residue, and the differential amplifier provides relatively little gain.

The feedback circuit includes a feedback amplifier 220 and an attenuator 222.

The attenuator 222 provides a feedback signal to the feedback amplifier 220. The attenuator 222 has a nominal attenuation of 1/G, which means that the voltage fed back to the feedback amplifier 220 is- V + (V+-V/G, where V+ and V are the non-inverting and inverting inputs of the differential amplifier 210, respectively. The HI side of the input voltage is applied to an input of the feedback amplifier 220. Also, the LO side of the input voltage is added to the pedestal voltage and applied to the inverting input of the differential amplifier 210. By closed-loop operation of the feedback amplifier and attenuator, the non-inverting (+) input of the differential amplifier 210 is forced to a level that equals- HI + ((ho- (LO + VPED)) * (G-1).

Assuming that the differential amplifier 210 has a gain of one, the output of the differential amplifier is thus VDIFF = V+-V = HI + ((HILOVPED)) * (G1) (LO + VPED) = G * ((HI-LO)-VPED) = G * (Residue) This value is exactly the desired quantity, and it is accomplished with the differential amplifier 210 having a gain of only one. After measuring this value, one can compute the actual input voltage, HI-LO, as VPED + VDIFF/G All other things being equal, the errors in the circuit of Fig. 2 are much lower than those in the circuit of Fig. 1. Because the output of the differential amplifier VDIFF is divided by G to compute the input voltage, the effect of the differential amplifier's offset voltage on overall circuit performance is negligible. The feedback amplifier 220 adds some offset error, but it can be made negligible by selecting a low offset operational amplifier for the feedback amplifier or by trimming the offset of the feedback amplifier to near zero.

The measurement circuit of Fig. 2 thus effectively transfers the source of offset error from the differential amplifier 210 to the feedback amplifier 220. This may not appear at first to be a substantial improvement. However, many low offset op amps are commercially available, whereas most differential amplifiers have relatively large offset error. Thus, the measurement circuit of Fig. 2 allows better accuracy to be achieved with readily available, commercial components.

We have also found that the measurement circuit of Fig. 2 has lower common mode errors than the topology of Fig. 1. Although common mode errors of differential amplifiers tend to improve with gain, they do not improve as much as they do in the circuit of Fig. 2. For example, the common mode rejection ratio (CMRR) of a conventional differential amplifier operating at a gain of 1000 is are approximately 35 dB less than the CMRR of the measurement circuit of Fig. 2 operating at the same gain.

Fig. 3 shows a more detailed embodiment of the measurement circuit of Fig. 2. In this exemplary embodiment, the feedback amplifier is seen to include three different stages: an input stage 322, and inverter stage 324, and an integrator stage 326. Each of these three stages is preferably implemented with a separate operational amplifier (op amp). The op amp used for the input stage 322 preferably has a low offset voltage and a high inherent common mode rejection ratio. The op amp used for the integrator stage 326 has an input resistor 344, an input capacitor 346, and a feedback capacitor 348, which together dominantly contribute to the open loop gain and frequency response of the feedback amplifier. The inverter stage 324 has input and feedback resistors 340 and 342 for achieving the desired inversion for establishing the proper feedback polarity and providing additional open loop gain. Alternatively, the inverter stage can be omitted, provided that the inputs to the input stage 322 are reversed to maintain the proper sense of the feedback.

The attenuator of Fig. 3 is preferably implemented with a pair of resistors 328 and 330. The ratio of these resistors sets the gain of the feedback amplifier ("G"from the above equations), where the ratio of resistor 328 to resistor 330 equals G-1.

The integrator stage 326 improves the accuracy of the measurement circuit. As is known, integrators have extremely high gain at DC. Therefore, the output of the input stage 322 need only move by minute amounts to establish any desired output voltage of the feedback amplifier as a whole. This is important because the input stage 322 has <BR> <BR> finite open loop gain, i. e. , it can only change its output voltage by experiencing a change in voltage between its non-inverting and inverting inputs. During closed loop operation, changes in output voltage thus effectively cause the circuit to suffer from an output- dependent offset error, which is reflected in the measurement result. The integrator stage 326 virtually eliminates this error by ensuring that the output of the input stage 322 never move by more than minute amounts.

Fig. 4 shows a typical test environment in which the measurement circuit of Figs.

2 and 3 may be used. This test environment includes an automatic test system 400 having a test computer 410 for running a test program (not shown). The test computer controls instrumentation, such as stimulus circuits 414 and measurement circuits 416, for exercising a device under test, or"DUT"412. The measurement circuits include the measurement circuit disclosed herein and shown in Figs. 2 and 3. Under control of the test program, the stimulus circuits 414 apply predetermined stimuli to the DUT 412, and the measurement circuits 416 measure voltages and/or currents as responses from the DUT 412. The test program compares the measured voltages and/or currents to expected values. If the readings are within allowable tolerances of the expected values, the test program passes. Otherwise, the test program fails.

The test environment of Fig. 4 is useful in a manufacturing environment, where electronic circuits such as integrated circuits are fabricated. To save manufacturing costs, devices are tested early in the manufacturing process, such as before they are packaged.

Devices that pass the test program move on to subsequent manufacturing steps, whereas devices that fail may be discarded. Testing at this level prevents manufacturers from performing expensive fabrication steps on defective devices that are destined to be thrown away, and thus lowers overall manufacturing costs. In addition, the test program may be used to grade devices according to their performance. Devices meeting higher standards may be set aside and sold at higher prices than those performing to lower standards.

Alternatives Having described one embodiment, numerous alternative embodiments or variations can be made. The measurement circuit shown in Figs. 2 and 3 are configured to receive a differential input voltage having both a HI input and a LO input.

Alternatively, the LO input can be grounded, making the input signal effectively single- ended. In this case, the adder 214/314 can be omitted, and the pedestal source can be coupled directly to the differential amplifier 210/310.

Nominally, the HI side of the input signal is more positive than the LO side, but nothing in the design of the measuring circuit requires this. The LO side can convey more positive voltages than the HI side, or vice-versa.

Although the measurement circuit shown in Figs. 2 and 3 receives an input signal as a voltage (either differential or single-ended), nothing requires that the circuit be used for measuring only voltages from a device under test. The measurement circuit can also be used for measuring current, for example, by connecting a shunt resistor between HI and LO and measuring the voltage induced by current flowing across the shunt.

While the invention has been particularly shown and described with reference to the preferred embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes in form and detail may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention.

「特表2006-525513およびWO2004097436より引用」

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[Claims] 論理ゲートと部分整流段とを有する電子回路

【特許請求の範囲】
【請求項1】
電子回路であって、
論理ゲートを形成するように構成された第1のトランジスタと第2のトランジスタと、
ac電源波形を生成する交流(ac)電源と、
前記ac電源波形から部分整流ac電源波形を生成するとともに該部分整流ac電源波形を用いて前記論理ゲートに直接電力供給する部分整流段と、
を備え、前記部分整流ac電源波形がac成分と直流(dc)成分とを含み、前記dc成分が回路に電力供給するには不十分である電子回路。
【請求項2】
前記部分整流段が出力フィルタリングコンデンサを含む、請求項1に記載の回路。
【請求項3】
前記部分整流段が出力フィルタリングコンデンサを含まない、請求項1に記載の回路。
【請求項4】
前記部分整流段が、前記部分整流ac電源波形として一次直流(dc)電源信号を生成するには不十分な容量性フィルタリングを有する半波整流器を含む、請求項1に記載の回路。
【請求項5】
前記部分整流段がトランジスタベース整流器を含む、請求項1に記載の回路。
【請求項6】
前記部分整流段がダイオードベース整流器を含む、請求項1に記載の回路。
【請求項7】
前記論理ゲートがインバータ、NORゲート、およびNANDゲートのうちの1つを含む、請求項1に記載の回路。
【請求項8】
前記論理ゲートがアナログ増幅器を形成する、請求項1に記載の回路。
【請求項9】
表示素子をさらに備え、前記論理ゲートが該表示素子を駆動するように結合されている、請求項1に記載の回路。
【請求項10】
前記回路が一連のインバータ段を含み、該インバータ段がリング発振器の少なくとも一部を形成するように結合されている、請求項1に記載の回路。
【請求項11】
複数のデータ線と、
前記リング発振器により生成されたクロック信号に応じて前記データラインからデータを選択的に出力する複数の論理ゲートと、をさらに備える、請求項10に記載の回路。
【請求項12】
前記トランジスタのうちの少なくとも1つが有機薄膜トランジスタである、請求項1に記載の回路。
【請求項13】
前記トランジスタのうちの少なくとも1つの半導体材料がペンタセン、酸化亜鉛、ポリシリコンまたはアモルファスシリコンのうちの1つである、請求項1に記載の回路。
【請求項14】
前記第1のトランジスタがn型トランジスタであるとともに、前記第2のトランジスタがp型トランジスタである、請求項1に記載の回路。
【請求項15】
前記論理ゲートが無線識別(RFID)タグを形成する、請求項1に記載の回路。
【請求項16】
前記トランジスタのうちの少なくとも1つが無機薄膜トランジスタである、請求項1に記載の回路。
【請求項17】
少なくとも第1のトランジスタと第2のトランジスタとにより形成された論理ゲートに、ac電源から生成された部分整流交流(ac)電源波形を用いて直接電力供給するステップを有し、該部分整流ac電源波形がac成分と直流(dc)成分とを含み、該dc成分が前記論理ゲートに電力供給するには不十分である方法。
【請求項18】
前記論理ゲートに電力供給する適用前に、コンデンサで前記部分整流ac電源波形をフィルタリングするステップをさらに有する、請求項17に記載の方法。
【請求項19】
前記ac電源により生成されたac電源波形を部分整流段で部分整流して前記部分整流ac電源波形を生成するステップをさらに有する、請求項17に記載の方法。
【請求項20】
前記部分整流段が、前記部分整流ac電源波形として一次直流(dc)電源信号を生成するには不十分な容量性フィルタリングを有する半波形整流器を含む、請求項19に記載の方法。
【請求項21】
前記部分整流段がトランジスタベース整流器を含む、請求項19に記載の方法。
【請求項22】
前記部分整流段がダイオードベース整流器を含む、請求項21に記載の方法。
【請求項23】
前記トランジスタのうちの少なくとも1つが有機薄膜トランジスタである、請求項17に記載の方法。
【請求項24】
前記トランジスタのうちの少なくとも1つが無機薄膜トランジスタである、請求項17に記載の方法。
【請求項25】
無線識別(RFID)タグであって、
論理ゲートを形成するように構成された第1および第2のトランジスタと、
RFエネルギーを交流(ac)電源波形に変換する無線周波数(RF)変換器と、
前記ac電源波形から部分整流ac電源波形を生成するとともに該部分整流ac電源波形を用いて前記論理ゲートに直接電力供給する部分整流段であって、該部分整流ac電源波形がac成分と直流(dc)成分とを含み、該dc成分が前記論理ゲートに電力供給するには不十分である、部分整流段と、
情報を伝達する変調器と、
を備える無線識別(RFID)タグ。
【請求項26】
無線識別(RFID)システムであって、
a)請求項25に記載のRFIDタグと、
b)前記RF変換器による変換のためにRFエネルギーを前記RFIDタグに送信するとともに、前記変調器により伝達された情報を読み取るRFIDリーダと、
を備える無線識別(RFID)システム。

1. An electronic circuit comprising: a first transistor and a second transistor arranged to form a logic gate; an alternating current (ac) source to generate an ac power waveform; and a partial rectification stage to produce a partially rectified ac power waveform from the ac power waveform and directly power the logic gate with the partially rectified ac power waveform, wherein the partially rectified ac power waveform includes an ac component and a direct current (dc) component, and wherein the dc component is insufficient to power the circuit.

2. The circuit of claim 1, wherein the partial rectification stage includes an output filtering capacitor.

3. The circuit of claim 1, wherein the partial rectification stage does not include an output filtering capacitor.

4. The circuit of claim 1, wherein the partial rectification stage includes a half-wave rectifier with insufficient capacitive filtering to produce a primarily direct current (dc) power signal as the partially rectified ac power waveform.

5. The circuit of claim 1, wherein the partial rectification stage includes a transistor- based rectifier.

6. The circuit of claim 1, wherein the partial rectification stage includes a diode-based rectifier.

7. The circuit of claim 1, wherein the logic gate includes one of an inverter, a NOR gate, and a NAND gate.

8. The circuit of claim 1, wherein the logic gate forms an analog amplifier.

9. The circuit of claim 1, further comprising a display element, wherein the logic gate is coupled to drive the display element.

10. The circuit of claim 1, wherein the circuit includes a series of inverter stages, the inverter stages being coupled to form at least part of a ring oscillator.

11. The circuit of claim 10, further comprising: a plurality of data lines; and a plurality of logic gates that selectively output data from the data lines in response to a clock signal generated by the ring oscillator.

12. The circuit of claim 1, wherein at least one of the transistors is an organic thin film transistor.

13. The circuit of claim 1 wherein the semiconductor material of at least one of the transistors is one of pentacene, zinc oxide, polysilicon or amorphous silicon.

14. The circuit of claim 1, wherein the first transistor is an n-channel transistor and the second transistor is a p-channel transistor.

15. The circuit of claim 1, wherein the logic gate forms part of a radio frequency identification (RFID) tag.

16. The circuit of claim 1 wherein at least one of the transistors is an inorganic thin film transistor.

17. A method comprising directly powering a logic gate formed by at least a first transistor and a second transistor with a partially rectified alternating current (ac) power waveform produced from an ac power source, wherein the partially rectified ac power waveform includes an ac component and a direct current (dc) component, and wherein the dc component is insufficient to power the logic gate 18. The method of claim 17, further comprising filtering the partially rectified ac power waveform with a capacitor before application to power the logic gate.

19. The method of claim 17, further comprising partially rectifying an ac power waveform produced by the ac power source with a partial rectification stage to produce the partially rectified ac power waveform.

20. The method of claim 19, wherein the partial rectification stage includes a half-wave rectifier with insufficient capacitive filtering to produce a primarily direct current (dc) power signal as the partially rectified ac power waveform.

21. The method of claim 19, wherein the partial rectification stage includes a transistor- based rectifier.

22. The method of claim 21, wherein the partial rectification stage includes a diode-based rectifier.

23. The method of claim 17, wherein at least one of the transistors is an organic thin film transistor.

24. The method of claim 17, wherein at least one of the transistors is an inorganic thin film transistor.

25. A radio frequency identification (RFID) tag comprising: a first and second transistors arranged to form a logic gate, a radio frequency (RF) converter that converts RF energy to an alternating current (ac) power waveform, a partial rectification stage that produces a partially rectified ac power waveform from the ac power waveform and directly powers the logic gate with the partially rectified ac power waveform, wherein the partially rectified ac power waveform includes an ac component and a direct current (dc) component, and wherein the dc component is insufficient to power the logic gate; and a modulator that conveys information.

26. A radio frequency identification (RFID) system comprising: a) the RFID tag of claim 25, and b) an RFID reader that transmits RF energy to the RFID tag for conversion by said RF convertor, and reads the information conveyed by said modulator.

「特表2007-515135およびWO2005062241より引用」

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論理ゲートと部分整流段とを有する電子回路

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は論理回路に関し、特に論理回路に電力供給する方法に関する。
【背景技術】
【0002】
トランジスタ、ダイオード等などを含む薄膜回路デバイスは、集積回路、平面パネルディスプレイ、スマートカード、および無線識別(RFID)タグなどの多様な現代の電子デバイス内の論理回路を形成するために幅広く用いられている。薄膜回路デバイスは様々な導体、半導体および絶縁層を蒸着し、マスキングし、さらにエッチングして薄膜スタックを形成することにより形成される。
【0003】
典型的には薄膜トランジスタ(TFT)はアモルファスシリコンまたはセレン化カドミウムなどの無機半導体材料を基材にしている。近年では重要な研究および開発努力が有機半導体材料を利用して薄膜トランジスタ回路を形成するために向けられてきた。
【0004】
有機半導体材料は低処理温度などのトランジスタ製造に対する多数の製造上の利点を提供する。具体的には有機半導体材料は、薄肉ガラス、高分子または紙ベースの基板などの可撓性基板上の有機薄膜トランジスタ(OTFT)の製造を可能にする。
【0005】
加えて印刷、エンボス加工またはシャドーマスキングなどの低コスト製造技術を用いて有機半導体材料を形成することができる。OTFTの性能特性は継続的研究および開発により向上したが、デバイス性能および安定性は引き続き課題を提示している。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【0006】
一般に本発明は部分整流交流(ac)波形により電力供給される論理回路を対象とする。この波形はクリーンな一次dc電源波形を提供しないという意味で部分的に整流されている。代わりに論理回路に実質的ac成分を含む波形で電力供給することができる。事実dc成分はそのままでは回路に電力供給するには十分ではない。本発明はアモルファスまたは多結晶有機半導体、無機半導体または両方の組み合わせに基づいた薄膜トランジスタを組み込んだ論理回路に適用し得る。
【0007】
安定性が向上するとOTFT回路を用いてインバータ、発振器、論理ゲート、レジスタおよび他のトランジスタベースの論理回路などの様々な薄膜トランジスタベースの論理回路デバイスを形成することが可能になり得る。このような論理回路デバイスは集積回路、平面パネルディスプレイ、スマートカードおよびRFIDタグなどの様々な用途に有用性がある。用途によっては論理回路に部分整流ac波形で電力供給することで全波ac-dc整流段を不要とし得る。
【0008】
フィルタリングコンデンサを必要とすることなく部分整流段をダイオード、トランジスタ等によって実現し得る。このようにして本発明は部分整流ac電源波形により電力供給される論理回路を収容する構成部品の製造時間、費用、コスト、複雑さおよびサイズを削減し得る。部分整流によりacおよびdc成分の両方とも存在する。ac部分がかなり大きくdc部分は小さい。dc部分はこの場合それ自体で論理回路に電力供給するには不十分である。典型的には論理回路は論理回路を構成するトランジスタの閾値電圧を超える電圧を必要とする。dcにより電力供給される回路においてdc電圧が閾値電圧未満である場合には回路は動作しない。ac電力供給によれば、ac成分が十分に大きい場合には閾値未満のdc成分を有することが可能であるとともになお回路に電力供給可能である。
【0009】
部分整流ac電源波形は論理ゲート回路に直接電力供給する。具体的にはdc電力を論理ゲートに印加する代わりに、ac電源と部分整流段とが部分整流ac電源波形を1つまたは複数の個々の論理ゲートに印加する。
【0010】
部分整流段は不十分な容量性フィルタリングを有する半波または全波整流器を含んで、部分整流ac電源波形として一次dc電源信号を生成し得る。このようにして全波または半波整流段に通常設けられる大きなフィルタリングコンデンサを排除またはサイズを削減することができるため、回路全体のサイズを削減することができる。
【0011】
部分整流ac電源波形により電力供給される論理回路を様々な電子デバイスにおいて用い得る。一例としてこのような論理回路は、ac波形が近接場電磁無線結合により誘導される無線IC(RFID)タグを対象とする用途において特に有用であり得る。ac波形を部分整流してRFIDタグにより収容される電子論理回路のいくつかまたはすべてに電力供給することができる。
【0012】
一実施例において本発明は、論理ゲートを形成するように配置された第1のトランジスタと第2のトランジスタと、ac電源波形を生成する交流(ac)電源と、ac電源波形から部分整流ac電源波形を生成するとともに部分整流ac電源波形を用いて論理ゲートに直接電力供給する部分整流段とを備える電子回路を提供する。論理ゲートは伝播遅延により特徴付けられ得る。ac波形は伝播遅延未満の期間を有し、伝播遅延の五分の一未満であることが好ましい。
【0013】
他の実施例において本発明は、少なくとも第1のトランジスタと第2のトランジスタとにより形成された論理ゲートに、交流(ac)電源から生成された部分整流交流(ac)電源波形で直接電力供給するステップを含む方法を提供する。
【0014】
さらなる実施例において本発明は、少なくとも第1のトランジスタと第2のトランジスタとにより形成された論理ゲートと、ac電源波形を提供する無線周波(RF)エネルギー結合デバイスと、ac電源波形から部分整流ac電源波形を生成するとともに部分整流ac電源波形を用いて論理ゲートに直接電力供給する部分整流段とを含む無線識別(RFID)タグを提供する。
【0015】
さらなる実施例において本発明は、論理ゲートを形成するように配置された第1および第2のトランジスタと、RFエネルギーを交流(ac)電源波形に変換する無線周波数(RF)変換器と、ac電源波形から部分整流ac電源波形を生成するとともに部分整流ac電源波形を用いて論理ゲートに直接電力供給する部分整流段と、情報を伝達する変調器とを含むRFIDタグと、RF変換器による変換のためにRFエネルギーをRFIDタグに送信するとともに、変調器により伝達された情報を読み取るRFIDリーダとを備える無線識別(RFID)システムを提供する。
【0016】
本発明は多数の利点を提供することができる。例えば部分整流ac電源波形を用いて論理回路に直接電力供給することで、回路にdc電力を送出するために多くの用途で通常必要とされる全波整流器または半波整流器構成部品のフィルタリングコンデンサを不要とし得る。従って部分整流ac電力の使用は薄膜トランジスタ回路を収容する構成部品の製造時間、費用、コスト、複雑さおよびサイズを削減し得る。
【0017】
RFIDタグの場合、具体的な例としてac電力供給される薄膜回路の使用は、典型的にはダイオードまたはトランジスタブリッジおよび大きなフィルタリングコンデンサを含むac-dc整流器段に関連する構成部品の多くをなくすかまたはサイズを削減することにより、タグのコストおよびサイズを大幅に削減し得る。整流器段の複雑さを低減することにより、部分整流ac波形により電力供給される薄膜論理回路は、RFIDタグの設計および製造において大幅なコスト節減およびサイズ削減をもたらすことが可能である。
【0018】
これらおよび他の実施例の更なる詳細は添付の図面と以下の説明とに記載されている。他の特徴と目的と利点とは説明と図面とからならびに特許請求の範囲から明らかになるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【0019】
図1は部分整流ac波形により電力供給される回路10を示す回路図である。図1に示すようにac電源12はac電源波形を部分整流段14に送出する。部分整流段14はac電源波形を部分整流してデジタル論理回路16に電力供給する。信号源18は論理信号でデジタル論理回路16を駆動する。デジタル論理回路16は出力20において出力論理信号を生成する。コンデンサ22は出力20とグランドとを結合し得る。
【0020】
部分整流段14によってデジタル論理回路16に印加される波形は、従来デジタル論理回路に電力供給するために用いられるようなクリーンな一次dc電源信号を提供しないという意味で部分整流されている。代わりに本発明によればデジタル論理回路16に実質的なac成分を含む波形で電力供給することができる。
【0021】
部分整流波形を例えば、アモルファスまたは多結晶有機半導体、無機半導体もしくはそれら2つの組み合わせによる薄膜トランジスタを内蔵するデジタル論理回路16に印加し得る。部分整流ac電源波形を利用してデジタル論理回路16に電力供給することで多様な用途に対して満足なデバイス性能を提供することができる。例えばOTFT回路が部分整流ac電源波形により電力供給される場合、OTFT回路はdc電源信号がなくても満足な性能特性を発揮し得る。
【0022】
クリーンなdc電源信号のない満足な性能により、全波整流回路を必要とせずにTFT回路を利用して、インバータ、発振器、論理ゲート、レジスタまたは任意の他のトランジスタベース論理回路などの様々な薄膜トランジスタベース論理回路デバイスの形成が可能になり得る。このような論理回路デバイスは集積回路、平面パネルディスプレイ、スマートカードおよびRFIDタグなどの様々な用途に有用性がある。
【0023】
図2は半波ダイオードベース部分整流段14Aにより生成された部分整流ac波形により電力供給されるインバータ回路16Aを示す回路図である。図2に示すように、ダイオード26はac電源12により生成されたac波形の立ち下がり半周期のみを通す働きをすることにより、部分整流段14Aとして機能する。この例ではインバータ回路16Aは負荷トランジスタ28と駆動トランジスタ30とを含む。各トランジスタ28、30は薄膜電界効果トランジスタ(FET)であってもよく、アモルファスまたは多結晶無機半導体または有機半導体材料もしくはそれら2つの組み合わせによってもよい。コンデンサ22は出力20とグランドとを結合し得る。
【0024】
OTFTを形成するための有用な有機半導体材料にはアセン類およびその置換誘導体がある。アセン類の具体例にはアントラセン、ナフタレン、テトラセン、ペンタセン、および置換ペンタセン類(好適にはペンタセンまたはフッ化ペンタセン類などの置換ペンタセン類)がある。他の例には半導体ポリマ類、ペリレン類、フラーレン類、フタロシアニン類、オリゴチオフェン類、ポリチオフェン類、ポリフェニルビニレン類、ポリアセチレン類、金属フタロシアニン類および置換誘導体がある。有用なビス(2-アセニル)アセチレン半導体材料が、2003年7月15日に出願された同時係属米国特許出願第10/620027号明細書に記載されている。有用なアセン-チオフェン半導体材料が同時係属米国特許出願第10/641730号明細書に記載されている。薄膜トランジスタを形成するのに有用な無機半導体材料にはアモルファスシリコン、ポリシリコン、テルリウム、酸化亜鉛、セレン化亜鉛、硫化亜鉛、硫化カドミウム、およびセレン化カドミウムがある。
【0025】
代替例としてデジタル論理回路16Aを有機および無機半導体材料の組み合わせにより形成して、例えば相補型金属酸化膜半導体(CMOS)インバータ回路を形成し得る。例えばある用途においてインバータ回路16Aをn型金属酸化膜半導体(NMOS)無機電界効果トランジスタ(FET)およびp型金属酸化膜半導体(PMOS)有機電界効果トランジスタ(FET)により形成し得る。OTFTを用いる場合、トランジスタ28、30を特に低コスト製造技術を用いた製造に特に適合可能にし得るとともに、用途によっては可撓性基板上に形成し得る。
【0026】
ac電源12はac電源波形をダイオード26に直接印加し、ダイオード26はac波形の一連の交互半周期の形状で部分整流波形をインバータ回路16Aに印加する。ある実施例では、フィルタリングコンデンサをダイオード26のカソードとグランドとの間に設け得る。しかしフィルタリングコンデンサは完全整流された、実質的にdc波形を生成するには容量が不十分である場合がある。逆にダイオード26はインバータ16Aに直接印加される部分整流ac波形のみを生成する。
【0027】
このようにインバータ16Aはdc電源波形の代わりに部分整流ac電源波形のみを受け取る。換言すればインバータ16Aは部分整流ac電源波形に応じて動作する。従って反転回路は、インバータが動作電力としてdc電源信号ではなく部分整流ac電源波形のみを受け取るのであれば、ac電源12とダイオード26とインバータ16Aとの間に存在し得る。図2の例において、部分整流ac電源波形は負荷トランジスタ28の共通ゲートとドレインの接続ならびに駆動トランジスタ30のソースに結合されたグランド接続の間に直接印加される。
【0028】
図3は半波トランジスタベース部分整流段14Bにより生成された部分整流ac波形により電力供給されるインバータ回路16Aを示す回路図である。図3に示すように、部分整流段14Bはトランジスタ34を含む。トランジスタ34のゲートとドレインとはac電源12の正端子に共通結合されている。トランジスタ34のソースは部分整流段14B用の出力ノードを形成するように結合されている。部分整流段14Bの出力ノードはインバータ回路16Aの負荷トランジスタ28のゲートおよびドレインの両方に結合されている。それ故図3の回路は図2の回路に実質的に相当するが、トランジスタベースの部分整流段14Bを含む。トランジスタ34は薄膜電界効果トランジスタ(FET)であり、アモルファスまたは多結晶無機または有機半導体材料、もしくはそれらの組み合わせをベースにし得る。
【0029】
また薄膜トランジスタベース論理回路、例えば図2および図3のインバータ16Aに電力供給する部分整流電源波形を使用することで、様々な用途に対する満足な性能をサポートする一方で回路の長期安定性を向上することができる。例えばインバータ16Aが部分整流ac波形により電力供給される場合、インバータはdc電力供給されたインバータに比べて満足な性能特性を示し得る。また部分整流ac波形によるインバータ16Aの動作はac-dc全波整流段を不要にする。
【0030】
図3に示すように、負荷トランジスタ28のゲートおよびドレインは、部分整流段14Bにより生成された部分整流ac波形を受け取るように結合されている。具体的には負荷トランジスタ28のゲートおよびドレインは両方ともトランジスタ34のソースに結合されている。駆動トランジスタ30のドレインは負荷トランジスタ28のソースに結合されているとともに、駆動トランジスタのソースはグランドに結合されている。信号源18は論理信号を生成して駆動トランジスタ30のゲートを駆動する。
【0031】
これに応じてインバータ16Aは反転出力20を生成し、これが負荷コンデンサ22の両端の出力となり得る。負荷コンデンサ22は反転出力20に存在するac電圧の一部をフィルタリングするように機能し得るとともに、よりクリーンな出力論理信号を提供する。フィルタリング量は負荷コンデンサ22の容量とac電力の周波数とに依存する。負荷コンデンサ22は、インバータ16Aが1つまたは複数のさらなる論理ゲートを駆動するように結合された場合、出力20に結合された論理ゲート内でのゲート/ソース・オーバーラップにより生成される入力容量により形成され得る。
【0032】
ゲート/ソース・オーバーラップを後段の論理ゲート内の駆動トランジスタの製造中に制御することにより負荷コンデンサ22の所望レベルの容量を生成し得る。代りに、特に出力20が他の論理ゲートを駆動しない場合には負荷コンデンサ22を独立して形成し得る。
【0033】
いくつかの実施例において負荷トランジスタ28は、駆動トランジスタ30のゲート幅対ゲート長比以上のゲート幅対ゲート長比を有し得る。この場合、回路の直流(dc)電力供給は、ゲイン低下のためNMOSまたはPMOS設計に対して論理ゲートの動作の低下を生じることもある。この設計によるNMOSおよびPMOSのリング発振器は例えば不安定であることもある。駆動トランジスタ30のゲート幅対ゲート長比以上の負荷トランジスタ28のゲート幅対ゲート長比を有するさらなる利点は総回路面積が減少することである。
【0034】
反転出力20は負荷コンデンサ22によりフィルタリングされ得るが、とくにインバータ16Aに印加される入力電源波形は通常フィルタリングされない。具体的には部分整流段14Bによって生成された部分整流ac波形は、インバータ16Aに対する一次dc信号を生成するのに十分な程度にまではフィルタリングされない。逆に部分整流段14Bにより生成された部分整流波形は実質的なac成分を含む。
【0035】
いくつかの実施例において比較的小さいフィルタリングコンデンサをトランジスタ34のソースとグランドとの間に結合し得るが、ac電源12により生成されたac電源波形の非整流部分のため、その容量は部分整流波形のばらつきを完全にフィルタリングするには通常不十分である。特に部分整流波形のac電源12により生成された負の非整流半周期と一致する部分は、なお部分整流波形の大きなばらつきをもたらすことになる。このように、回路または電子デバイスの全体サイズを削減することができるように、全波または半波整流段で通常提供される大きなフィルタリングコンデンサをなくすかまたは大きさを低減することができる。
【0036】
図4A、4Bおよび4Cはac電源波形および典型的な部分整流ac電源波形を概念的に示すグラフである。図4Aはac電源12により生成されるac電源波形21を示す。図4Aに示すようにac電源波形は実質的に正弦波であるとともに正の半周期23、25および負の半周期27を含む。本発明によれば部分整流段14はac電源波形21を部分的に整流して、例えば図4B又は4Cに示すような部分整流ac波形を生成する。
【0037】
図4Bの例では部分整流段14は、基本的に一次dc信号を生成するのに十分な容量性フィルタリングなしで半波整流により部分整流ac電源波形29Aを生成する。代わりに、部分整流ac電源波形29Aは正の半周期31と正の半周期33とを含むが、いかなる負の半周期もなくすとともに基準電圧レベルまで降下する。従って図4Bの例によれば部分整流段14は実質的に容量性フィルタリングを含まない。この結果部分整流波形29Aは基本的に、半周期31、33においてac電源波形21の正の半周期23、25の波形特性を保持する。線130は平均dc電圧を表わし、回路に電力供給するには不十分である。
【0038】
図4Cの例において部分整流段14は、正の半周期35、37を有する部分整流ac電源波形29Bを生成する。加えて部分整流段14は各半周期35、37に続く指数関数的テールオフ(tailoff)39、41を生成する限定量の容量性フィルタリングを含み得る。半周期35および37のピークは回路に電力供給する十分な電圧を表わす。容量性フィルタリングはいくつかの実施例において部分整流段14の出力とグランドとの間に配置されたコンデンサにより提供され得る。図4Cに示すように容量は一次dc電源信号を生成するには不十分である。逆に部分整流波形29Bはac電源12により生成された元のac電源波形21(図4A)の実質的なac成分を保存し得る。線131は平均dc電圧を表わし、回路に電力供給するには不十分である。
【0039】
用途によっては論理回路16に部分整流ac波形で電力供給することで、回路に電力供給するのに十分なdc成分を生成する全波または半波ac-dc整流段を不要にする。代わりに電源は比較的単純な部分整流段14を含み得る。図2および3に示すように部分整流段14は大きなフィルタリングコンデンサを必要とすることなくダイオード、トランジスタ等によって実現され得る。このように本発明は部分整流ac電源波形により電力供給される論理回路を収容する構成部品の製造時間、費用、コスト、複雑さおよびサイズを削減し得る。
【0040】
部分整流ac電源波形により電力供給される論理回路を多様な電子デバイスで用い得る。一例としてこのような論理回路は、無線結合によりac波形が誘導される無線識別(RFID)タグを対象とする用途で特に有用であり得る。ac波形を部分整流してRFIDタグにより収容される電子論理回路のいくつかまたはすべてに電力供給することができる。半波整流器と共に用いられることが多いかなり大きいコンデンサを含む全波または半波整流器により通常必要とされる回路を不要にすることにより、RFIDタグのサイズを大幅に削減し得る。同様の小型化を他のタイプの電子デバイスで達成し得る。
【0041】
図5は半波ダイオードベース部分整流段14Aにより生成された部分整流ac波形によって電力供給される薄膜トランジスタベースNANDゲート回路38を示す回路図である。図5に示すようにNANDゲート40は負荷トランジスタ28と駆動トランジスタ30A、30Bとを含む。負荷トランジスタ28のゲートとドレインとは、ダイオード26を含む部分整流段14Aの出力に結合されている。
【0042】
第1の駆動トランジスタ30Aのドレインは負荷トランジスタ28のソースに結合されている。第2の駆動トランジスタ30Bのドレインは第1の駆動トランジスタ30Aのソースに結合されている。第2の駆動トランジスタ30Bのソースはグランドに結合されている。第1および第2の信号源18A、18Bはそれぞれ駆動トランジスタ30A、30Bのゲートを駆動する。これに応じてトランジスタ28、30A、30Bは論理NAND出力20を生成するNANDゲート40を形成している。
【0043】
図5のNAND回路40はダイオード26により生成された部分整流ac電源波形に応じて動作する。具体的には部分整流ac電源波形はNANDゲート40に直接結合されている。いくつかの実施例において負荷コンデンサを出力20の両端に結合し得る。負荷コンデンサを独立して形成、またはNANDゲート40の出力20により駆動される論理ゲートの入力容量により実現し得る。また結果的に得られる容量が一次dc電源信号を生成するには不十分であれば、フィルタリングコンデンサをダイオード26のカソードとグランドとの間に配置し得る。
【0044】
図6は半波トランジスタベース部分整流段14Bにより生成された部分整流ac波形によって電力供給されるNANDゲート回路42を示す回路図である。NANDゲート回路42はNANDゲート40を含み、図5のNAND回路38に実質的に相当するが、トランジスタ34を有するトランジスタベース部分整流段14Bを組み込んでいる。
【0045】
トランジスタベース部分整流段14Bは図3の部分整流段14Bと同等であり得る。図5の例において負荷コンデンサを図6の回路42の出力20の両端に結合し得る。加えて、結果的に得られる容量が一次dc電源信号を生成するには不十分であれば、フィルタリングコンデンサを部分整流段14Bの出力とグランドとの間に配置し得る。
【0046】
図7は部分整流ac波形によって電力供給される、NORゲート46を有する薄膜トランジスタベースNORゲート回路44を示す回路図である。図7は部分整流段14により生成された部分整流ac波形で動作する薄膜トランジスタベース論理回路の他の例を表わす。図7に示すようにトランジスタ28、50A、および50BはNORゲート46を形成している。第1および第2の駆動トランジスタ50A、50Bのドレインは負荷トランジスタ28のソースと出力20とに結合されている。
【0047】
第1および第2の駆動トランジスタ50A、50Bのソースはグランドに結合されている。第1および第2の信号源48A、48Bはそれぞれ駆動トランジスタ50A、50Bのゲートを駆動する。これに応じてNORゲート46は論理NOR出力20を生成する。NOR回路46は部分整流段14により送出された部分整流ac電源波形に応じて動作する。いくつかの実施例において負荷コンデンサを論理NOR出力20の両端に結合し得る。また、負荷コンデンサを独立して形成、またはNOR回路44の出力20により駆動される論理ゲートの入力容量により実現し得る。
【0048】
図8および9はそれぞれac電力供給される薄膜トランジスタベースリング発振回路51、53を示す回路図である。リング発振回路51および53は、例えば可撓性基板上に形成し得るOTFTによるインバータ段などの、部分整流ac電源波形により電力供給される論理ゲートを用いて実施できる他の回路の例である。図8および9に示すように、リング発振回路51および53は直列に配置された奇数のインバータ段を含む。図8および9の例ではリング発振回路51および53はそれぞれ負荷トランジスタ54A~54Gと駆動トランジスタ56A~56Gとを有する7個のインバータ段52A~52Gを含む。
【0049】
リング発振回路51および53の各トランジスタ54および56は、部分整流ac波形により電力供給される薄膜電界効果トランジスタである。例えばac電源12はac電力を部分整流段14Bに送出する。図8および9の例では、ダイオードベース部分整流段または他の構成を用い得るが、部分整流段14Bはトランジスタベース部分整流段である。部分整流段14Bのトランジスタ34のソースは第1のインバータ段52Aの負荷トランジスタ54Aの共通ゲート-ドレインノードを駆動するように結合されている。図8の例ではフィルタリングコンデンサ55を場合によってはリング発振回路51内に部分整流段14Bの出力とグランドとの間に設け得る。図9ではフィルタリングコンデンサ55はリング発振回路53に設けられていない。
【0050】
図8および9の例では各インバータ段52A~Gは、場合によってはそれぞれの負荷コンデンサ58A~58Gの両端に結合される出力を有する。例えばインバータ段52Aの出力を負荷コンデンサ58Bの両端に結合し得るとともに、インバータ段52Gの出力を負荷コンデンサ58Aの両端に結合し得る。他の実施例において負荷コンデンサ58を省略し得る。各コンデンサ58はそれぞれのインバータ段の出力により駆動される後段のインバータ段52の駆動トランジスタ56内でゲート/ソース・オーバーラップにより生成される入力容量によって形成し得る。
【0051】
最終インバータ段52Gの出力60は、第1のインバータ段52Aの駆動トランジスタ56Aのゲートに結合されることによりフィードバックを提供する。図8および9のリング発振回路51、53は、部分整流段14Bにより送出された部分整流ac電源波形に応じて動作する。動作中、リング発振回路51はクロック信号を提供する。例えばリング発振回路51、53の各インバータ段52の出力を利用して所望位相を有するクロック信号を提供することができる。
【0052】
一般にリング発振回路51、53により生成される出力波形は、インバータ段52の数と個々のインバータ段により生じる伝播遅延とに依存する周波数を有することになる。伝播遅延はリング発振回路51、53に印加される部分整流ac波形の電圧と半導体材料の移動度とに反比例し、インバータ段52に存在する任意の適用可能寄生または外部容量に正比例する。
【0053】
リング発振回路51、53などの薄膜トランジスタ回路の動作は、高いac電源周波数で可能であり得る。実質的に回路51、53と同じリング発振回路を機能させると、例えば数百kHz~6MHz以上程度のac電源周波数で動作し得る。半導体移動度が増加するにつれて、本明細書に説明するような部分整流ac電源波形により電力供給されるリング発振回路の使用が10MHzを超えるac電源周波数で当然期待できる。
【0054】
図10はRFIDタグ/リーダシステム66の部分整流ac電源波形により電力供給される薄膜トランジスタベース回路の適用を示すブロック図である。ac電力供給される薄膜トランジスタベース回路の使用は、以下に説明するように多数の理由のため、RFIDタグで特に望ましい場合がある。図10に示すようにRFIDタグシステム66はリーダユニット68とRFIDタグ70とを含み得る。
【0055】
リーダユニット68は無線周波数(RF)源74とリーダ72とを含み得る。RF源74はRFエネルギーをRFIDタグ70に送信して電源を提供する。このようにRFIDタグ70はバッテリなどの独立電源を収容する必要はない。代わりにRFIDタグ70は、リーダユニット68とRFIDタグとの間のワイヤレスエアインターフェースを介して電力供給される。この目的のためリーダユニット68は、事実上アンテナとして機能してRFエネルギーを送信および受信するインダクタ76を含む。
【0056】
図10にさらに示すようにRFIDタグ70はac電源73を含み得る。以下に説明するようにac電源73は、リーダユニット68により送信されたRFエネルギーをac電力に変換してRFIDタグ70により収容される薄膜トランジスタ回路に送出するように機能し得る。RFIDタグ70は受信器として機能するインダクタ78を介してリーダユニット68からのエネルギーを受信する。
【0057】
インダクタ78は、無線周波(RF)エネルギー結合デバイスとして機能して、リーダユニット68により送信されたRFエネルギーから吸収したRFエネルギーに基づいてac電源73用のac電源波形を提供する。必要に応じてコンデンサ(図示せず)をインダクタ78と並列に設けてもよい。
【0058】
部分整流段80はインダクタ78からac波形を受け取り、部分整流ac波形を生成してRFIDタグ70内のデジタル論理回路に電力供給する。RFIDタグ70は変調インバータ82と、出力バッファ回路84と、制御論理回路86と、クロック回路88と、データ回路90とをさらに含み、これらのうちの1つまたは複数を薄膜トランジスタ回路の配列により形成し得る。
【0059】
クロック回路88は制御論理回路86を駆動して、識別コードを伝送する複数のデータ線を備え得るデータ回路90からデータを出力する。出力バッファ回路84は制御論理回路86からの出力をバッファリングする。変調インバータ82は次にインダクタ76、78を介してリーダユニット68による解釈のためにバッファリングされた出力を変調する。例えば変調インバータ82はインダクタ78の両端に印加される信号を変調することにより情報を伝達する。
【0060】
図11は図10のRFIDタグ/リーダシステム66をさらに示す回路図である。図11に示すようにRF源74は、インダクタ76を介してac出力信号を送信するac発生器92を含み得る。用途によってはac発生器92は、およそ125kHzの周波数でおよそ0~5アンペアの出力を有する正弦波電流源という形を取り得る。
【0061】
インダクタ76および78は、RF源とRFIDタグ70との間のRFエネルギーの電磁結合用変圧器を形成する。抵抗94を選択して電流を制限する。コンデンサ96をac電源73内にインダクタ78と並列に配置することにより、以下の式による電源の周波数を調整する並列共振タンクを形成し得る。
【数1】
イメージ ID=000003

ここでLはインダクタ78のインダクタンスであり、Cはコンデンサ96の容量である。
【0062】
50μHのインダクタンスおよび32nFの容量で、インダクタ78とコンデンサ96とがおよそ125kHzの共振周波数を発生する。したがってこの例ではac電源73の出力はおよそ125kHzの周波数を有する正弦波形である。インダクタ78により生成されたこの波形は部分整流段80によって部分整流されて、ac電源73の出力として部分整流ac電源波形を生成する。そして部分整流ac電源波形を電力端子および共通端子によって図11に示すようにクロック回路88と、制御論理回路86と、データ線90と、出力バッファ84と、変調インバータ82とに印加する。
【0063】
図11はnビット識別コードを収容するRFIDタグ70を示している。図示を容易にするためにRFIDタグ70は、データ線90によって指定される7ビットの識別コードを収容している。多くの用途においてRFIDタグ70はより大きな識別コード、例えば31ビット、63ビットまたは127ビットコードを収容し得る。いくつかの実施例では選択されたデータ線90は開始ビット識別と、データストリーム同期とエラーチェックとに用いられる情報を伝送し得る。図11の例ではクロック回路88は、帰還ループに配列された一連の7個のインバータ段により形成されたリング発振器である。
【0064】
図11のリング発振器は図8および9のリング発振器51または53と同様であり得る。2個の連続インバータの出力は、制御論理回路86内に設けられたそれぞれのNORゲートに印加される。このように7個のNORゲートを用いて、リング発振器により生成された各クロック周期内に一連の7個のパルスを発生する。なお制御論理回路86内のNORゲートの数は変更し得る。またこの配列を原理的により大きなビット数、例えばn=31、63または127に拡張することもできる。
【0065】
データ線90と直列に示されているスイッチは、一端でそれぞれのNORゲート出力に接続されている。スイッチが閉じている場合には、それぞれのデータ線はNORゲート出力をグランドに結合する。スイッチが開いている場合には、NORゲート出力は制御論理回路86内の7入力ORゲートへの入力のうちの1つとして結合される。
【0066】
図11の例では第2および第4のデータ線(左から右に)のスイッチが閉じられる。その結果データ線90は7ビット識別コード「1010111」を格納する。スイッチは例えばNORゲート出力からグランドに延びる金属線から作製することができる。グランドへの電気接続を製造中に意図的に切断または接続して事実上オープンスイッチを作製することにより、一意の識別コードをRFIDタグ70のデータ線90に符号化することができる。例えばレーザエッチング、機械的スクライビング、または電気溶断などの様々な製造技術によって電気接続を切断し得る。
【0067】
制御論理回路86内の7入力ORゲートの出力を、出力バッファ84の縦続接続されたバッファ増幅器に印加して、論理回路の出力インピーダンスを変調インバータ82の入力インピーダンスに一致させることを助ける。出力バッファ84内のバッファ増幅器の出力は変調インバータ82の入力に印加される。具体的にはタグ出力信号が変調インバータ82に関連する駆動トランジスタのゲートに印加される。その後変調インバータ82はインダクタ78とコンデンサ96とにより形成されるタンクのQを変調して、搬送波信号の振幅変調を提供する。このようにして、リーダ72は識別コードを読み取ることができるように受け取ったバッファ出力をリーダユニット68に伝える。具体的にはリーダ72はインダクタ76を介してL_タップで受信した信号を処理する。
【0068】
図12は図10のRFIDタグ/リーダシステム68に関連するリーダ72をさらに示す回路図である。リーダ72はL_タップを介して、クロック回路88の周波数に応じて1kHz程度であり得るタグ出力信号により変調された、例えば125kHzの搬送波信号を含む信号を受信する。低接合静電容量信号ダイオード102を用いて信号を復調する。ローパスフィルタ部98は搬送波周波数を除去し、インダクタ104と、コンデンサ106と、抵抗108と、インダクタ110と、コンデンサ112と抵抗114とを含み得る。増幅段100は、抵抗118および帰還抵抗120が反転入力に結合された非反転構成の増幅器116を含む。
【0069】
図13は部分整流ac電源波形により電力供給されて液晶(LC)表示素子124を駆動する、薄膜トランジスタベースインバータ回路122を示す回路図である。図13の例ではインバータ回路122は図2および3のインバータ回路16Aと実質的に同じである。しかしインバータ16の出力は液晶表示素子124を駆動する。具体的には液晶表示素子124の一方の電極は負荷トランジスタ28のソースと駆動トランジスタ30のドレインとに結合されている。液晶表示素子124の他方の電極はグランドに結合されている。図13に示すようにインバータ回路16は部分整流段14により電力供給され、そのため負荷トランジスタ28の共通ゲート/ドレイン接続において、部分整流ac電源波形を受け取る。LCD全体を駆動するにはインバータ16と同様のインバータをLCDの素子毎に設け得る。
【0070】
図14は発光ダイオード(LED)128を駆動するac電力供給される薄膜トランジスタベースインバータ回路126を示す回路図である。インバータ回路16は図2および3のインバータ回路16Aと実質的に同じであるがLED128を駆動する。LED128のカソードは負荷トランジスタ28のソースと駆動トランジスタ30のドレインとに結合されているとともに、LEDのアノードはグランドに結合されている。
【0071】
本発明は多数の利点を提供することができる。例えば部分整流ac波形により電力供給される論理回路および特にOTFTベース論理回路は、dc電力供給される薄膜トランジスタ回路と比べて満足な性能を示し得る。リング発振器の場合、例えば部分整流ac波形により電力供給される薄膜トランジスタ回路は、dc電力供給される薄膜トランジスタ回路と比べて満足な発振振幅を維持し得る。
【0072】
利点として論理回路に直接電力供給するための部分整流ac電源波形の使用は、全波整流器構成部品またはフィルタリングコンデンサを有する半波整流器構成部品を不要とし得るが、使用しない場合はこれらの要素は回路へdc電力を送出する多くの用途で必要とされる。従って従来の整流器構成部品を不要とすることによって、部分整流ac電力の利用が薄膜トランジスタ回路を収容する構成部品の製造時間、費用、コスト、複雑さおよびサイズを削減し得る。
【0073】
具体例としてRFIDタグの場合ac電力供給される薄膜回路の使用は、典型的には、ダイオードまたはトランジスタブリッジおよび大きなフィルタリングコンデンサなどのac-dc整流器段に関連する構成部品の殆どをなくすことにより、タグのコストとサイズとを大幅に削減し得る。整流器段の複雑さを低減することにより部分整流ac波形により電力供給される薄膜論理回路は、RFIDタグの設計および製造において大幅なコストおよびサイズ削減をもたらすことができる。
【0074】
本明細書に説明するように部分整流ac波形により電力供給される論理回路を形成するのに有用な薄膜トランジスタは、様々な形態を取り得るとともに様々な製造方法を用いて製造し得る。例えば薄膜トランジスタは有機半導体材料、無機半導体材料、またはその両方の組み合わせを含み得る。用途によっては有機および無機半導体材料を用いてCMOS薄膜トランジスタ回路を形成することができる。
【0075】
本明細書に説明するように部分整流ac波形により電力供給される論理回路を形成する際に有用な薄膜トランジスタには、米国特許第6433359号明細書、同第6768132号明細書および同第6616609号明細書、2003年11月6日に公開された米国特許出願公開第2003/0207505号明細書、2003年6月5日に公開された同第2003/0102471A1号明細書、いずれも2003年8月14日に公開された同第2003/0151118A1号明細書、同第2003/0150384A1号明細書および同第2003/0152691A1号明細書に記載された技術により製造される薄膜トランジスタがあるがこれに限定されるものではない。
【0076】
本発明の精神と範囲とから逸脱することなく様々な変更が可能である。例えば部分整流段の特定例を説明したが、他の部分整流段を設けて同様な部分整流結果を達成し得る。さらに様々な論理回路は部分整流波形を利用して論理回路に電力供給する恩恵を被る。従って本明細書に説明した例を本発明の範囲の限定として考えるべきではない。これらのおよび他の実施例は以下の特許請求の範囲の範囲内にある。

ELECTRONIC CIRCUIT HAVING A LOGIC GATE AND A PARTIAL RECTIFICATION STAGE

FIELD

The invention relates to logic circuitry and, more particularly, techniques for powering logic circuitry.

BACKGROUND

Thin film circuit devices, including transistors, diodes, and the like, are widely used to form logic circuitry in a variety of modern electronic devices, including integrated circuits, flat panel displays, smart cards, and radio frequency identification (RFID) tags. Thin film circuit devices are formed by depositing, masking and etching a variety of conducting, semiconducting and insulating layers to form a thin film stack.

Typically, thin film transistors (TFTs) are based on inorganic semiconductor materials such as amorphous silicon or cadmium selenide. More recently, significant research and development efforts have been directed to the use of organic semiconductor materials to form thin film transistor circuitry.

Organic semiconductor materials offer a number of manufacturing advantages for transistor fabrication including low processing temperatures. In particular, organic semiconductor materials permit the fabrication of organic thin film transistors (OTFTs) on flexible substrates such as thin glass, polymeric or paper-based substrates.

In addition, organic semiconductor materials can be formed using low-cost fabricaton techniques such as printing, embossing or shadow masking. Although the performance characteristics of OTFTs have improved with continued research and development, device performance and stability continue to present challenges.

SUMMARY In general, the invention is directed to logic circuitry powered by a partially rectified alternating current (ac) waveform. The waveform is partially rectified in the sense that it does not provide a clean, primarily dc power waveform. Instead, it is possible to power logic circuitry with a waveform that includes a substantial ac component. In fact, the dc component would not be sufficient, on its own, to power the circuit. The invention may be applied to logic circuitry incorporating thin film transistors based on amorphous or polycrystalline organic semiconductors, inorganic semiconductors or combinations of both.

Enhanced stability may permit the use of OTFT circuitry to form a variety of thin film transistor-based logic circuit devices, including inverters, oscillators, logic gates, registers, and other transistor-based logic circuits. Such logic circuit devices may find utility in a variety of applications, including integrated circuits, flat panel displays, smart cards, and RFID tags. For some applications, powering logic circuitry with a partially rectified ac waveform may eliminate the need for a full wave ac-dc rectification stage.

A partial rectification stage may be realized by a diode, a transistor, or the like, without the need for a filtering capacitor. In this manner, the invention may reduce the manufacturing time, expense, cost, complexity, and size of the component carrying the logic circuitry powered by the partially rectified ac power waveform. With partial rectification both and ac and dc component exist. The ac portion may be quite substantial and the dc portion may be small. The dc portion, in this case, may be insufficient to power a logic circuit by itself. Typically logic circuits require voltages in excess of the threshold voltages of the transistors that make up the logic circuit. In a dc powered circuit, if the dc voltage is less than the threshold voltage, the circuit will not operate. With ac powering it is possible to have the dc component less than the threshold voltage, if the ac component is sufficiently large, and still power the circuit.

The partially rectified ac power waveform directly powers the logic gate circuitry. In particular, the ac power source and partial rectification stage apply a partially rectified ac power waveform to one or more individual logic gates, instead of applying dc power to the logic gates.

The partial rectification stage may include a half-wave or full-wave rectifier with insufficient capacitive filtering to produce a primarily dc power signal as the partially rectified ac power waveform. In this manner, the large filtering capacitor ordinarily provided in a full- wave or half-wave rectification stage can be eliminated or reduced in size so that the overall size of the circuit can be reduced.

Logic circuitry powered by a partially rectified ac power waveform may be used in a variety of electronic devices. As an example, such logic circuitry may be especially useful in applications directed to radio frequency (RFID) tags in which an ac waveform is induced by near-field electromagnetic radio frequency coupling. The ac waveform can be partially rectified to power some or all of the electronic logic circuitry carried by the RFID tag.

In one embodiment, the invention provides an electronic circuit comprising a first transistor and a second transistor arranged to form a logic gate, an alternating current (ac) source to generate an ac power waveform, and a partial rectification stage to produce a partially rectified ac power waveform from the ac power waveform and directly power the logic gate with the partially rectified ac power waveform. The logic gate may be characterized by a propagation delay. The ac waveform has a period less than the propagation delay, and preferably less than one fifth of the propagation delay.

In another embodiment, the invention provides a method comprising directly powering a logic gate formed by at least a first transistor and a second transistor with a partially rectified alternating current (ac) power waveform produced from an alternating current (ac) power source.

In an added embodiment, the invention provides a radio frequency identification (RFID) tag comprising a logic gate formed by at least a first transistor and a second transistor, a radio frequency (RF) energy coupling device to provide an ac power waveform, and a partial rectification stage that produces a partially rectified ac power waveform from the ac power waveform and directly powers the logic gate with the partially rectified ac power waveform.

In a further embodiment, the invention provides a radio frequency identification (RFID) system comprising an RFID tag including first and second transistors arranged to form a logic gate, a radio frequency (RF) converter that converts RF energy to an alternating current (ac) power waveform, a partial rectification stage that produces a partially rectified ac power waveform from the ac power waveform and directly powers the logic gate with the partially rectified ac power waveform, and a modulator that conveys information, and an RFID reader that transmits the RF energy to the RFID tag for conversion by the RF converter, and reads the information conveyed by the modulator.

The invention can provide a number of advantages. For example, the use of a partially rectified ac power waveform to directly power logic circuitry may eliminate the need for a filtering capacitor in a full wave rectifier or half wave component, which is commonly required in many applications for delivery of dc power to the circuitry. Accordingly the use of partially rectified ac power may reduce the manufacturing time, expense, cost, complexity, and size of components carrying thin film transistor circuitry.

For RFID tags, as a particular example, the use of ac-powered thin film circuitry may substantially reduce the cost and size of the tag by eliminating or reducing the size of many of the components typically associated with an ac-dc rectifier stage, including diode or transistor bridges, and large filtering capacitors. By reducing the complexity of the rectifier stage, thin film logic circuitry powered by a partially rectified ac waveform can result in substantial cost savings and size reductions in the design and manufacture of the RFID tag.

Additional details of these and other embodiments are set forth in the accompanying drawings and the description below. Other features, objects and advantages will become apparent from the description and drawings, and from the claims.

BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a circuit diagram illustrating a digital logic circuit powered by a partially rectified ac waveform.

FIG. 2 is a circuit diagram illustrating an inverter circuit powered by a partially rectified ac waveform generated by a half-wave diode-based partial rectification stage.

FIG. 3 is a circuit diagram illustrating an inverter circuit powered by a partially rectified ac waveform generated by a half-wave transistor-based partial rectification stage.

FIGS. 4A, 4B and 4C are graphs conceptually illustrating an ac power waveform and exemplary partially rectified ac power waveforms.

FIG. 5 is a circuit diagram illustrating a NAND gate circuit powered by a partially rectified ac waveform generated by a half-wave diode-based partial rectification stage.

FIG. 6 is a circuit diagram illustrating a NAND gate circuit powered by a partially rectified ac waveform generated by a half-wave transistor-based partial rectification stage.

FIG. 7 is circuit diagram of a NOR gate circuit powered by a partially rectified ac waveform.

FIG. 8 is a circuit diagram illustrating a thin film transistor-based ring oscillator circuit powered by a partially rectified ac waveform generated by a half-wave transistor-based rectifier stage with a filtering capacitor.

FIG. 9 is a circuit diagram illustrating a thin film transistor-based ring oscillator circuit powered by a partially rectified ac waveform generated by a half-wave transistor-based rectifier stage without a filtering capacitor.

FIG. 10 is a block diagram illustrating application of ac-powered thin film transistor circuitry in an RFID tag/reader system.

FIG. 11 is a circuit diagram further illustrating the RFID tag/reader system of FIG.

10.

FIG. 12 is a circuit diagram further illustrating a reader associated with the RFID tag/reader system of FIG. 10.

FIG. 13 is a circuit diagram illustrating an inverter circuit powered by a partially rectified ac waveform to drive a liquid crystal display element.

FIG. 14 is a circuit diagram illustrating an inverter circuit powered by a partially rectified ac waveform to drive a light emitting diode (LED).

DETAILED DESCRIPTION FIG. 1 is a circuit diagram illustrating a circuit 10 powered by a partially rectified ac waveform. As shown in FIG. 1, an ac power supply 12 delivers an ac power waveform to a partial rectification stage 14. Partial rectification stage 14 partially rectifies the ac power waveform to power a digital logic circuit 16. A signal source 18 drives digital logic circuit 16 with a logic signal. Digital logic circuit 16 produces an output logic signal at output 20. A capacitor 22 may be coupled between output 20 and ground.

The waveform applied to digital logic circuit 16 by partial rectification stage 14 is partially rectified in the sense that it does not provide a clean, primarily dc power signal, as would conventionally be used to power a digital logic circuit. Instead, in accordance with the invention, it is possible to power digital logic circuit 16 with a waveform that includes a substantial ac component.

A partially rectified waveform may be applied, for example, to a digital logic circuit 16 incorporating thin film transistors based on amorphous or polycrystalline organic semiconductors, inorganic semiconductors or combinations of both. The use of a partially rectified ac power waveform to power digital logic circuit 16 can support satisfactory device performance for a variety of applications. For example, when OTFT circuitry is powered by a partially rectified ac power waveform, the OTFT circuitry may exhibit satisfactory performance characteristics even without a dc power signal.

Satisfactory performance without a clean dc power signal may permit the use of TFT circuitry, without the need for full wave rectification circuitry, to form a variety of thin film transistor-based logic circuit devices, including inverters, oscillators, logic gates, registers, or any other transistor-based logic circuit. Such logic circuit devices may find utility in a variety of applications, including integrated circuits, flat panel displays, smart cards, and RFID tags.

FIG. 2 is a circuit diagram illustrating an inverter circuit 16A powered by a partially rectified ac waveform generated by a half-wave diode-based partial rectification stage 14A.

As shown in FIG. 2, a diode 26 serves to pass only the negative-going half cycles of the ac waveform generated by ac power source 12, and thereby functions as a partial rectification stage 14A. In this example, inverter circuit 16A includes a load transistor 28 and a drive transistor 30. Each transistor 28,30 may be a thin film field effect transistor (FET), and may be based on an amorphous or polycrystalline inorganic or organic semiconducting material, or a combination of both. A capacitor 22 may be coupled between output 20 and ground.

Useful organic semiconductor materials for forming OTFTs include acenes and substituted derivatives thereof. Particular examples of acenes include anthracene, naphthalene, tetracene, pentacene, and substituted pentacenes (preferably pentacene or substituted pentacenes, including fluorinated pentacenes). Other examples include semiconducting polymers, perylenes, fullerenes, phthalocyanines, oligothiophenes, polythiophenes, polyphenylvinylenes, polyacetylenes, metallophthalocyanines and substituted derivatives. Useful bis- (2-acenyl) acetylene semiconductor materials are described in copending application USSN 10/620027, filed on July 15,2003. Useful acene-thiophene semiconductor materials are described in copending application USSN 10/641730. Useful inorganic semiconductor materials for forming thin film transistors include amorphous silicon, polysilicon, tellurium, zinc oxide, zinc selenide, zinc sulfide, cadmium sulfide, and cadmium selenide.

As an alternative, digital logic circuit 16A may be formed by a combination of organic and inorganic semiconducting material, e. g. , to form a complementary metal oxide semiconductor (CMOS) inverter circuit. For example, in some applications, inverter circuit 16A may be formed by an n-channel metal oxide semiconductor (NMOS) inorganic field effect transistor (FET) and a p-channel metal oxide semiconductor (PMOS) organic field effect transistor (FET). When OTFTs are used, transistors 28,30 may be especially adaptable to fabrication using low cost fabrication techniques, and may be formed on flexible substrates for some applications.

The ac power source 12 directly applies an ac power waveform to diode 26, which applies a partially rectified waveform, in the form of a series of alternating half cycles of the ac waveform, to inverter circuit 16A. In some embodiments, a filtering capacitor may be provided between the cathode of diode 26 and ground. However, the filtering capacitor may have insufficient capacitance to produce a fully rectified, substantially dc waveform. Rather, diode 26 produces only a partially rectified ac waveform that is applied directly to inverter 16A.

In this manner, inverter 16A receives only a partially rectified ac power waveform instead of a dc power waveform. In other words, inverter 16A operates in response to the partially rectified ac power waveform. Accordingly, intervening circuitry may exist between ac power source 12, diode 26 and inverter 16A provided that the inverter still receives only a partially rectified ac power waveform as operating power, rather than a dc power signal. In the example of FIG. 1, the partially rectified ac power waveform is applied directly across the common gate and drain connection of load transistor 28 and the ground connection coupled to the source of drive transistor 30.

FIG. 3 is a circuit diagram illustrating an inverter circuit 16A powered by a partially rectified ac waveform generated by a half-wave transistor-based partial rectification stage 14B. As shown in FIG. 3, partial rectification stage 14B includes a transistor 34. The gate and drain of transistor 34 are coupled in common to the positive terminal of ac power supply 12. The source of transistor 34 is coupled to create an output node for partial rectification stage 14B. The output node of partial rectification stage 14B is coupled to both the gate and drain of load transistor 28 of inverter circuit 16A. Hence, the circuit of FIG. 3 substantially corresponds to the circuitry of FIG. 2, but includes a transistor-based partial rectification stage 14B. Transistor 34 may be a thin film field effect transistor (FET), and may be based on an amorphous or polycrystalline inorganic or organic semiconducting material, or a combination of both.

Again, the use of a partially rectified power waveform to power thin film transistor- based logic circuitry, such as inverter 16A in FIGS. 2 and 3, can support satisfactory device performance for a variety of applications, while enhancing long-term stability of the circuitry.

For example, when inverter 16A is powered by a partially rectified ac waveform, the inverter may exhibit satisfactory performance characteristics relative to dc-powered inverters. Also, operation of inverter 16A with a partially rectified ac waveform eliminates the need for an ac- dc full wave rectification stage.

As shown in FIG. 3, the gate and drain of load transistor 28 are coupled to receive the partially rectified ac waveform produced by partial rectification stage 14B. In particular, the gate and drain of load transistor 28 are both coupled to the source of transistor 34. The drain of drive transistor 30 is coupled to the source of load transistor 28, and the source of the drive transistor is coupled to ground. Signal source 18 generates a logic signal to drive the gate of drive transistor 30.

In response, inverter 16A produces an inverted output 20, which may be output across a load capacitor 22. Load capacitor 22 may serve to filter out some of the ac voltage present at the inverted output 20 and provides for a cleaner output logic signal. The amount of filtering depends on the capacitance of load capacitor 22 and the frequency of the ac power. Load capacitor 22 may be formed by an input capacitance produced by gate/source overlap within a logic gate coupled to output 20 in the event inverter 16A is coupled to drive one or more additional logic gates.

The gate/source overlap may be controlled during manufacture of a drive transistor in a subsequent logic gate to produce a desired level of capacitance in load capacitor 22.

Alternatively, load capacitor 22 may be formed independently, particularly if output 20 does not drive another logic gate.

In some embodiments, load transistor 28 may have a gate width to gate length ratio that is greater than or equal to a gate width to gate length ratio of the drive transistor 30. In this case, direct current (dc) powering of the circuit could result in inferior operation of the logic gate, for NMOS or PMOS designs, because of the reduced gain. NMOS or PMOS ring oscillators based on this design, for example, would be unstable. An added benefit of having the gate width to gate length ratio of load transistor 28 greater or equal to the gate width to gate length ratio of drive transistor 30 is that the total circuit area is reduced.

Notably, although the inverted output 20 may be filtered by load capacitor 22, the input power waveform applied to inverter 16A generally is not. In particular, the partially rectified ac waveform produced by partial rectification stage 14B is not filtered to an extent sufficient to produce a primarily dc signal for inverter 16A. Rather, the partially rectified waveform produced by partial rectification stage 14B includes a substantial ac component.

In some embodiments, a relatively small filtering capacitor may be coupled between the source of transistor 34 and ground, but the capacitance is generally insufficient to entirely filter out variation in the partially rectified waveform due to non-rectified portions of the ac power waveform produced by ac power supply 12. In particular, portions of the partially rectified waveform that are coincident with the non-rectified negative half cycles produced by ac power supply 12 will still present substantial variation in partially rectified waveform. In this manner, the large filtering capacitor ordinarily provided in a full-wave or half-wave rectification stage can be eliminated or reduced in size so that the overall size of the circuit or electronic device can be reduced.

FIGS. 4A, 4B and 4C are graphs conceptually illustrating an ac power waveform and exemplary partially rectified ac power waveforms. FIG. 4A depicts an ac power waveform 21 produced by ac power supply 12. As shown in FIG. 4A, the ac power waveform is substantially sinusoidal and includes positive half cycles 23,25 and negative half cycles 27.

In accordance with the invention, a partial rectification stage 14 partially rectifies the ac power waveform 21 to produce a partially rectified ac waveform, e. g. , as depicted in FIG. 4B or 4C.

In the example of FIG. 4B, partial rectification stage 14 produces a partially rectified ac power waveform 29A, essentially by half-wave rectification without sufficient capacitive filtering to produce a primarily dc signal. Instead, partially rectified ac power waveform 29A includes positive half cycle 31 and positive half cycle 33, but eliminates any negative half cycles and drops to a reference voltage level. Hence, according to the example of FIG. 4B, partial rectification stage 14 may include substantially no capacitive filtering. As a result, the partially rectified waveform 29A essentially preserves, in half cycles 31,33, the waveform characteristics of the positive half cycles 23,25 of the ac power waveform 21. Line 130 represents the average dc voltage, and is insufficient to power the circuit.

In the example of FIG. 4C, partial rectification stage 14 produces a partially rectified ac power waveform 29B with positive half cycles 35,37. In addition, partial rectification stage 14 may include a limited amount of capacitive filtering that creates an exponential tail off 39,41 following each half cycle 35,37. The peaks of half-cycles 35 and 37 represent sufficient voltages to power the circuit. The capacitive filtering, in some embodiments, may be provided by a capacitor placed between an output of partial rectification stage 14 and ground.

As shown in FIG. 4C, the capacitance is insufficient to produce a primarily dc power signal.

Rather, the partially rectified waveform 29B may preserve a substantial ac component of the original ac power supply waveform 21 (FIG. 4A) produced by ac power supply 12. Line 131 represents the average dc voltage, and is insufficient to power the circuit.

For some applications, powering a logic circuit 16 with a partially rectified ac waveform eliminates the need for a full wave or half-wave ac-dc rectification stage that produces a dc component sufficient to power the circuit. Instead, a power source may include a relatively simple partial rectification stage 14. As illustrated in FIGS. 2 and 3, a partial rectification stage 14 may be realized by a diode, a transistor, or the like, without the need for a large filtering capacitor. In this manner, the invention may reduce the manufacturing time, expense, cost, complexity, and size of the component carrying the logic circuitry powered by the partially rectified ac power waveform.

Logic circuitry powered by a partially rectified ac power waveform may be used in a variety of electronic devices. As one example, such logic circuitry may be especially useful in applications directed to radio frequency (RFID) tags in which an ac waveform is induced by radio frequency coupling. The ac waveform can be partially rectified to power some or all of the electronic logic circuitry carried by the RFID tag. By eliminating circuitry ordinarily required by a full-wave or half-wave rectifier, including the sizable capacitor often used with a half-wave rectifier, the size of the RFID tag may be significantly reduced. Similar size reductions may be achieved in other types of electronic devices.

FIG. 5 is a circuit diagram illustrating a thin film transistor-based NAND gate circuit 38 powered by a partially rectified ac waveform generated by a half-wave diode-based partial rectification stage 14A. As shown in FIG. 5, a NAND gate 40 includes a load transistor 28 and drive transistors 30A, 30B. The gate and drain of load transistor 28 are coupled to the output of partial rectification stage 14A, which includes a diode 26.

The drain of first drive transistor 30A is coupled to the source of load transistor 28.

The drain of second drive transistor 30B is coupled to the source of first drive transistor 30A.

The source of second drive transistor 30B is coupled to ground. First and second signal sources 18A, 18B drive the gates of drive transistors 30A, 30B, respectively. In response, transistors 28,30A, 30B form a NAND gate 40 that produces a logical NAND output 20.

NAND circuit 40 of FIG. 5 is operative in response to the partially rectified ac power waveform produced by diode 26. In particular, the partially rectified ac power waveform is coupled directly to NAND gate 40. In some embodiments, a load capacitor may be coupled across output 20. The load capacitor may be formed independently or realized by the input capacitance of a logic gate driven by output 20 of NAND gate 40. Also, a filtering capacitor may be placed between the cathode of diode 26 and ground, provided that the resulting capacitance is insufficient to produce a primarily dc power signal.

FIG. 6 is a circuit diagram illustrating a NAND gate circuit 42 powered by a partially rectified ac waveform generated by a half-wave transistor-based partial rectification stage 14B. NAND gate circuit 42 includes NAND gate 40 and corresponds substantially to NAND circuit 38 of FIG. 5, but incorporates a transistor-based partial rectification stage 14B with transistor 34.

Transistor-based partial rectification stage 14B may be identical to partial rectification stage 14B of FIG. 3. As in the example of FIG. 5, a load capacitor may be coupled across output 20 in circuit 42 of FIG. 6. In addition, a filtering capacitor may be placed between the output of partial rectification 14B and ground, provided that the resulting capacitance is insufficient to produce a primarily dc power signal.

FIG. 7 is a circuit diagram illustrating a thin film transistor-based NOR gate circuit 44 with a NOR gate 46 powered by a partially rectified ac waveform. FIG. 7 represents another example of a thin film transistor-based logic circuit that operates with a partially rectified ac waveform produced by a partial rectification stage 14. As shown in FIG. 7, transistors 28, 50A, and 50B form NOR gate 46. The drains of first and second drive transistors 50A, 50B are coupled to the source of load transistor 28, and to output 20.

The sources of first and second drive transistors 50A, 50B are coupled to ground. First and second signal sources 48A, 48B drive the gates of drive transistors 50A, 50B, respectively. In response, NOR gate 46 produces a logical NOR output 20. NOR circuit 46 is operative in response to the partially rectified ac power waveform delivered by partial rectification stage 14. In some embodiments, a load capacitor may be coupled across logical NOR output 20. Again, the load capacitor may be formed independently or realized by the input capacitance of a logic gate driven by output 20 of NOR circuit 44.

FIGS. 8 and 9 are circuit diagrams illustrating ac-powered thin film transistor-based ring oscillator circuits 51,53, respectively. Ring oscillator circuits 51 and 53 are examples of another circuit that can be implemented using logic gates powered by a partially rectified ac power waveform, e. g. , including inverter stages based on OTFTs, which may be formed on flexible substrates. As shown in FIGS. 8 and 9, ring oscillator circuits 51 and 53 include an odd number of inverter stages arranged in series. In the example of FIGS. 8 and 9, ring oscillator circuits 51 and 53 include seven inverter stages 52A-52G having, respectively, load transistors 54A-54G and drive transistors 56A-56G, respectively.

Each transistor 54 and 56 in ring oscillator circuits 51 and 53 is a thin film field effect transistor powered by a partially rectified ac waveform. For example, ac power source 12 delivers ac power to partial rectification stage 14B. In the examples of FIGS. 8 and 9, partial rectification stage 14B is a transistor-based partial rectification stage, although a diode- based partial rectification stage or other configuration may be used. The source of transistor 34 in partial rectification stage 14B is coupled to drive the common gate-drain node of load transistor 54A in first inverter stage 52A. In the example of FIG. 8, a filtering capacitor 55 may optionally be provided in ring oscillator circuit 51A between the output of partial rectification stage 14B and ground. In FIG. 9, a filtering capacitor 55 is not provided in ring oscillator circuit 51B.

In the example of FIGS. 8 and 9, each inverter stage 52A-G has an output that is optionally coupled across a respective load capacitor 58A-58G. For example, the output of inverter stage 52A may be coupled across load capacitor 58B, and the output of inverter stage 52G may be coupled across load capacitor 58A. In other embodiments, load capacitors 58 may be omitted. Each capacitor 58 may be formed by the input capacitance produced by gate/source overlap within a drive transistor 56 of a subsequent inverter stage 52 that is driven by the output of a respective inverter stage.

The output 60 of final inverter stage 52G is coupled to the gate of drive transistor 56A in first inverter stage 52A to provide feedback. Ring oscillator circuit 51,53 of FIGS. 8 and 9 operates in response to the partially rectified ac power supply waveform delivered by partial rectification stage 14B. During operation, ring oscillator circuit 51 provides a clock signal.

For example, the output of each inverter stage 52 in ring oscillator circuit 51,53 can be tapped to provide a clock signal with a desired phase.

In general, the output waveform produced by ring oscillator circuit 51,53 will have a frequency that is dependent on the number of inverter stages 52 and the propagation delays produced by the individual inverter stages. The propagation delay is inversely related to the voltage of the partially rectified ac waveform applied to ring oscillator circuit 51,53 and the mobility of the semiconducting material, and proportional to any applicable parasitic or external capacitance present in inverter stages 52.

Operation of thin film transistor circuitry, such as ring oscillator circuits 51,53, may be possible with high ac power supply frequencies. Functioning ring oscillator circuits that conform substantially to circuits 51,53 may operate, for example, with ac power supply frequencies on the order of several hundred kHz to 6 MHz or higher. With increased semiconductor mobility, it may be reasonable to expect use of ring oscillator circuits, powered by partially rectified ac power waveforms as described herein, with ac power supply frequencies of greater than 10 MHz.

FIG. 10 is a block diagram illustrating application of thin film transistor-based circuitry powered by a partially rectified ac power waveform in an RFID tag/reader system 66.

Use of ac-powered thin film transistor-based circuitry may be particularly desirable in an RFID tag for a number of reasons, as will be described. As shown in FIG. 10, a RFID tag system 66 may include a reader unit 68 and an RFID tag 70.

Reader unit 68 may include a radio frequency (RF) source 74 and a reader 72. RF source 74 transmits RF energy to RFID tag 70 to provide a source of power. In this manner, RFID tag 70 need not carry an independent power supply, such as a battery. Instead, RF1D tag 70 is powered across a wireless air interface between reader unit 68 and the RFID tag. To that end, reader unit 68 includes an inductor 76 that serves, in effect, as an antenna to transmit and receive RF energy.

As further shown in FIG. 10, RFID tag 70 may include an ac power source 73. As will be explained, ac power source 73 may serve to convert RF energy transmitted by reader unit 68 into ac power for delivery to thin film transistor circuitry carried by RFID tag 70. RFID tag 70 may receive the RF energy from reader unit 68 via an inductor 78 that serves as a receiver.

Inductor 78 serves as a radio frequency (RF) energy coupling device to provide an ac power waveform for ac power source 73 based on RF energy absorbed from RF energy transmitted by reader unit 68. A capacitor (not shown) also may be provided in parallel with inductor 78, if desired.

A partial rectification stage 80 receives an ac waveform from inductor 78 and produces a partially rectified ac waveform to power digital logic circuitry within RFID tag 70.

RFID tag 70 further includes a modulation output inverter 82, an output buffer circuit 84, control logic 86, clock circuit 88 and data circuit 90, one or more of which may be formed by an arrangement of thin film transistor circuitry.

Clock 88 drives control logic circuit 86 to output data from data circuit 90, which may comprise a plurality of data lines carrying an identification code. Output buffer 84 buffers the output from control logic 86. Modulation inverter 82, in turn, modulates the buffered output for interpretation by reader unit 68 via inductors 76,78. For example, modulation inverter 82 conveys the information by modulating the signal applied across inductor 78.

FIG. 11 is a circuit diagram further illustrating the RFID tag/reader system 66 of FIG. 10. As shown in FIG. 11, RF source 74 may include an ac generator 92 that transmits an ac output signal via inductor 76. For some applications, ac generator 92 may take the form of a sinusoidal current source with an output of approximately 0 to 5 amps at a frequency of approximately 125 kHz.

Inductors 76 and 78 form a transformer for electromagnetic coupling of RF energy between RF source and RFID tag 70. Resistor 94 is selected to limit current. A capacitor 96 may be placed in parallel with inductor 78 within power source 73 to form a parallel resonant tank that governs the frequency of the power source according to the equation: where L is the inductance of inductor 78 and C is the capacitance of capacitor 96.

With an inductance of 50 pE and a capacitance of 32 nF, inductor 78 and capacitor 96 generate a resonant frequency of approximately 125 KHz. Hence, in this example, the output of ac power source 73 is a sinusoidal waveform with a frequency of approximately 125 kHz. This waveform produced by inductor 78 is partially rectified by partial rectification stage 80 to produce a partially rectified ac power waveform as the output of power source 73.

The partially rectified ac power waveform is then applied to clock circuit 88, control logic 86, data lines 90, output buffer 84, and modulation inverter 82 as represented in FIG. 11 by the terminals POWER and COMMON.

FIG. 11 depicts an RFID tag 70 that carries an n-bit identification code. For ease of illustration, RFID tag 70 carries a 7-bit identification code specified by data lines 70. In many applications, RFID tag 70 may carry a much larger identification code, e. g., 31-bit, 63-bit or 127-bit codes. In some embodiments, selected data lines 90 may carry information used for start bit identification, data stream synchronization and error checking. In the example of FIG.

11, clock circuit 88 is a ring oscillator formed by a series of seven inverter stages arranged in a feedback loop.

The ring oscillator of FIG. 11 may be similar to ring oscillator 51 or 53 of FIGS. 8 and 9. The outputs of two successive inverters are applied to a respective NOR gate provided in control logic 86. In this way, seven NOR gates are used to generate a sequence of seven pulses within each clock cycle produced by the ring oscillator. Note that the number of NOR gates in control logic 86 may vary. Again, this arrangement could be extended, in principle, to larger numbers of bits, e. g. , n=31,63 or 127.

Switches shown in series with data lines 90 are connected to respective NOR gate outputs at one end. If a switch is closed, the respective data line couples the NOR gate output to ground If the switch is open, the NOR gate output is coupled as one of the inputs to a 7- input OR gate within control logic 86.

In the example of FIG. 11, the switches for second and fourth data lines (from left to right) are closed. As a result, data lines 90 store the 7-bit identification code"1010111."The switches can be made, for example, from metal lines that extend from the NOR gate outputs to ground. The electrical connections to ground can be intentionally broken or connected during manufacturing to produce, in effect, an open switch, and thereby encode a unique identification code into data lines 90 of RFID tag 70. The electrical connections may be broken by a variety of manufacturing techniques such as, for example, laser etching, mechanical scribing, or electrical fusing.

The output of the 7-input OR gate in control logic 86 is applied to a cascade of buffer amplifiers in output buffer 84 to help match the output impedance of the logic circuitry to the input impedance of the modulation inverter 82. The output of the buffer amplifiers in output buffer 84 is applied to the input of the modulation inverter 76. Specifically, the signal TAG OUTPUT is applied to the gate of the drive transistor associated with modulation inverter 82. Modulation inverter 82 then modulates the Q of the tank formed by inductor 78 and capacitor 96 to provide amplitude modulation of the carrier signal. In this manner, the received buffer output is conveyed to reader unit 68 so that reader 72 can read the identification code. In particular, reader 72 processes the signal received at L_tap via inductor 76.

FIG. 12 is a circuit diagram further illustrating reader 72 associated with the RFID tag/reader system 68 of FIG. 10. Reader 72 receives, via L_tap, a signal containing the carrier <BR> <BR> signal, e. g. , at 125 kHz, modulated by the TAG OUTPUT signal, which may be on the order of 1 kHz, depending on the frequency of clock circuit 88. A low junction capacitance signal diode 102 is used to demodulate the signal. A low pass filter section 98 removes the carrier frequency, and may include inductor 104, capacitor 106, resistor 108, inductor 110, capacitor 112 and resistor 114. An amplifier stage 100 includes an amplifier 116 in a non-inverting configuration, with resistor 118 and feedback resistor 120 coupled to the inverting input.

FIG. 13 is a circuit diagram illustrating a thin film transistor-based inverter circuit 122 that is powered by a partially rectified ac power waveform to drive a liquid crystal (LC) display element 124. In the example of FIG. 13, inverter circuit 122 conforms substantially to inverter circuit 16A of FIGS. 2 and 3. However, the output of inverter 16 drives a liquid crystal display element 124. In particular, one electrode of liquid crystal display element 124 is coupled to the source of load transistor 28 and the drain of drive transistor 30. The other electrode of liquid crystal display element 124 is coupled to ground. As shown in FIG. 13, inverter circuit 16 is powered by partial rectification stage 14, and therefore receives at the common gate/drain connection of load transistor 28, a partially rectified ac power waveform.

In order to drive a full LCD, an inverter similar to inverter 16 may be provided for each element of the LCD.

FIG. 14 is a circuit diagram illustrating an ac-powered thin film transistor-based inverter circuit 126 that drives a light emitting diode (LED) 128. Inverter circuit 16 conforms substantially to inverter circuit 16A of FIGS. 2 and 3, but drives an LED 128. The cathode of LED 128 is coupled to the source of load transistor 28 and the drain of drive transistor 1308, and the anode of the LED is coupled to ground.

The invention can provide a number of advantages. For example, logic circuitry powered by a partially rectified ac waveform, and particularly OTFT-based logic circuitry, may exhibit satisfactory performance relative to dc-powered thin film transistor circuitry. In the case of a ring oscillator, for example, thin film transistor circuitry powered by a partially rectified ac waveform may maintain satisfactory oscillation amplitudes relative to dc-powered thin film transistor circuitry.

As an advantage, the use of a partially rectified ac power waveform to directly power logic circuitry may eliminate the need for a full wave rectifier component or half-wave rectifier component with a filtering capacitor otherwise required in many applications for delivery of dc power to the circuitry. Accordingly, by eliminating the need for a conventional rectifier component, the use of partially rectified ac power may reduce the manufacturing time, expense, cost, complexity, and size of components carrying thin film transistor circuitry.

For RFID tags, as a particular example, the use of ac-powered thin film circuitry may substantially reduce the cost and size of the tag by eliminating much of the components typically associated with an ac-dc rectifier stage, including diode or transistor bridges, and large filtering capacitors. By reducing the complexity of the rectifier stage, thin film logic circuitry powered by a partially rectified ac waveform can result in substantial cost and size savings in the design and manufacture of the RFID tag.

Thin film transistors useful in forming logic circuitry powered by a partially rectified ac waveform, as described herein, may take a variety of forms and may be manufactured using various manufacturing processes. For example, the thin film transistors may include organic semiconducting material, inorganic semiconducting material, or a combination of both. For some applications, organic and inorganic semiconducting materials can be used to form CMOS thin film transistor circuitry.

Thin film transistors useful in forming logic circuitry powered by a partially rectified ac waveform as described herein may include, without limitation, thin film transistors manufactured according to the techniques described in U. S. Patent Nos. 6,433, 359,6, 768,132 and 6,616, 609; U. S. Patent Publication Nos. 2003/0207505, published November 6,2003, 2003/0102471 Al published June 5,2003, 2003/0151118 Al, 2003/0150384 Al, and 2003/0152691 Al all published August 14,2003.

Various modification may be made without departing from the spirit and scope of the invention. For example, although specific examples of partial rectification stages have been described, other partial rectification stages may be provided to achieve similar partial rectification results. Moreover, a variety of logic circuitry may benefit from the use of a partially rectified waveform to power the logic circuitry. Accordingly, the examples described herein should not be taken as limiting of the scope of the invention. These and other embodiments are within the scope of the following claims.

「特表2007-515135およびWO2005062241より引用」

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[Claims] 集積回路の性能を調整するための装置および方法

【特許請求の範囲】
【請求項1】
プログラマブルロジックデバイス(PLD)であって、
遅延回路であって、該プログラマブルロジックデバイス(PLD)においてインプリメントされるユーザー回路の遅延を表すように構成された遅延を有する遅延回路と、
ボディバイアスジェネレータであって、該遅延回路の伝播遅延から引き出されたレベルに応答する該ユーザー回路内のトランジスタのボディバイアスを調整するように構成されたボディバイアスジェネレータと
を備える、プログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項2】
前記遅延回路は、組み合わせロジックを備える、請求項1に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項3】
前記遅延回路は、少なくとも一つのロジック遅延要素および少なくとも一つのルーティング遅延要素を備える、請求項1に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項4】
前記少なくとも一つのロジック遅延要素および前記少なくとも一つの遅延要素は、前記プログラマブルロジックデバイス(PLD)内のプログラマブル回路網を使用してインプリメントされる、請求項3に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項5】
位相比較器であって、前記遅延回路の入力に印加される基準信号に応答する該遅延回路の出力信号の位相と該基準信号の位相を比較するように構成された位相比較器をさらに備える、請求項1に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項6】
前記比較器は第1の出力信号および第2の出力信号を供給するようにさらに構成された、請求項5に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項7】
前記第1の出力信号に応答して、前記ボディバイアスジェネレータは、前記トランジスタの動作をスピードアップするように該トランジスタの該ボディバイアスを調整する、請求項6に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項8】
前記第2の出力信号に応答して、前記ボディバイアスジェネレータは、前記トランジスタの動作をスローダウンするように該トランジスタの該ボディバイアスを調整する、請求項6に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項9】
前記遅延回路は、構成可能遅延回路を備える、請求項5に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項10】
前記構成可能遅延回路の前記伝播遅延は、構成可能である、請求項9に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項11】
前記ユーザー回路は、少なくとも一つのプログラマブルロジック要素および少なくとも一つのプログラマブル相互接続要素を備える、請求項1に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項12】
プログラマブルロジックデバイス(PLD)であって、
該プログラマブルロジックデバイス(PLD)においてインプリメントされるユーザー回路の伝播遅延を表す遅延を生成するための手段と、
該生成された遅延に従って少なくとも一つの信号を引き出すための手段と、
該少なくとも一つの信号に応答して該ユーザー回路にあるトランジスタのボディバイアスをプログラムするための手段と
を備える、プログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項13】
前記ユーザー回路の前記トランジスタは、プログラマブルロジック要素内にある、請求項12に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項14】
前記ユーザー回路の前記トランジスタは、プログラマブル相互接続要素内にある、請求項12に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項15】
前記遅延を生成するための手段によって生成される該遅延は調整可能である、請求項12に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項16】
前記遅延の調整は、前記少なくとも一つの信号における変化を引き起こす、請求項15に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項17】
少なくとも一つの信号を引き出すための前記手段は、前記トランジスタの前記ボディバイアスをプログラムするための該手段が該トランジスタをスピードアップさせるようにして、該少なくとも一つの信号を引き出す、請求項16に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項18】
少なくとも一つの信号を引き出すための前記手段は、前記トランジスタの前記ボディバイアスをプログラムするための該手段が該トランジスタをスローダウンさせるようにして、該少なくとも一つの信号を引き出す、請求項16に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項19】
プログラマブルロジックデバイス(PLD)であって、
基準トランジスタであって、該プログラマブルロジックデバイス(PLD)における回路に関係した電流を供給するように構成された該基準トランジスタと、
電流測定回路であって、該基準トランジスタによって供給された該電流を測定し、測定された電流信号を供給するように構成された該測定回路と、
ボディバイアスジェネレータであって、該測定された電流信号からの少なくとも一つのボディバイアス信号を引き出すように構成され、該ボディバイアスジェネレータは、該少なくとも一つのボディバイアス信号を該プログラマブルロジックデバイス(PLD)における回路に供給するようにさらに構成される該ボディバイアスジェネレータと
を備える、プログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項20】
前記電流測定回路および前記ボディバイアスジェネレータに結合された比較器であって、該比較器は、前記測定された電流信号を基準信号と比較することによって、信号を引き出すように構成され、該比較器は、該信号を該ボディバイアスジェネレータへ供給するようにさらに構成された比較器
をさらに備える、請求項19に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項21】
前記比較器と前記ボディバイアスジェネレータとの間において結合されたフィルタをさらに備える、請求項20に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項22】
前記フィルタは、積分器を備える、請求項21に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項23】
前記電流測定回路は、電流ミラーを備え、該電流ミラーは、前記基準トランジスタによって供給された前記電流を増幅し、増幅された電流を供給するように構成された、請求項20に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項24】
前記測定回路は、電流計数回路をさらに備え、該電流計数回路は、前記増幅された電流を測定するように構成される、請求項23に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項25】
前記比較器は、構成可能な比較器を備える、請求項20に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項26】
前記電流測定回路および前記ボディバイアスジェネレータに結合された第1および第2の比較器であって、該第1および該第2の比較器は、前記測定された電流信号を該第1および該第2の基準信号と比較することによって一対の信号を引き出すように構成され、該第1および該第2の比較器は、該一対の信号を該ボディバイアスジェネレータへ供給するようにさらに構成された第1および第2の比較器
をさらに備える、請求項19に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項27】
前記第1および前記第2の電流基準信号は、それぞれ、より低いリーク値およびより高いリーク値に対応する、請求項20に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項28】
前記第1および第2の比較器に結合されたカウンタであって、該カウンタは、該第1および該第2の比較器によって供給される一対の信号に応答しカウントするように構成され、該カウンタは、カウント値を前記ボディバイアスジェネレータへ供給するようにさらに構成されたカウンタ
をさらに備える、請求項27に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項29】
前記第1の比較器は、構成可能な比較器を備え、前記第2の比較器は、構成可能な比較器を備える、請求項28に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項30】
前記プログラマブルロジックデバイス(PLD)内の前記回路は、プログラマブルロジックを備える、請求項19に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項31】
前記プログラマブルロジックデバイス(PLD)内の前記回路は、プログラマブルロジック相互接続を備える、請求項30に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項32】
前記測定された電流信号は、リーク電流信号を備える、請求項19に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項33】
前記測定された電流信号は、トランジスタの閾値電圧(VT)から引き出された電流を備える、請求項19に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項34】
前記測定された電流信号は、トランジスタの飽和電流(Idsat)を備える、請求項19に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項35】
プログラマブルロジックデバイス(PLD)であって、
回路におけるリーク電流を得る手段と、
該リーク電流を測定することによって、測定されたリーク電流を生成する手段と、
該測定されたリーク電流に応答して該回路におけるトランジスタのボディバイアスをプログラムするための手段と
を備える、プログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項36】
リーク電流を得るための前記手段は、前記回路にある、請求項35に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項37】
前記測定されたリーク電流を少なくとも一つのリーク基準信号と比較するための手段をさらに備える、請求項35に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項38】
比較するための前記手段は、少なくとも一つの出力信号を前記ボディバイアスジェネレータへ供給する、請求項37に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項39】
比較のための前記手段の前記少なくとも一つの出力信号を処理することによって、少なくとも一つの処理された信号を生成するため、および、該少なくとも一つの処理された信号を前記ボディバイアスジェネレータへ供給するための手段をさらに備える、請求項38に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項40】
前記測定されたリーク電流を比較するための前記手段は、該測定されたリーク電流を第1および第2のリーク基準信号と比較し、該第1および第2のリーク基準信号は、前記回路におけるリーク電流の所望の範囲に対応する、請求項37に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項41】
複数のユーザー回路であって、該ユーザー回路の各々は、プログラマブルロジックデバイス(PLD)においてインプリメントされるユーザー回路と、
複数のボディバイアスジェネレータであって、該複数のボディバイアスジェネレータにおける少なくとも一つのボディバイアスジェネレータは、該複数のユーザー回路における少なくとも一つのユーザー回路内のトランジスタのボディバイアスを選択的に調整するように構成されている複数のボディバイアスジェネレータと
を備える、プログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項42】
前記複数のボディバイアスジェネレータにおける前記少なくとも一つのボディバイアスジェネレータは、前記複数のユーザー回路における該少なくとも二つのユーザー回路の各々内のトランジスタのボディバイアスを選択的に調整するようにさらに構成される、請求項41に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項43】
前記複数のボディバイアスジェネレータにおける各ボディバイアスジェネレータは、前記複数のユーザー回路における対応するユーザー回路内のトランジスタのボディバイアスを選択的に調整するように構成される、請求項42に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項44】
前記複数のユーザー回路の各々における前記トランジスタの前記ボディバイアスは、個々のレベルに調整される、請求項43に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項45】
前記トランジスタの前記ボディバイアスは、動作速度とワット損をトレードオフするように調整される、請求項41に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項46】
前記トランジスタの前記ボディバイアスは、動作速度とリーク電流をトレードオフするように調整される、請求項41に記載のプログラマブルロジックデバイス(PLD)。
【請求項47】
電子回路をインプリメントするためのプログラマブルロジックデバイス(PLD)を使用する方法であって、
設計を生成するために、該電子回路を該プログラマブルロジックデバイス(PLD)内の機能リソースにマッピングするステップと、
該生成された設計の少なくとも一つの部分内の信号伝播遅延を表す遅延からボディバイアス値を引き出すステップと、
該生成された設計の該少なくとも一つの部分内の少なくとも一つのトランジスタのボディバイアスレベルを該ボディバイアス値へプログラムするステップと
を包含する、方法。
【請求項48】
前記電子回路を前記プログラマブルロジックデバイス(PLD)内の機能リソースへのマッピングすることは、該電子回路の少なくとも一部分を該プログラマブルロジックデバイス(PLD)内のプログラマブルロジックリソースにマッピングすることをさらに包含する、請求項47に記載の方法。
【請求項49】
前記電子回路を前記プログラマブルロジックデバイス(PLD)内の機能リソースへのマッピングすることは、該電子回路の少なくとも一部分を該プログラマブルロジックデバイス(PLD)内のプログラマブルロジックリソースにマッピングすることをさらに包含する、請求項47に記載の方法。
【請求項50】
前記生成された設計の少なくとも一部分内の信号伝播遅延を表す遅延からボディバイアス値を引き出すステップは、該遅延を既知の期間と比較することをさらに包含する、請求項47に記載の方法。
【請求項51】
前記遅延は、調整可能である、請求項50に記載の方法。
【請求項52】
前記遅延は、前記プログラマブルロジックデバイス(PLD)内においてインプリメントされるロジック回路によって生成される、請求項47に記載の方法。
【請求項53】
プログラマブルロジック回路(PLD)内において実施される回路におけるトランジスタのリークレベルを調整する方法であって、
該トランジスタのリーク電流を表す電流を得るステップと、
該得られた電流からボディバイアスレベルを引き出すステップと、
該トランジスタの該ボディバイアスレベルを該引き出されたボディバイアスレベルへ調整するステップと
を包含する、方法。
【請求項54】
前記トランジスタのリーク電流を表す電流を得るステップは、前記回路におけるリーク電流の測定するステップをさらに包含する、請求項53に記載の方法。
【請求項55】
前記得られた電流からボディバイアスレベルを引き出すステップは、該得られた電流を少なくとも一つのリーク基準値と比較し、少なくとも一つのエラー信号を生成するステップをさらに包含する、請求項53に記載の方法。
【請求項56】
前記得られた電流からボディバイアスレベルを引き出すステップは、前記少なくとも一つのエラー信号から該ボディバイアスレベルを引き出すステップをさらに包含する、請求項55に記載の方法。
【請求項57】
前記得られた電流からボディバイアスレベルを引き出す方法であって、
前記少なくとも一つのエラー信号を濾過し、濾過された信号を生成するステップと、
該濾過した信号からボディバイアスレベルを引き出すステップと
をさらに包含する、請求項56に記載の方法。
【請求項58】
前記得られた電流と少なくとも一つのリーク基準値と比較するステップは、該得られた電流を第1および第2のリーク基準値との比較するステップをさらに包含し、該第1および第2の基準値は前記トランジスタのリーク電流の範囲を規定する、請求項55に記載の方法。
【請求項59】
プログラマブルロジック回路(PLD)における少なくとも一つの回路領域におけるユーザーの回路を実現する方法であって、
該回路領域における少なくとも一つのトランジスタ用のボディバイアスレベルを選択するステップと、
プログラマブルロジックデバイス(PLD)内の該回路領域の初期配置を生成するステップと、
既存のボディバイアスレベルおよび配置が所定の性能基準を満たさない場合、該回路領域における該少なくとも一つのトランジスタに印加されるべき該ボディバイアスレベルを少なくとも1回別のレベルに変更するステップと
を包含する、方法。
【請求項60】
前記既存のバイアスレベルおよび配置が所定の性能基準を満たさない場合、該ボディバイアスの新しいレベルから引き出された遅延推定を使用することによって、前記回路領域のタイミングを少なくとも1回分析するステップをさらに包含する、請求項59に記載の方法。
【請求項61】
前記既存のバイアスレベルおよび配置が所定の性能基準を満たさない場合、前記プログラマブルロジックデバイス(PLD)内の前記回路領域の該配置を少なくとも1回改善するステップをさらに包含する、請求項60に記載の方法。
【請求項62】
前記既存のバイアスレベルおよび配置が所定の性能基準を満たす場合、前記回路領域の該現在の配置およびバイアスレベルを記録するステップをさらに包含する、請求項61に記載の方法。
【請求項63】
前記所定の性能基準は、タイミング基準を備える、請求項59に記載の方法。
【請求項64】
前記所定の性能基準は、電力基準を備える、請求項59に記載の方法。

We claim:

1. A programmable logic device (PLD), comprising: a delay circuit, the delay circuit having a delay configured to represent a delay of a user circuit implemented in the programmable logic device (PLD); and a body-bias generator, the body-bias generator configured to adjust a body bias of a transistor within the user circuit in response to a level derived from a propagation delay of the delay circuit.

2. The programmable logic device (PLD) according to claim 1, wherein the delay circuit comprises combinational logic.

3. The programmable logic device (PLD) according to claim 1, wherein the delay circuit comprises at least one logic delay element and at least one routing delay element.

4. The programmable logic device (PLD) according to claim 3, wherein the at least one logic delay element and the at least one delay element are implemented using programmable circuitry in the programmable logic device (PLD). 5. The programmable logic device (PLD) according to claim 1, further comprising a phase comparator, the phase comparator configured to compare a phase of an output signal of the delay circuit in response to a reference signal applied to an input of the delay circuit, and a phase of the reference signal.

6. The programmable logic device (PLD) according to claim 5, wherein the comparator is further configured to provide a first output signal and a second output signal.

7. The programmable logic device (PLD) according to claim 6, wherein, in response to the first output signal, the body-bias generator adjusts the body bias of the transistor so as to speed up an operation of the transistor.

8. The programmable logic device (PLD) according to claim 6, wherein, in response to the second output signal, the body-bias generator adjusts the body bias of the transistor so as to slow down an operation of the transistor.

9. The programmable logic device (PLD) according to claim 5, wherein the delay circuit comprises a configurable delay circuit. 10. The programmable logic device (PLD) according to claim 9, wherein the propagation delay of the configurable delay circuit is configurable.

11. The programmable logic device (PLD) according to claim 1, wherein the user circuit comprises at least one programmable logic element and at least one programmable interconnect element.

12. A programmable logic device (PLD), comprising: means for generating a delay that is representative of a propagation delay of a user circuit implemented in the programmable logic device (PLD); means for deriving at least one signal according to the generated delay; and means for programming a body-bias of a transistor in the user circuit in response to the at least one signal.

13. The programmable logic device (PLD) according to claim 12, wherein the transistor in the user circuit resides in a programmable logic element.

14. The programmable logic device (PLD) according to claim 12, wherein the transistor in the user circuit resides in a programmable interconnect element. 15. The programmable logic device (PLD) according to claim 12, wherein the delay generated by the means for generating the delay is adjustable.

16. The programmable logic device (PLD) according to claim 15, wherein adjusting the delay causes a change in the at least one signal.

17. The programmable logic device (PLD) according to claim 16, wherein the means for deriving at least one signal derives the at least one signal so as to cause the means for programming the body-bias of the transistor to speed up the transistor.

18. The programmable logic device (PLD) according to claim 16, wherein the means for deriving at least one signal derives the at least one signal so as to cause the means for programming the body-bias of the transistor to slow down the transistor.

19. A programmable logic device (PLD), comprising: a reference transistor, the reference transistor configured to provide a current related to a circuit in the programmable logic device (PLD); a current measurement circuit, the measurement circuit configured to measure the current provided by the reference transistor to provide a measured current signal; and a body-bias generator, the body-bias generator configured to derive at least one body-bias signal from the measured current signal, the body-bias generator further configured to provide the at least one body-bias signal to the circuit in the programmable logic device (PLD).

20. The programmable logic device (PLD) according to claim 19, further comprising a comparator coupled to the current measurement circuit and to the body-bias generator, the comparator configured to derive a signal by comparing the measured current signal with a reference signal, the comparator further configured to provide the signal to the body-bias generator.

21. The programmable logic device (PLD) according to claim 20, further comprising a filter coupled between the comparator and the body-bias generator.

22. The programmable logic device (PLD) according to claim 21, wherein the filter comprises an integrator.

23. The programmable logic device (PLD) according to claim 20, wherein the current measurement circuit comprises a current mirror, the current mirror configured to amplify the current provided by the reference transistor to provide an amplified current. 24. The programmable logic device (PLD) according to claim 23, wherein the current measurement circuit further comprises a current scaling circuit, the current scaling circuit configured to scale the amplified current.

25. The programmable logic device (PLD) according to claim 20, wherein the comparator comprises a configurable comparator.

26. The programmable logic device (PLD) according to claim 19, further comprising first and second comparators coupled to the current measurement circuit and to the body- bias generator, the first and second comparators configured to derive a pair of signals by comparing the measured current signal with first and second current reference signals, the first and second comparators further configured to provide the pair of signals to the body-bias generator.

27. The programmable logic device (PLD) according to claim 20, wherein the first and second current reference signals correspond, respectively, to a lower leakage value and a higher leakage value.

28. The programmable logic device (PLD) according to claim 27, further comprising a counter coupled to the first and second comparators, the counter configured to count in response to the pair of signals provided by the first and second comparators, the counter further configured to provide a count value to the body-bias generators. 29. The programmable logic device (PLD) according to claim 28, wherein the first comparator comprises a configurable comparator, and wherein the second comparator comprises a configurable comparator.

30. The programmable logic device (PLD) according to claim 19, wherein the circuit in the programmable logic device (PLD) comprises programmable logic.

31. The programmable logic device (PLD) according to claim 30, wherein the circuit in the programmable logic device (PLD) comprises programmable interconnect.

32. The programmable logic device (PLD) according to claim 19, wherein the measured current signal comprises a leakage current signal.

33. The programmable logic device (PLD) according to claim 19, wherein the measured current signal comprises a current derived from a threshold voltage (Vf) of a transistor.

34. The programmable logic device (PLD) according to claim 19, where in the measured current signal comprises a saturation current (Idsat) of a transistor. 35. A programmable logic circuit (PLD), comprising: means for obtaining a leakage current in a circuit; means for generating a measured leakage current by measuring the leakage current; and means for programming a body-bias of a transistor in the circuit in response to the measured leakage current.

36. The programmable logic circuit (PLD) according to claim 35, wherein the means for obtaining a leakage current resides in the circuit.

37. The programmable logic circuit (PLD) according to claim 35, further comprising means for comparing the measured leakage current to at least one leakage reference signal.

38. The programmable logic circuit (PLD) according to claim 37, wherein the means for comparing provides at least one output signal to the body-bias generator.

39. The programmable logic circuit (PLD) according to claim 38, further comprising means for generating at least one processed signal by processing the at least one output signal of the means for comparing, and for providing the at least one processed signal to the body-bias generator. 40. The programmable logic circuit (PLD) according to claim 37, wherein the means for comparing the measured leakage current compares the measured leakage current to first and second leakage reference signals, and wherein the first and second reference signals correspond to a desired range of leakage currents in the circuit.

41. A programmable logic device (PLD), comprising: a plurality of user circuits, each of the user circuits implemented in the programmable logic device (PLD); and a plurality of body-bias generators, wherein at least one body-bias generator in the plurality of body-bias generators is configured to selectively adjust a body bias of a transistor within at least one user circuit in the plurality of user circuits.

42. The programmable logic device (PLD) according to claim 41, wherein the at least one body-bias generator in the plurality of body-bias generators is further configured to selectively adjust a body bias of a transistor within each of at least two user circuits in the plurality of user circuits.

43. The programmable logic device (PLD) according to claim 42, wherein each body- bias generator in the plurality of body-bias generators is configured to selectively adjust a body bias of a transistor within a corresponding user circuit in the plurality of user circuits. 44. The programmable logic device (PLD) according to claim 43, wherein the body bias of the transistor in each of the plurality of user circuits is adjusted to an individual level.

45. The programmable logic device (PLD) according to claim 41, wherein the body bias of the transistor is adjusted so as to trade off speed of operation for power dissipation.

46. The programmable logic device (PLD) according to claim 41, wherein the body bias of the transistor is adjusted so as to trade off speed of operation for leakage current.

47. A method of using a programmable logic device (PLD) to implement an electronic circuit, the method comprising: mapping the electronic circuit to functional resources within the programmable logic device (PLD) to generate a design; deriving a body-bias value from a delay representative of a signal propagation delay within at least one portion of the generated design; and programming a body-bias level of at least one transistor within the at least one portion of the generated design to the body-bias value.

48. The method according to claim 47, wherein mapping the electronic circuit to functional resources within the programmable logic device (PLD) further comprises mapping at least a portion of the electronic circuit to programmable logic resources within the programmable logic device (PLD).

49. The method according to claim 47, wherein mapping the electronic circuit to functional resources within the programmable logic device (PLD) further comprises mapping at least a portion of the electronic circuit to programmable logic resources within the programmable logic device (PLD).

50. The method according to claim 47, wherein deriving a body-bias value from a delay representative of a signal propagation delay within at least a portion of the generated design further comprises comparing the delay to a known time period.

51. The method according to claim 50, wherein the delay is adjustable.

52. The method according to claim 47, wherein the delay is produced by a logic circuit implemented within the programmable logic device (PLD).

53. A method of adjusting a leakage level of a transistor in a circuit embodied within a programmable logic circuit (PLD), the method comprising: obtaining a current that represents a leakage current of the transistor; deriving a body-bias level from the obtained current; and adjusting the body bias of the transistor to the derived body-bias level.

54. The method according to claim 53, wherein obtaining a current that represents a leakage current of the transistor further comprises measuring a leakage current in the circuit.

55. The method according to claim 53, wherein deriving a body-bias level from the obtained current further comprises comparing the obtained current to at least one leakage reference value to generate at least one error signal.

56. The method according to claim 55, wherein deriving a body-bias level from the obtained current further comprises deriving the body-bias level from the at least one error signal.

57. The method according to claim 56, wherein deriving a body-bias level from the obtained current further comprises: filtering the at least one error signal to generate a filtered signal; and deriving the body-bias level from the filtered signal.

58. The method according to claim 55, wherein comparing the obtained current to at least one leakage reference value further comprises comparing the obtained current to first and second leakage reference values, wherein the first and second leakage reference values define a range of leakage currents of the transistor.

59. A method of realizing a user's circuit in at least one circuit region in a programmable logic circuit (PLD), the method comprising: selecting a body-bias level for at least one transistor in the circuit region; generating an initial placement of the circuit region within the programmable logic device (PLD); and changing at least once the body-bias level to be applied to the at least one transistor in the circuit region to another level if the existing body-bias level and placement fail to meet prescribed performance criteria.

60. The method according to claim 59, further comprising analyzing at least once the timing of the circuit region by using delay estimates derived from the new level of the body-bias if the existing body-bias level and placement fail to meet prescribed performance criteria.

61. The method according to claim 60, further comprising improving at least once the placement of the circuit region within the programmable logic device (PLD) if the existing body-bias level and placement fail to meet prescribed performance criteria. 62. The method according to claim 61, further comprising recording the existing placement and body-bias level of the circuit region if the existing body-bias level and placement meet prescribed performance criteria.

63. The method according to claim 59, wherein the prescribed performance criteria comprise timing criteria.

64. The method according to claim 59, wherein the prescribed performance criteria comprise power criteria.

「特表2007-538474およびWO2005116878より引用」

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集積回路の性能を調整するための装置および方法

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
(関連出願の相互参照)
本出願は、2004年5月19日出願の米国特許出願第10/848,953号、代理人整理番号第ALTR:026号の発明の名称「Apparatusand Methods for Adjusting the Performance of Programmable LogicDevices」の一部継続出願であり、それを参考として援用する。
【0002】
発明コンセプトは、一般に、プログラマブルロジックデバイス(PLD)を含む集積回路(IC)の性能の調整に関する。
【背景技術】
【0003】
PLDは、設計者のみならずエンドユーザーにも柔軟性を提供するユビキタスな電子デバイスである。電子回路またはシステムの設計サイクル時、設計者は、設計ごとにPLDを単純に再プログラムすることによって、比較的多くの回数の設計反復を実行し得る。従って、設計サイクルの長さと費用は、他の代案と比較して減少する。同様に、エンドユーザーは、PLDを含む設計の機能性に対するコントロールの所望のレベルを有し得る。PLDを実地にまたはリアルタイムベースでさえプログラムすることによって、ユーザーは、回路またはシステムが動作する方法を変更し得る。
【0004】
ますます複雑化する設計を収容するため、現代のPLDは比較的多数のトランジスタを含む。さらにユーザーは、ますます高い性能を要求し、結果的に、より大きな動作周波数となる。その結果、PLDの消費電力、ワット損、ダイ温度、および従って、電力密度(種々の回路またはブロックのワット損)は、増加する傾向である。しかし、出力密度を上げていくと、PLDの設計とインプリメンテーションを非現実的または故障しやすくする。調整可能な消費電力および性能を特徴とするPLDに対する必要性が存在する。さらに、汎用IC内のトランジスタの性能(リーク、速度、およびワット損)を直接コントロールする必要性が存在する。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【0005】
(要約)
開示された新しいコンセプトは、たとえば、速度と消費電力をトレードオフすることによって、PLDの性能を調整するための装置および方法に関する。発明のコンセプトの一局面は、PLDの性能を調整するための装置に関する。一実施形態において、ユーザーの回路をインプリメントするように構成されたPLDは、遅延回路およびボディバイアスジェネレータを含む。遅延回路は、PLDにおいてインプリメントされるユーザーの回路の遅延を表す遅延を有する。ユーザーの回路は、少なくとも一つのトランジスタを含む。ボディバイアスジェネレータは、遅延回路の伝播遅延から引き出された量に応答し、ユーザーの回路におけるトランジスタのボディバイアスを調整する。
【0006】
別の実施形態において、PLDは、基準トランジスタ、電流測定回路、およびボディバイアスジェネレータを含む。基準トランジスタは、PLD内の回路に関係する電流を供給する。電流測定回路は、基準トランジスタによって供給される電流を測定し、測定された電流信号をボディバイアスジェネレータに供給する。ボディバイアスジェネレータは、測定された電流信号から少なくとも一つのボディバイアス信号を引き出し、ボディバイアス信号をPLDの回路に供給する。
【0007】
さらに別の実施形態において、PLDは、複数のユーザー回路および複数のボディバイアスジェネレータを含む。ユーザー回路の各々は、PLDにおいてインプリメントされる。複数のボディバイアスジェネレータの少なくとも一つは、ユーザー回路の少なくとも一つ内のトランジスタのボディバイアスを選択的に調整するように構成される。
【0008】
発明コンセプトの別の局面は、PLDの性能を調整し、ユーザーの回路をインプリメントするためにPLDを使用することの方法に関する。一実施形態において、電子回路をインプリメントするためにPLDを使用する方法は、設計を生成するために電子回路をPLD内の機能リソースにマッピングすること、および生成された設計の少なくとも一つの部分内の信号伝播遅延を表す遅延からボディバイアス値を引き出すことを含む。方法はさらに、生成された設計の部分内の少なくとも一つのトランジスタのボディバイアスレベルをボディバイアス値にプログラムすることを含む。
【0009】
別の実施形態において、PLD内で実施される回路におけるトランジスタのリークレベルを調整する方法は、トランジスタのリーク電流を表す電流を得ること、および得られた電流からボディバイアスレベルを引き出すことを含む。方法はさらに、トランジスタのバイアスレベルを引き出されたボディバイアスレベルに調整することを含む。
【0010】
さらに別の実施形態において、PLDにおける少なくとも一つの回路領域においてユーザー回路を実現する方法は、回路領域において少なくとも一つのトランジスタのボディバイアスレベルを選択し、PLD内における回路領域の初期配置を生成することを含む。方法はさらに、既存のボディバイアスレベルおよび配置が所定の性能基準を満たさない場合、回路領域においてトランジスタに印加されるべきボディバイアスレベルを少なくとも1回別のレベルに変更することを含む。
【0011】
添付の図面は、発明の例示的実施形態を示すに過ぎなく、従って、発明の範囲を制限するものと考えられるべきではない。本発明の記述からメリットを享受する当業者は、開示された発明のコンセプトがその他の等しく有効な実施形態に役立つことを理解する。図面において、二つ以上の図面において使用される同じ数字符号は、同じ、同様な、または同等な機能性、コンポーネント、またはブロックを示す。
【発明を実施するための最良の形態】
【0012】
(詳細な説明)
本発明コンセプトは、調整可能な出力および性能を特徴とするPLDのための装置および関連方法を意図する。発明コンセプトは、従来のPLDが被っている過度の出力密度レベルを克服するのを助ける。さらに、本発明に従い、PLDの所望の部分またはすべての性能レベルを調整し得る(すなわち、個別のトランジスタからPLD全体に至るまでの範囲にわたる粒状ベースで)。
【0013】
より具体的には、以下に詳細に記述されているように、発明コンセプトは、PLD内の個別のトランジスタまたはトランジスタのグループのボディバイアスまたはウェルバイアスの設定、プログラム、または調整を意図する。ボディバイアスを調整することは、トランジスタの消費電力および性能を変動させる。
【0014】
この発明コンセプトは、従来のインプリメンテーション対して以下の利点を提供する。第1に、発明コンセプトは、性能と消費電力とのトレードオフ、または性能―消費電力のトレードオフの最適化を可能にする。第2に、PLDのクリティカル回路パスまたは部品において、必要に応じ、それらの性能を向上させるために、ボディバイアスレベルを選択的に設定し、プログラムし、または、調整し得る。逆に、非クリティカル回路パスまたはPLDのパーツにおいて、ボディバイアスレベルを選択的に設定し、プログラムし、または、調整し得、従って、それらの消費電力を減少させ、それらの出力密度を低下させ得る。
【0015】
さらに、PLD内で使用しない部品または回路を遮断または不能にし得、それによって、それらの消費電力を減少させ、それらの出力密度を低下させ得る。また、熱暴走を防ぐ(またはその可能性を減少させる)ために、発明コンセプトを採用し得る。より具体的には、従来のPLDにおいて、比較的高速で動作する回路は、より多くの電力を消費する傾向があり、その結果、PLDの温度上昇を招く。消費電力の増加は、これらの回路がさらに多くの電力を消費させる原因になり得る。このプラスのフィードバックメカニズムは、出力密度を不安全なまたは破壊的なレベルまで増加させ得る。
【0016】
図1は、発明の例示的実施形態に従う、PLD103の汎用ブロック図を示す。PLD103は、構成回路網130、構成メモリ133、制御回路網136、プログラマブルロジック106、プログラマブル相互接続109、およびI/O回路網112を含む。さらに、PLD103は、必要に応じ、テスト/デバッグ回路網115、一つ以上のプロセッサ118、一つ以上の通信回路網121、一つ以上のメモリ124、一つ以上のコントローラ127を含み得る。
【0017】
図1は、PLD103の簡略なブロック図を示すことに注意されたい。このように、PLD103は、当業者が理解するように、その他のブロックおよび回路網を含み得る。そのような回路網の例は、クロック発振および分配回路、冗長回路などを含む。さらに、PLD103は、必要に応じ、アナログ回路網、その他のディジタル回路網、および/または混合モード回路網を、含み得る。
【0018】
プログラマブルロジック106は、ルックアップテーブル(LUT)、プロダクトタームロジック、マルチプレクサ、ロジックゲート、レジスタ、メモリなどの構成可能なロジック回路網またはプログラマブルロジック回路網のブロックを含む。プログラマブル相互接続109は、プログラマブルロジック106に結合し、プログラマブルロジック106内の種々のブロックとPLD103内または外部のその他の回路網との間の構成可能な相互接続(結合メカニズム)を提供する。
【0019】
制御回路網136は、PLD103内の種々の動作を制御する。制御回路網136の監視の下に、PLD構成回路網130は、PLD103の機能性をプログラム、または、構成するために、構成データを使用する(PLD構成回路網は、そのデータをストレージデバイス、ホストなどの外部ソースから得る)。本発明の記述の助けをもって当業者が理解するように、構成データは、プログラマブルロジック106およびプログラマブル相互接続109をプログラムすることによって、PLD103の機能性を決定する。
【0020】
本発明の記述のたすけを有する当業者が理解するように、I/O回路網は、幅広い様々のI/Oデバイスまたは回路を構成する。I/O回路網112は、PLD103の種々の部品、たとえば、プログラマブルロジック106およびプログラマブル相互接続109など、に接続する。I/O回路112は、外部回路またはデバイスと通信するために、PLD103内の種々のブロック用の機構および回路網を提供する。
【0021】
テスト/デバッグ回路網115は、PLD103内の種々のブロックおよび回路のテストおよびトラブルシューティングを容易にする。テスト/デバッグ回路網115は、本発明の記述のたすけを有する当業者に知られている種々のブロックまたは回路を含み得る。たとえば、テスト/デバッグ回路網115は、必要に応じ、PLD103のパワーアップまたはリセット後のテストを実行する回路を含み得る。テスト/デバッグ回路網115はまた、必要に応じ、コーディングおよびパリティ回路も含む。
【0022】
上記されるように、PLD103は、一つ以上のプロセッサ118を含み得る。プロセッサ118は、PLD103内のその他のブロックおよび回路に結合し得る。本発明の記述のたすけをもって当業者が理解するように、プロセッサ118は、PLD103内のまたは外部の回路からデータおよび情報を受け取り得、幅広い様々の方法で情報を処理し得る。一つ以上のプロセッサ118は、ディジタル信号プロセッサ(DSP)を構成し得る。DSPは、必要に応じ、圧縮、圧縮解除、音声処理、映像処理、フィルタリングなどの幅広い様々の信号処理タスクの実行を可能にする。
【0023】
PLD103はまた、一つ以上の通信回路網121も含み得る。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、通信回路網121は、PLD103内の種々の回路とPLD103の外部の回路との間のデータおよび情報の交換を容易にし得る。一例として、通信回路網121は、必要に応じ、種々のプロトコル機能性(たとえば、伝送制御プロトコル/インターネットプロトコル(TCP/IP)、ユーザデータグラムプロトコル(UDPなど)を提供し得る。別の例として、通信回路網121は、必要に応じ、ネットワーク(たとえば、イーサネット(登録商標)、トークンリングなど)またはバスインターフェース回路網を含み得る。
【0024】
PLD103はさらに、一つ以上のメモリ124および一つ以上のコントローラ127を含み得る。メモリ124は、PLD103内の種々のデータおよび情報(ユーザーデータ、中間結果、計算結果など)の格納を可能にする。メモリ124は、必要に応じ、粒状形またはブロック形を有し得る。コントローラ127は、PLDの外部の回路網の動作および種々の機能にインタフェースし、制御することを可能にする。たとえば、コントローラ127は、必要に応じ、外部の同期ダイナミックランダムアクセスメモリ(SDRAM)にインタフェースし、制御するメモリコントローラを構成し得る。
【0025】
PLD103内の回路網のブロックは、多数のトランジスタを含む。より具体的には、トランジスタは、必要に応じ、n型MOS(NMOS)、p型MOS(PMOS)、相補型MOS(CMOS)、または、部分空乏シリコンオンインシュレータ(SOI)MOSトランジスタ(またはこれらの種類のトランジスタの組み合せ)などの金属酸化物半導体(MOS)トランジスタを構成する。
57 図2は、本発明に従う、例示的な実施形態において使用されるMOSトランジスタを示す。MOSトランジスタは、本体(または基板)領域203、ソース領域206、ドレイン領域209、ゲートインシュレータ215、およびゲート212を含む。動作の飽和領域におけるMOSトランジスタのドレイン電流は、トランジスタの閾値電圧およびゲートからソースへの電圧に依存し、
iD=K(νGS-VT)2 (1)
である。ここで、
iD=全ドレイン電流(すなわち、ACおよびDC成分を含む)
K=定数
νGS=ゲートからソースへの全電圧(すなわち、ACおよびDC成分を含む)、および
VT=閾値電圧
である。
【0026】
閾値電圧VTは、トランジスタのソース領域206と本体領域203との間の電圧などの多数の要因に依存する。下記の等式は、本体からソースへの電圧の関数としての閾値電圧を提供する:
【0027】
【数1】
イメージ ID=000003

代わりに、ソースから本体への電圧の点から、等式2Aは:
【0028】
【数2】
イメージ ID=000004

と書き得る。ここで、
VT(0)=ソースから本体(または本体からソース)への電圧が0にセットされた閾値電圧
γ=本体係数で、本体のドーピングレベルに依存する定数
ΦF=定数
νBS=本体からソースへの全電圧(すなわち、ACおよびDC成分を含む)、および
νSB=ソースから本体への全電圧(すなわち、ACおよびDC成分を含む)
である。本体からソースへの電圧、νBS(または、ソースから本体への電圧、νSB)が0に等しいとき、閾値電圧VTは、VT(0)に等しいことに注意されたい。
【0029】
等式2Bが示すように、有限本体係数γに関して、ソースから本体への電圧、νSB、が増加すると、トランジスタの閾値電圧は増加する。しかし、等式(1)は、特定のゲートからソースへの電圧に関して、閾値電圧における増加は、トランジスタのドレイン電流iDを減少させることを示す。換言すると、等式1および2Bに従って、定数のゲートからソースへの電圧νGSに関して、ソースから本体への電圧νSBにおける増加は、閾値電圧、VTにおける増加の原因になる。
【0030】
増加した閾値電圧VTは、今度は、量(νGS―VT)における減少の原因となり、その結果、トランジスタのドレイン電流iDにおける減少となる。このように、ゲートからソースへの一定の電圧νGSに関して、ソースから本体への電圧νSBにおける増加は、トランジスタの電流駆動能力(性能の一つの基準)における減少の原因となる。トランジスタの減少した電流駆動能力は、今度は、回路動作を遅くすることになり、最終的には、トランジスタを含むPLDの動作を遅くする。
【0031】
トランジスタのワット損もまた、その閾値電圧における変化に従って、変動する。より具体的には、閾値電圧が小さくなると、トランジスタのOFF状態のリーク電流(Ioff)が増加する。逆もまた同様である。トランジスタのIoffは、そのスタティック(非スイッチング)のワット損に影響する。さらに、より小さい閾値電圧は、トランジスタのダイナミックまたはスイッチングワット損を増加させる。このように、ボディバイアスを調整することによって閾値電圧を変化させると、MOSトランジスタのワット損に影響する。
【0032】
さらに、所定の供給電圧、VDD、に関して、閾値電圧、VT、における増加は、トランジスタがパストランジスタとして動作するときに、トタンジスタが伝導し得る最大電圧を制限する。換言すると、閾値電圧、VT、が、ゲートからソースへの電圧νGSに等しいかまたは超える点まで増加する場合、ドレイン電流は0に減少する。このように、トランジスタのドレインに印加される電圧、たとえば、ロジック1レベルに対応する電圧は、トランジスタのソースに適切に伝導しない。その結果、トランジスタは、パストランジスタとして信頼性をもって動作しない。
【0033】
上記に示すように、MOSトランジスタのボディバイアス、従ってトランジスタのソースから本体への電圧を調整することによって、MOSトランジスタの性能に影響を及ぼし得る(最終的には、閾値電圧における変化の結果を招く)。ボディバイアスを調整すると、電流駆動能力、動作速度、ワット損、などの性能基準に影響する。
【0034】
上記のように、発明に従う実施形態において、必要に応じ、PLD内の個々のトランジスタ、個々の回路またはブロック、トランジスタまたはブロックのグループ、またはPLD全体までのボディバイアスを調整し得る。さらに、必要に応じ、個々のNMOSおよびPMOSトランジスタのボディバイアス、または、NMOSおよびPMOSトランジスタのグループのボディバイアスを調整し得る。以下の説明は、詳細を提供する。
【0035】
図3は、発明の例示的実施形態に従うPLD103の平面図を示す。PLD103は、二次元アレイとして配置されているプログラマブルロジック106を含む。水平相互接続および垂直相互接続として配置されたプログラマブル相互接続109は、プログラマブルロジック106のブロックを互いに結合する。必要に応じ、プログラマブルロジック106の各ブロック、プログラマブル相互接続109の各セグメント、またはその両方のボディバイアスを調整し得る。さらに、必要に応じ、プログラマブルロジック106の一つ以上のブロックの部分、プログラマブル相互接続109の部分、またはその両方のボディバイアスを調整し得る。
【0036】
例示的実施形態において、発明に従うPLDは、階層アーキテクチャを有する。換言すると、図3のプログラマブルロジック106の各ブロックは、今度は、より小さいかまたはより多い粒状のプログラマブルロジクブロックまたは回路を含み得る。必要に応じ、PLDの階層アーキテクチャの各レベルにおけるトランジスタのボディバイアスを調整し得る。
【0037】
図4は、発明の例示的な実施形態に従うPLDにおけるプログラマブルロジック106のブロック図を示す。プログラマブルロジック106は、論理要素またはプログラマブルロジック回路250、ローカル相互接続253、インタフェース回路256およびインタフェース回路259を含む。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、論理要素250は、構成可能なロジック機能またはプログラマブルロジック機能、たとえば、LUT、レジスタ、プロダクトタームロジックなどを提供する。ローカル相互接続253は、必要に応じ、論理要素250が互いにまたはプログラマブル相互接続109(「グローバル相互接続」と呼ばれることがある)に結合するように構成可能なメカニズムまたはプログラマブルメカニズムを提供する。
【0038】
インタフェース回路256およびインタフェース回路259は、回路網のプログラマブルロジック106がプログラマブル相互接続109(および従って、図3に示すように、その他のプログラマブルロジック106)に結合するように、構成可能な方法またはプログラマブルな方法を提供する。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、インタフェース回路256およびインタフェース回路259は、マルチプレクサ(MUX)、レジスタ、バッファ、ドライバなどを含み得る。
【0039】
必要に応じ、PLD103(図1、図3、および図4を参照)内の回路網の各部分またはブロックのボディバイアスを調整し得る。さらに、必要に応じ、個々または集合的ベースで、回路網の各部分またはブロックのボディバイアスを他に無関係に調整し得る。回路網の各部分またはブロック内で、必要に応じ、個々または集合的ベースで、各サブブロックまたはトランジスタのボディバイアス、またはサブブロックまたはトランジスタのグループのボディバイアスを調整し得る。
【0040】
たとえば、発明の例示的な実施形態に従い、PLD内の下記の回路網のすべてまたは部分のボディバイアスを調整し得る:図1の一つ以上のブロック(たとえば、プログラマブルロジック106、プログラマブル相互接続109など);一つ以上のプログラマブルロジックブロック106内の一つ以上の論理要素250;一つ以上のプログラマブルロジックブロック106内の一つ以上のインタフェース回路256および/または259;一つ以上のプログラマブルロジック106内の一つ以上のローカル相互接続;および一つ以上のインタフェース回路256および/または259内の一つ以上のMUX、ドライバ、バッファなど。
【0041】
上記のとおり、ボディバイアス調整を、粒状度の任意の所望レベルで、行い得る。換言すると、必要また適用可能に応じ、個々のトランジスタ、トランジスタのグループ、サブブロック、ブロックまたはPLD全体に適用可能な調整を行い得る。たとえば、必要に応じ、一つ以上のNMOSトランジスタのボディバイアス調整を、一つ以上のPMOSトランジスタに無関係に、行い得る。
【0042】
さらに、必要に応じ、PLD103内の一つの要素のボディバイアスを、その他のすべての要素に無関係に、調整し得る。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、必要に応じ、PLDのいくつかの部品のボディバイアス調整を行い得、さらにPLDのその他の部品の固定またはデフォルトのボディバイアスを提供し得る。
【0043】
ボディバイアス調整の粒状度の例として、2入力、1出力のMUXを考慮されたい。図5は、ボディバイアス調整を含む発明の例示的実施形態に従うPLDにおいて使用されるMUXを示す。MUXは、トランジスタ275およびトランジスタ278を含む。MUXは、回路Aから信号を受信し、別の信号を回路Bから受信する。選択信号、S、およびそのコンプリメントS’に応答し、MUXは、回路Aまたは回路Bのいずれかからの信号を回路C(MUXの出力に結合された)に伝送する。
【0044】
トランジスタ275およびトランジスタ278のボディバイアスは多数の方法で調整し得る。第1に、ボディバイスを調整しないことを選択し得る(たとえば、PLD内のデフォルトボディバイアスを使用する)。第2に、トランジスタ275のボディバイアスをトランジスタ278のボディバイアスと同レベルに調整し得る。代案として、トランジスタ275およびトランジスタ278のみのボディバイアスを調整し得る。別の選択として、トランジスタ275およびトランジスタ278の各々のボディバイアスを個々に調整し得る。
【0045】
従って、MUXの性能特性を柔軟性ある方法で構成し得る。他の方法では、MUXの動作速度、電流駆動能力、およびワット損のバランスまたはトレードオフを、互いに対して、行い得る。さらなる例として、ボディバイアス調整コンセプトを、MUXのトランジスタの一セット、特定の信号ルート(たとえば、特定の入力に対応した信号伝送ルーティング)、パストランジスタの一セット(たとえば、プログラマブルルーティングにおけるパストランジスタ一セットで、それが、構成メモリビット数を節約するためにその他のパストランジスタのセットによって共有されたMUXに入力する)、などに広げ得ることに注意されたい。
【0046】
上記のとおり、ユーザーは、本発明に従い、PLDの種々の部分のボディバイアスを調整し得る。ユーザーは、PLDの設計をマッピングするために使用されるソフトウェアを使用することによって、そのように行い得る。図6Aは、発明の例示的実施形態に従うPLDコンピュータ支援設計(CAD)ソフトウェアが使用する種々のソフトウェアモジュールを示す。モジュールは、設計入力モジュール305、合成モジュール310、プレース・ルートモジュール315、および検査モジュール320を含む。
【0047】
設計入力(design-entry)モジュール305は、多様な設計ファイルの統合を可能にする。ユーザーは、必要に応じ、設計入力モジュール305を使用することによってまたは種々の電子設計オートメーション(EDA)またはCADツール(業界標準のEDAツールなど)を使用することによって、設計ファイルを生成し得る。ユーザーは、必要に応じ、グラフ形式、波形ベース形式、スケマティック形式で、テキストまたはバイナリ形式で、またはこれらの形式の組み合わせで、設計を入力し得る。
【0048】
合成モジュール310は、設計入力モジュール305の出力を受け取る。ユーザー提供の設計に基づき、合成モジュール310は、ユーザー提供の設計を実現する適切なロジック回路網を生成する。一つ以上のPLD(明白には示されてない)は、合成された全体設計またはシステムを実行する。合成モジュール310はまた、ユーザーの設計における種々のモジュールの統合および適切な動作およびインタフェースを可能にする任意のグルー(glue)ロジックも生成し得る。たとえば、合成モジュール310は、一つのブロックの出力が別のブロックの入力と適切にインタフェースするように、適切なハードウェアを提供する。合成モジュール310は、全体設計またはシステムにおいてモジュールの各々の仕様に合致するように、適切なハードウェアを提供する。
【0049】
さらに、合成モジュール310は、合成された設計を最適化するためのアルゴリズムおよびルーチンを含み得る。最適化によって、合成モジュール310は、全体設計またはシステムを実行する一つ以上のPLDのリソースをより効率的に使用するよう努める
。合成モジュール310は、プレース・ルートモジュール315への出力を提供する。
【0050】
プレース・ルートモジュール315は、最適なロジックマッピングおよび配置を行うため、設計者のタイミング仕様を使用する。ロジックマッピングおよび配置は、PLD内のルーティングリソースの使用を決定する。換言すると、設計の所定の部品のためにPLDとの特定のプログラマブル相互接続を使用することによって、プレース・ルートモジュール315は、全体設計またはシステムの性能の最適化を支援する。PLDルーティングリソースを適切に使用することによって、プレース・ルートモジュール315は、全体設計またはシステムのクリティカルタイミングパスを満たすように支援する。プレース・ルートモジュール315は、本発明の記述からメリットを享受する当業者に知られている方法より速く、クリティカルタイミングパスを最適化し、タイミング閉止の提供を支援する。その結果、全体設計またはシステムは、より速い性能(すなわち、より高いクロックレイトまたはより高いスループットでの動作)を達成し得る。
【0051】
さらに、プレース・ルートモジュール315は、設計およびシステムを実行するPLDの部分またはすべてのボディバイアスを調整する。プレース・ルートモジュール315は、それを自動的に行うか、ユーザー指定の基準に従って行うか、またはその二つの組み合わせに従って、行い得る。プレース・ルートモジュール315は、ユーザー指定の基準(たとえば、ワット損、速度、および/または電流駆動能力などの性能仕様)を使用し得る。さらに、または、その代わりに、プレース・ルートモジュール315は、必要に応じ、設計またはシステムのパーツまたはすべてのボディバイアスを調整するために、設計またはシステム内のクリティカルパスに関する情報を使用し得る。
【0052】
たとえば、プレース・ルートモジュール315は、より高い性能を達成するために、設計またはシステムのクリティカルパーツのボディバイアスを調整し得る。プレース・ルートモジュール315は、必要に応じ、パワーおよび性能のトレードオフを行うために、ワット損基準(たとえば、最大出力密度)を考慮に入れ得る。プレース・ルートモジュール315は、検査モジュール320に対する最適な設計を提供する。
【0053】
検査モジュール320は、設計のシミュレーションおよび検査を実行する。シミュレーションおよび検査は、設計がユーザーの規定した仕様に従うことを検査することをその一部において努める。シミュレーションおよび検査はまた、設計を試作する前に、すべての設計問題を検出し、修正することを意図する。このように、検査モジュール320は、ユーザーが全体設計またはシステムの総コストを削減し、市場へ出すまでの時間を短縮するよう支援する。
【0054】
検査モジュール320は、必要に応じ、種々の検査およびシミュレーションオプションを支持し、実行し得る。オプションは、必要に応じ、設計規則チェック、機能上の検査、テストベンチ(test-bench)生成、スタティックタイミング解析、タイミングシミュレーション、ハードウェア/ソフトウェアシミュレーション、システム内検査、ボードレベル(board-level)タイミング解析、信号の完全性分析および電磁環境適合性(EMC)、形式的なネットリスト検査、および消費電力推定を含み得る。必要に応じ、また本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、他のまたは追加の検査技術が実行し得ることに注意されたい。上記のとおり、発明に従うPLDアーキテクチャおよび回路網は、ユーザーが、PLDまたはPLDの領域において、速度を犠牲にしてリーク(および従って、ワット損)に対処できる能力を提供する。ユーザーがこの機能性を使用することをできるだけ便利にするために、発明の例示的実施形態に従うPLDCADは、ユーザーの仕様と基準を自動的に満たすように、回路網を自動的に構成し得る。さらに、ユーザーの回路への速度への影響を最小にしながらリーク減少を最大にするため、発明の種々な実施形態に従うPLDCADは、ユーザー回路のインプリメンテーション時にバイアス領域の存在を考慮し、バイアス領域の有効性を最大にするように回路を最適化する。以下の説明は、PLD CADの機能性の詳細を提供する。
【0055】
基板バイアスを最高に活用するタイミング駆動のPLDCADシステムに関して、設計インプリメンテーション時に、そのシステムが、PLDまたはPLDの各領域(一つ以上のトランジスタを含み得る)に対して基板バイアスを推定すべきである。PLDCADは、設計のタイミング分析時にボディバイアスを考慮に入れる。このように、ボディバイアスレベルは、タイミングの観点から設計のどの部分がクリティカルになるかについて影響する。
【0056】
最初、CADシステムは、ユーザーが一つ以上のトランジスタのボディバイアスレベルの設定またはプログラムを望むPLDの各領域に対して、あるボディバイアスレベル(および従って、リーク/速度設定)を想定する。一つの可能性ある選択として、PLDCADは、すべての影響を受けた領域が比較的低速度設定(すなわち、比較的低リークレベルの結果となるボディバイアス)を使用すると想定し得る。PLDCADシステムは、PLD回路網の初期配置を提供する。配置は、その初期配置の反復の改善によって、進行する。
【0057】
この反復の改善手順の種々の時点において、PLDCADは、回路の速度を推定し、関係するすべての接続に対してタイミングスラック値を計算する。タイミングスラック値の計算は、遅延を推定するときに、各領域に対して選ばれた現在のボディバイアスレベルを考慮に入れる。PLDCADは、ボディバイアス選択を配置の反復の改善にインタリーブすることに注意されたい。PLDCADは、より高速な(および対応するより高いリークの)ボディバイアス設定への変換のため、より小さい平均および最悪ケースの接続スラック値を有する回路の部分を含む領域を評価する。CADソフトウェアは、一つ以上の領域について新候補バイアス設定を選択し、回路タイミングの点から新設定の総原価、ならびにリーク電流および/または漏れ電力における全増加を推定することによって、バイアス設定を評価する。新バイアス設定が、領域におけるすべての接続についてプラスのスラック値に導く場合(または、領域におけるより少ないマイナススラックレベル)、PLD CADは、一般に、新バイアス設定を採用する。
【0058】
同様に、CADソフトウェアは、より低速度のボディバイアス設定への変換のために、現在比較的高いバイアス設定を有する領域で、すべての接続がプラスのスラック値を有する領域を評価する。新ボディバイアス採用することが、どの回路タイミング基準に対しても違反を引き起こすことにならない場合、CADソフトウェアは、新ボディバイアス設定を採用する。
【0059】
一つ以上のバイアス設定を変更次第、反復配置改善は、変更されたバイアス設定によって発生するすべての起こりうるタイミングの懸念または違反を解決する試みを継続し、または、よりタイムクリティカルな回路網をより高速度を有する新しく作成されたバイアス領域に移動するよう試みる。配置とルーティングがユーザーのタイミングおよびパワー目標を満たすときか、または、所望または所定の反復限界に達した(それ以上の改善がなされ得ないように見える)のいずれかのとき、アルゴリズムは終了する。
【0060】
図6Bは、発明の例示的実施形態に従うPLD CADソフトウェアの流れ図を示す。図6Bに示されるPLD CADは、PLDの各領域に対するボディバイアスの選択をタイミング駆動のプレース・ルートCADシステムに組み入れる。
【0061】
より具体的には、330において、PLDCADは、初期領域ボディバイアス設定をセットする。335において、ソフトウェアは初期配置を生成する。次に、338において、ソフトウェアは、現在のボディバイアス設定を反映する遅延推定を使用して、回路網のタイミングを分析する。341において、ソフトウェアは、ユーザーのタイミングおよびパワー目標を満たしたかどうかについて判断する。満たしたと判断する場合、344において、ソフトウェアは、配置およびボディバイアス選択を記録する。満たさなかったと判断する場合、ソフトウェアは、347において、反復限界に達したかどうかをチェックし判断する。達したと判断する場合、ソフトウェアは、344に進み、現在の配置およびボディバイアス選択を記録する。ソフトウェアが反復限界に達していない場合、ソフトウェアは、反復カウント(明白には示されていない)をインクリメントし、350において、少なくともいくつかの領域のバイアス設定を変更する。353において、ソフトウェアは、変更されたボディバイアス設定を反映する遅延推定を使用して回路網のタイミングを分析する。356において、ソフトウェアは、回路の配置を改善し、341に飛び、ユーザーのタイミングおよびパワー目標を満たしたかどうかを判断する。
【0062】
本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、本明細書に記述されたアルゴリズムの多くの変種を使用し得る。たとえば、すべての領域を低速または高速に設定するなど、種々の初期ボディバイアスの設定を使用し得る。ソフトウェアが、配置におけるすべてのタイミング仕様を満たすと推定する場合、より大きなプラススラック値を有する接続を含む領域を優先して、高速バイアス領域を低速領域への変換を評価する。いくつかの領域を低速領域に変換後に、ソフトウェアは配置改善を再開する。ソフトウェアは、これらの二つのステップをユーザーのパワーおよびタイミングの目標を満たすまで、反復し得る。
【0063】
第2の例として、ソフトウェアは、ユーザーのチップ平面図からバイアス領域の初期設定を生成し得る。ソフトウェアは、高速動作用の平面図におけるタイムクリティカル領域のためのバイアスを初期設定し、比較的低速動作用のその他の領域のためのバイアスを設定する。ソフトウェアは、次に、バイアス選択のさらなる改善のために、図6Bに示される技術を使用し得る。
【0064】
第3の例として、ソフトウェアは、回路の迅速な配置からボディバイアスの初期設定を生成し、その後続いて、タイミング分析を行い、速度クリティカル領域をその他の領域から識別し得る。配置は、正規の配置を構成し得るか、または、どのボディバイアス領域においてユーザーの回路の各パーツを見つけるかを判断する「粗配置」を構成し得る。ソフトウェアは、次に、これらの初期バイアス設定をさらに改善するために、図6Bのアルゴリズムを使用し得る。
【0065】
第4の例として、配置を開始する前に、ソフトウェアは、回路をボディバイアス領域を構成する比較的大きな回路要素にクラスタ化し得る。クラスタの各々は、タイムクリティカルかまたは非タイムクリティカルである回路網から成り立ち得る。ソフトウェアは、クラスタをPLDのボディバイアス領域を表す粗いグリッド上に配置し得る。ソフトウェアは、次に、ソフトウェア内に置かれた回路網の種類に従い、各領域のバイアスレベルを設定し得る。このように、タイムクリティカルな回路は、比較的高速のボディバイアス設定を受け取り、一方非タイムクリティカル回路は、比較的低速を受け取る。ソフトウェアは、次に、配置を改善するこれらの初期バイアス設定を有する図6Bにあるアルゴリズムを使用し得る。
【0066】
第5の例として、ルーティングアルゴリズムなどの配置アルゴリズム以外のその他のアルゴリズムは、それらのアルゴリズムの遅延推定における所定の領域のボディバイアスを考慮し得る。領域ボディバイアス選択および正規のアルゴリズム最適化をインタリーブすることによって、そのようなアルゴリズムをボディ領域バイアス微同調にインタリーブし得る。
【0067】
一旦、PLDCADが、設計をインプリメントすると(たとえば、設計を合成し、配置し、ルーティングする)、CADソフトウェアは、ボディバイアス回路網(たとえば、ボディバイアス生成回路網、ボディバイアス制御回路網)を正しい状態およびボディバイアスレベルに自動的にセットする。ソフトウェアは、ボディバイアス回路網の動作の詳細およびユーザーの目標によるいくつかの方法によって、その動作を行い得る。
【0068】
一つの代案として、ユーザーが漏れ電力目標を有し、バイアス回路網は、リークロックループ(leakage-lockedloop)(詳細は下記)を組み入れている場合、PLDCADは、漏れ電力がユーザーのワット損目標より少ないか同等になるようにバイアス回路網を設定する。CADソフトウェアは、次に、比較的高温で回路のタイミングを、および、リーク電流の「オン」トランジスタ駆動電流に対する最高比率を有する処理コーナーを、回路がその処理および動作条件においてすべてのタイミング仕様を満たすようにして、解析し得る。代わりに、ユーザーが、すべてのタイミング仕様を満たす条件で、漏れ電力を最小にする目標を有する場合、トランジスタが、最悪の予想される処理および動作コーナーにおいてすべてのタイミングの制限を満たす状況において動作するように、ソフトウェアは、各領域におけるリークロックループを設定し得る。一般に、コーナーは、比較的高温で、および、リーク電流の「オン」トランジスタ駆動電流に対する最高比率を有する処理コーナーにおいて発生する。
【0069】
別の代案として、ユーザーがいくつかのタイミング仕様を満たす条件で電力を最小にする目標を有し、バイアス回路網が遅延ロックループを含む場合、CADソフトウェアは、回路がこれらのタイミング仕様を満たすように、遅延ループを設定またはプログラムし得る。ソフトウェアはそのような動作を、タイミング解析によって各ボディバイアス領域における回路網から最もクリティカルなパスを抽出することによって、行い得る。遅延ロックループがプログラマブル遅延連鎖を使用する場合、ソフトウェアは、それが各ボディバイアス領域における基準連鎖の遅延を、対応するボディバイアス領域のクリティカルパスの名目遅延より大きい名目遅延値に設定するように回路網を設定する。ソフトウェアは、クリティカルパス用ランチ(launch)およびキャプチャエッジを定義する適切なクロック信号を遅延ロック回路網へ伝送する。通例、同じクロック信号は、ランチと捕獲エッジの両方を定義するが、複数の位相および周波数関係クロック信号を有する設計において、別のクロックドメインが、ランチおよび捕獲エッジを定義し得る。遅延ロックループが「ソフト」で、あるPLD回路網にロックする場合、CADシステムは、遅延ロックループの基準遅延として使用されるよう、各バイアス領域に対する各クリティカルパスのできるだけ正確なコピーを行う。
【0070】
さらに代案として、PLDCADは、ボディバイアス回路網をプログラムすることによって、ユーザーに種々の電力と遅延との間のトレードオフの選択を行う能力を与える。その場合、CADソフトウェアは、ユーザーが選んだバイアス設定に従う適切な電力および遅延モデルを調べ、それらのモデルを電力およびタイミング解析において使用する。ソフトウェアは、電力および遅延モデルをより旧式でないようにする(最悪ケース)。これは、ユーザーへの出荷前にデバイスをテストすることによって、またPLD(たとえば、PLD内にある不揮発性メモリ)においてトランジスタ速度およびリークを示すデータを(一般に閾値電圧の形式で)格納することによって、行われる。CADソフトウェアは、プログラム時に、ユーザーの所望の電力遅延トレードオフをデバイスに、なおもプログラムするが、オンチップハードウェアは、この「所望された」トレードオフを格納されたデバイス特性と比較し、トランジスタが所望の電力遅延トレードオフを有するように、適切なボディバイアスレベルを計算し、適用する。
【0071】
図7は、発明の例示的実施形態に従うボディバイアス調整の処理の流れ図を示す。図6Aに関連して記述されたソフトウェアなどのプログラムは、図7における処理を実行する。
【0072】
403において一旦処理が開始すると、処理は、上記、および本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、設計またはシステムをインプリメントするPLD内のクリティカル回路パスを識別する。403において、処理は、識別されたクリティカル回路パス内のトランジスタのボディバイアスを調整する。換言すると、処理は、一つ以上のトランジスタまたはトランジスタのセット用の一つ以上のボディバイアスレベルを選択する。次に、406において処理は、クリティカル回路パス用に一つ以上のボディバイアスジェネレータをプログラムまたは構成する。ボディバイアスジェネレータは、403で選択された一つ以上のボディバイアスレベルを生成する。
【0073】
処理は、識別されたクリティカル回路パスまたはブロックだけに限定する必要がないことに注意されたい。その代わり、またはさらに、ユーザーが特定の性能基準を満たすことを希望した回路パスまたはブロックをユーザーは、識別し指定し得る。たとえば、ユーザーは、PLD内でインプリメントされた高速加算器を有することを希望し得る。ユーザーは、加算器をインプリメントするために使用される回路網またはブロックを識別し得、特定のタイミング仕様を満たすために回路網またはブロックのボディバイアスレベルを調整するソフトウェアを指定し得る。ユーザーは、ワット損などのその他の性能仕様または基準を提供し得る。ソフトウェアは、回路パスまたはブロックのボディバイアスレベルを選択するために、種々性能仕様をトレードオフし得る。
【0074】
図8は、所望のPLD回路網またはブロックの調整、プログラムまたは設定するために、発明の例示的実施形態に従うPLD内の回路のブロック図を示す。回路網は、ボディバイアスジェネレータ430、複数の構成メモリ(構成ランダムアクセスメモリ、すなわち、CRAM、またはその他のメモリのインプリメンテーション)セル438A~438D、複数のトランジスタ440A~440D、およびPLD回路445A~445Bを含む。
【0075】
ボディバイアスジェネレータ430は、一つ以上のボディバイアス信号435を生成し、それらの信号をトランジスタ440A~440Dに提供する。CRAMセル438A~438Dにあるデータの各々の一つに応答し、トランジスタ440A~440Dは、ボディバイアス信号435をPLD回路445A~445Bに提供する。PLD回路445A~445Bは、上記の、個別トランジスタ、トランジスタのグループ、回路ブロック回路などの回路でその回路のボディバイアスレベルを設定、プログラム、または調整することが所望される回路網を構成し得る。
【0076】
たとえば、CRAMセル438Aおよび438Cはバイナリ1を格納するが一方、CRAMセル438Bおよび438Dはバイナリ0を格納すると想定されたい。その結果、トランジスタ440Aおよび440Cはオンとなり、ボディバイアス信号435AをPLD回路445A~445Bに供給する。トランジスタ440Bおよび440Dはオフとなり、従ってどの信号もPLD回路445A~445Bに供給しない。
【0077】
別の例として、前の例の逆の状況が存在する(すなわち、CRAMセル438A~438Dがバイナリデータ0,1,0,1をそれぞれ保持する)と想定されたい。この場合、トランジスタ440Aおよび440Cはオフとなり(従って、信号をPLD回路445A~445Bに供給しない)、トランジスタ440Bおよび440Dはオンとなる。その結果、トランジスタ440Bおよび440Dはボディバイアス信号435BをPLD回路445A~445Dに供給する。
【0078】
例示的な実施形態において、CRAMセル438A~438Dは、必要に応じ、複数の目的を扱う。より具体的には、CRAMセル438A~438DはPLD内の種々の回路網(たとえば、PLD回路445Aまたは445B)のボディバイアスを制御し得る。さらに、CRAMセル438A~438DはルーティングCRAMセルとして働き得る。換言すると、ボディバイアスレベルの制御に加えて、CRAMセル438A~438Dの一つ以上は、必要に応じ、MUX内の一つの回路パスを別のパスに優先して選択し得る(すなわち、MUX内の代替のルーティングと反対に、MUX内の一つのルーティングを選択し得る。
【0079】
本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、種々の方法でボディバイアスジェネレータ430をインプリメントし得ることに注意されたい。たとえば、バイアスソース(たとえば、種々の公知のバイアスソースの一つ)を使用し得、次に、チャージポンプを使用してボディバイアス信号435を生成し得、その信号は適切または所望のレベルに注入される。別の例として、ボディバイアスレベルに対応して格納されたディジタルデータを使用し得、所望のボディバイアス信号435を生成するために、一つ以上のディジタル-アナログ変換器(DAC)と共に一つ以上のスケーラ回路を使用し得る。
【0080】
ボディバイアスレベルの調整、プログラムまたは設定に加えて、ワット損、および従って、PLDの出力密度を制御するために他の手段を使用し得る。より具体的には、PLD内の回路網の部分を選択的に遮断または電源を切り得る。その結果、PLD内のワット損をさらに減少し得る。
【0081】
図9は、発明の例示的な実施形態に従い、回路網の電源を選択的にオフにするか、あるいは、PLD内の回路網の消費電力を削減または全体的制御するための回路のブロック図を示す。回路は、制御回路網136、トランジスタ450、およびPLD回路445Aを含む。さらに、回路は、トランジスタ450A、トランジスタ453、供給電圧回路456、トランジスタ453AおよびPLD回路445Bを含み得る。
【0082】
PLD回路445Aの遮断を希望すると想定されたい。トランジスタ450はPLD回路445Aを供給電圧VDDに結合する。換言すると、トランジスタ450がオンの場合、PLD回路445Aは供給電圧VDDを受け取る。逆もまた同様である。トランジスタ450は、制御回路網136からの制御信号に応答し、電源をオンおよびオフする。このように、PLD回路445Aの電源をオフするために、制御回路網136をトランジスタ450のゲート信号をデアサート(de-assert)にし、PLD回路445Aへの電源供給を中断させる。その後、制御回路網136の監視の下にトランジスタ450のゲート信号をアサート(assert)することによって、PLD回路445Aの電源をオンにし得る。
【0083】
トランジスタ450の電源をオンまたはオフにするよりはむしろ、トランジスタ450を可変インピーダンスデバイスとして使用するためにトランジスタ450のゲート電圧を制御し得ることに注意されたい。このように、トランジスタ450は、極限において、比較的高いインピーダンス(オフ状態)、比較的低いインピーダンス(オン状態)、または、それらの二状態間のインピーダンスレベルを有し得る。その結果、PLD回路445Aの電源をオフおよびオンするだけでなく、トランジスタ450のインピーダンスを制御することによって、それらの回路内のワット損をも制御する。
【0084】
供給電圧VDDをPLD回路445Aへの供給を制御する(上記のとおり、電源をオン、オフまたはこれらの極限間のどれにでも)トランジスタ450を使用することに加えて、またはその代わりに、供給電圧VSS(代表的には、回路アース)の供給を制御するトランジスタ450Aを使用し得る。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、動作の詳細は、トランジスタ450および供給電圧VDDに関する上記の詳細と同様である。
【0085】
PLD103は、必要に応じ、一つ以上得の供給電圧を使用し得る。換言すると、一次供給電圧VDDから二次供給電圧を生成するために、供給電圧回路456を任意に使用し得る。二次供給電圧459は、必要に応じ、一次供給電圧より小さいまたは大きい絶対値を有し得る。さらに、必要に応じ、二つ以上の供給電圧を使用し得る。二次供給電圧445Bは、PLD回路445Bに電力を供給する。制御回路網136の監視の下に、トランジスタ453のゲート信号をそれぞれ非表明および表明することによって、PLD回路445Bを遮断またはパワーアップし得る。
【0086】
トランジスタ453の電源をオフまたはオンにするよりはむしろ、トランジスタ453を可変インピーダンスデバイスとして使用するためにトランジスタ453のゲート電圧を制御し得ることに注意されたい。このように、トランジスタ453は、極限において、比較的高いインピーダンス(オフ状態)、比較的低いインピーダンス(オン状態)、または、それらの二状態間のインピーダンスレベルを有し得る。その結果、PLD回路445Bの電源をオフおよびオンするだけでなく、トランジスタ453のインピーダンスを制御することによって、それらの回路内のワット損も制御する。
【0087】
二次供給電圧459をPLD回路445Bへの供給を制御する(上記のとおり、電源をオン、オフまたはそれらの極限間のどれにでも)トランジスタ453を使用することに加えて、またはその代わりに、供給電圧VSS(代表的には、回路アース)の供給を制御するトランジスタ453Aを使用し得る。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、動作の詳細は、トランジスタ453および二次供給電圧459に関する上記の詳細と同様である。
【0088】
各PLD回路445Aおよび/またはPLD回路445Bは、必要に応じ、PLDブロック(たとえば、図1、図3、および図4を参照されたい)、PLDブロックの部分、またはPLDブロックの一セットを構成し得ることに注意されたい。換言すると、必要に応じ、電力制御技術を、PLD内の一つ以上のブロック、サブブロック、またはブロックの部分に選択的に適用し得る。
【0089】
PLDの外部ソースに応答し、ボディバイアスレベルを調整、プログラム、または設定し得ることに注意されたい。たとえば、PLDの性能を調整し、修正するために、ボディバイアスレベルをPLDに伝達し得る。図10は、外部ソース470に応答し、PLD内のボディバイアスレベルを調整するための、発明の例示的実施形態に従う回路配置を示す。回路配置は、外部ソース470、通信/インタフェース回路475、およびボディバイアスジェネレータ430を含む。
【0090】
通信/インタフェース回路475は、情報を通信し交換するため、外部ソース470のメカニズムおよびボディバイアスジェネレータ430を提供する。外部ソース470は、一つ以上の制御信号480をPLD103内の通信/インタフェース回路475に提供し得る。通信/インタフェース回路475は、外部ソース470から受け取った情報をボディバイアスジェネレータ430に提供する。それに応答して、ボディバイアスジェネレータ430は、制御信号480に対応するレベルを有する一つ以上のボディバイアス信号435を生成する。通信/インタフェース回路475は、ボディバイアスジェネレータ430(または一般的にはPLD103)からのステータス信号などの情報を外部ソース470に供給する。
【0091】
本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、外部ソース470は、種々のデバイス、構造、または配置を構成し得る。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、たとえば、外部ソース470は、必要に応じ、インターネット、コンピュータネットワーク、バスなどを構成し得る。
【0092】
変化する条件(たとえば、性能仕様における変化)を考慮に入れ、それに応答するため、必要に応じ、ダイナミックまたは時間変動ベースで、PLDにおけるボディバイアスレベルを調整、プログラムまたは設定し得ることに注意されたい。一例として、図10を参照すると、外部ソース470は、それがPLD103に供給する制御信号480を更新、または、修正し得る。応答して、ボディバイアスジェネレータ430は、更新されたまたは修正された制御信号480に対応するボディバイアス信号435を供給する。
【0093】
別の例として、PLD103自体内における変化、たとえば、PLD103の一つ以上の回路または領域における温度の変化、に応答して、ボディバイアスレベルを変更または調整し得る。図11は、発明の例示的実施形態に従うPLD内のボディバイアスレベルを修正するための回路配置を示す。
【0094】
回路配置は、一つ以上の温度センサ503、一つ以上の基準ソース512、減算器509、およびボディバイアスジェネレータ430を含む。温度センサ503は、PLD103内の一つ以上の領域、回路またはブロックにおける温度を感知し、温度信号506を減算器509に供給する。基準ソース512は、基準信号515を減算器509に供給する。基準信号515は、種々の温度レベルに対応する数値を有し得る。
【0095】
減算器509は、基準信号515を温度信号506から減じ、差信号518をボディバイアスジェネレータ430に供給する。差信号518は、PLD103の一つ以上のパーツにおける実際の温度と所望温度との間の差を構成し得る。
【0096】
差信号518に応答して、ボディバイアスジェネレータ430は、ボディバイアス信号435を生成する。ボディバイアスジェネレータ430は、PLD103の性能の種々の局面に影響するボディバイアス信号435を生成するために差信号518を使用し得る。たとえば、差信号518が、スレショルド温度または最大温度より低い温度を示す場合、ボディバイアスジェネレータ430は、PLD103内の一つ以上のトランジスタの閾値電圧を減少させる(および従って、性能の向上の原因となる)ボディバイアス信号を生成し得る。対照的に、差信号518が、安全レベルまたは最大レベルより高い温度レベルを示す場合、ボディバイアスジェネレータ430は、PLD103内の一つ以上のトランジスタの閾値電圧を増加させる(従って、性能の劣化にもかかわらず温度レベルの減少の原因となる)ボディバイアス信号を生成し得る。
【0097】
より一般的には、特定の性能基準を目標にして、ボディバイアスレベルを生成するフィードバックループをインプリメントし得る。別の言い方をすると、PLDの実際の性能手段と所望または特定の手段または基準と比較し、それに従い、ボディバイアスレベルを調整、プログラムまたは設定し得る。
【0098】
図12は、発明の例示的実施形態において使用されるPLDにおけるボディバイアスレベルを調整、プログラムまたは設定する処理または技術の流れ図を示す。制御回路網136などの適切な回路網(または、回路網およびソフトウェアまたはファームウェアとの組み合わせ)を使用することによって、処理または技術をインプリメントし得る。
【0099】
処理は以下のとおり動作する。550において、PLDの所望の部分用の初期ボディバイアスレベルを設定またはプログラムする。その後、553で、PLDの性能手段を得る。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、性能手段は、所定の動作に要する時間、消費電力、出力密度、スループット、オンチップセルフテスト結果などの幅広い様々の基準を含み得る。
【0100】
次に、556において、実際の性能手段が所望または指定の基準を満たすかどうかの判断のためチェックする。満たす場合、559において、処理は、ボディバイアスレベルをそのままにする。他方、実際の性能手段が所望または指定の基準を満たさない場合、562において、処理は、実際の性能手段と所望の性能手段との間の差を減少させるように新しいまたは更新されたボディバイアスレベルを調整、プログラム、または設定する。次に、処理は、553に戻り、実際の性能手段に対する新しいボディバイアスレベルの影響をチェックする。処理は、必要に応じ、無期限か所定の回数を継続し得る。
【0101】
性能手段(たとえば、動作速度、スループット、消費電力など)をチェックすることに加え、PLD内の一つ以上のパーツまたは回路の温度レベルをチェックし得る。図13は、温度レベルを考慮に入れ、ボディバイアスレベルを調整、プログラム、または設定する処理または技術の流れ図を示す。上記の通り、制御回路136などの適切な回路網(または、回路網およびソフトウェアまたはファームウェアとの組み合わせ)を使用することによって、処理または技術をインプリメントし得る。
【0102】
550において、処理は、PLD内の所望のトランジスタ、回路、ブロックなどの初期ボディバイアスレベルを設定、プログラム、または、調整する。553において、処理は、性能手段を得る。上記のとおり、性能手段は、幅広いパラメータまたは変数を含み得る。当業者が理解するように、性能手段の選択は、PLDがインプリメントする回路またはシステムのための設計よび性能仕様などの要因に依存する。
【0103】
その後、553Aにおいて、処理は、温度レベルを得る。上記のとおり、PLDの種々のパーツから一つ以上の温度レベルを得、チェックし得る。例示的実施形態において、任意の識別されたクリティカルパス、または、一般に、比較的に高消費電力および従って比較的に高温度レベルを有し得る任意の回路網から温度レベルを得られ得る。
【0104】
556Aにおいて、処理は、実際の性能手段が所望または指定の基準を満たすかどうかの判断のためチェックする。さらに、処理は、実際の温度レベルが所望または指定の基準を満たすかどうか(たとえば、実際の温度が所定の範囲内にあるかまたはスレショルドレベル以下に落ちるかどうか)の判断のためチェックする。
【0105】
559において、両方ともの条件が当てはまる場合、処理はボディバイアスレベルを不変のままにする。しかし、両方ともの条件が当てはまらない場合、562において、処理は、実際の性能手段と所望の性能手段との間の差および実際の温度レベルと所望または所定の温度レベルとの差を減らすように、新しいまたは更新されたボディバイアスレベルを調整、プログラム、または設定する。次に、処理は、553に戻り、実際の性能手段、および温度レベルに対する新しいボディバイアスレベルの影響をチェックする。処理は、必要に応じ、無期限か所定の回数を継続し得る。
【0106】
その他の実施形態において、PLDがインプリメントする回路またはシステムの動作環境に応答または依存して、ボディバイアスレベルを調整、プログラムまたは設定し得る。たとえば、通信ネットワークのコントローラまたはルータを実現するために、発明に従うPLDを使用すると仮定されたい。動作時、PLDは、コントローラまたはルータが動作する環境の条件または特性についての情報を得られ得る。
【0107】
たとえば、PLDは、環境内のトラフィックレベルに関する手段を得られ得る。PLDの動作環境における条件またはその特性に依存し、PLDは、PLDの性能が動作環境の必要性にマッチするように、PLDの一つ以上のトランジスタにおけるボディバイアスレベルを調整、プログラムまたは設定し得る。もちろん、上の例は、そのようなPLDを使用し得る方法の一例示を構成するに過ぎない。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、発明コンセプトを、回路、システムおよび動作環境で、各々それ自体の特性および条件を有する幅広い回路、システムおよび動作環境に適用し得る。
【0108】
図14は、PLDが動作する環境の特性または条件を考慮に入れ、ボディバイアスレベルを調整、プログラム、または設定する処理または技術のための流れ図を示す。上記のとおり、制御回路網136などの適切な回路網(または、回路網およびソフトウェアまたはファームウェアとの組み合わせ)を使用することによって、処理または技術をインプリメントし得る。
【0109】
処理は以下のとおり動作する。550において、PLDの所望の部分のための初期ボディバイアスレベルをプログラムまたは設定する。その後、553Bにおいて、PLDが動作する環境、回路またはシステムの一つ以上の条件または特性を得る。上記のとおり、条件または特性は、幅広い様々のアイテムを含み得る。
【0110】
次に、556Bにおいて、処理は、動作環境の条件または特性がPLDのより高い性能レベルを望ましくするどうかについて判断するためにチェックする。(上の例を使用するため、たとえば、ネットワークトラフィックレベルは比較的高く、従って、より高いPLD性能またはスループットをより望ましくするかどうか)そうでない場合は、559において、処理は、ボディバイアスレベルをそのままにする。他方、より高いPLD性能またはスループットが望ましい場合、562において、処理は、実際の性能手段と所望の性能手段との差を減らすように、新しいまたは更新されたボディバイアスレベルを調整、プログラム、または設定する。次に、処理は、553Bに戻り、実際の性能手段に対する新しいボディバイアスレベルの影響をチェックする。処理は、必要に応じ、無期限か所定の回数を継続し得る。
【0111】
所定のアプリケーションまたはインプリメンテーション用の設計および性能仕様などの要因によって、発明コンセプトに従う種々の実施形態を使用し得る。たとえば、図14を参照すると、図13に関連し記述された実施形態と同様に、必要に応じ、PLDの種々のパーツの温度レベルを考慮に入れ得ることに注意されたい。
【0112】
別の言い方をすると、より高いPLD性能またはスループットの望ましさを検査するのみならず、PLD内の温度レベルまたは出力密度が向上したPLD性能を安全または適切にするかどうかについても検査する。図15は、そのような実施形態を実現する処理を示す。その手順をアプリケーションによって、所望の回数を繰り返し得る。上記のとおり、制御回路網136などの適切な回路網(もしくは、回路網およびソフトウェアまたはファームウェアとの組み合わせ)を使用することによって、処理または技術をインプリメントし得る。
【0113】
本開示の別の局面は、PLD内の選択された回路または領域の遅延を測定することによって、PLD内の回路網のボディバイアスの設定または調整に関する。図16は、ユーザー回路のトランジスタのボディバイアスを、ユーザー回路の動作遅延を表す遅延に基づき調整する回路配置を示す。より具体的には、回路配置は、PLD103、PLD領域606、ユーザー回路609、遅延回路612、およびボディバイアスコントローラ603を含む。
【0114】
PLD領域606は、ユーザー回路609および遅延回路612を含む。ユーザー回路609は、ユーザーインプリメントまたは指定の回路、または回路の部分(たとえば、クリティカルパス)などの任意の所望の回路網を含み得る。遅延回路612は、ユーザー回路609の実際の遅延を表すか、またはそれのモデルとなる。一般に、遅延は、ユーザー回路609の遅延を表し、遅延は、ユーザー回路609と同じ遅延を有する必要はない。たとえば、遅延回路612は、必要に応じ、ユーザー回路609と同じ遅延、2倍の遅延、半分の遅延などを有し得る。
【0115】
遅延回路612は、信号リンク615(導体などの一つ以上の結合メカニズム)を介して、ボディバイアスコントローラ603と結合する。遅延回路612の実際の遅延に応答して、ボディバイアスコントローラ603は、一つ以上のボディバイアス信号をPLD領域606の少なくともいくつかのトランジスタを提供する(詳細は以下に記述される)。
【0116】
図16は、二つのボディバイアス信号Vb1およびVb2を示すことに注意されたい。ボディバイアス信号は、PLD領域606における少なくとも一つのトランジスタのボディバイアスを調整または設定する。たとえば、一方のボディバイアス信号(たとえば、Vb1)は、PMOSトランジスタのボディバイアスを設定し得るが、他方のボディバイアス信号(たとえば、Vb2)NMOSトランジスタであるボディバイアスを設定し得る、などである。ユーザー回路609におけるトランジスタのボディバイアスを調整することによって、上記のとおり、ユーザー回路の速度とリークとを制御または調整し得る。
【0117】
図17は、発明の例示的実施形態に従うボディバイアスコントローラ603のブロック図を示す。ボディバイアスコントローラ603は、基準信号ジェネレータ625、遅延回路612、位相比較器637、およびボディバイアスジェネレータ430を含む。任意に、ボディバイアスコントローラ603は、詳細は以下に記述のとおり、MUX627を含み得る。
【0118】
基準信号ジェネレータ625は、クロック信号628から基準信号631を生成する。回路の実際の設計およびインプリメンテーションに依存する要因(たとえば、遅延回路612における遅延とユーザー回路609における遅延との関係など)により、基準信号631は、必要に応じ、クロック信号628と特定の関係を有し得る。たとえば、基準信号631は、クロック信号628の半分の周波数を有し得る。基準信号631は、遅延回路612に入力(feed)する。応答して遅延回路612は、基準信号631の遅延バージョンである出力信号634を生成する。
【0119】
必要に応じ、多数のクロック信号628Aの一つを選択する能力を提供するMUX627を任意に使用し得ることに注意されたい。以下に詳細に記述されているように、ボディバイアスコントローラ603は、クロック信号628の周期を使用し基準回路の遅延を測定し、その測定の結果を使用して、ボディバイアス信号を生成しPLD103内の種々の回路へ供給する。MUX627の選択信号627Aによって、選ばれたクロック信号が所望または特定の周期を有するようにクロック信号628Aの一つを選択し得る。その方法によって、ボディバイアスコントローラ603の柔軟性を増加し得る。
【0120】
位相比較器637は、基準信号631と遅延回路612の出力信号634を比較する。二つの信号の相対位相によって、比較器637は、出力信号640(スピードアップ)および出力信号643(スローダウン)を生成する。出力信号640および643は、ボディバイアスジェネレータ430を駆動する。ボディバイアスジェネレータ430は、出力信号640および643に応答して、ボディバイアス信号を生成する。図17に示す特定の例において、ボディバイアスジェネレータは、ボディバイアス信号646(νb1)およびボディバイアス信号649(νb2)を生成する。
【0121】
図18は、本発明の例示的実施形態に従う基準信号ジェネレータ625の回路配置を示す。基準信号ジェネレータ625は、フリップフロップ660ならびにインバータ663および666を含む。この特定の例において、基準信号ジェネレータ625は、2で割る回路を構成する。このように、フリップフロップ660およびインバータ663は、クロック信号628の周波数の半分を有する信号を生成する。インバータ666は、その信号をバッファリングし、基準信号631を供給する。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、回路構成およびアプリケーションによって、必要に応じ、インバータ666を使用する必要がなく、それを省き得る。
【0122】
図19は、発明の例示的実施形態に従う位相比較器637の回路配置を示す。比較器637は、排他的OR(XOR)ゲート675、およびフリップフロップ681を含む。遅延回路612の出力は、XORゲート675の1入力に入力(feed)する。基準信号631は、XORゲート675の第2の入力に入力する。
【0123】
XORゲート675の出力は、フリップフロップ681のデータ(D)入力に入力する。クロック信号628はフリップフロップ681および684を駆動する。フリップフロップ681の出力Qは出力信号640
【0124】
【数3】
イメージ ID=000005

を供給する。出力信号が高いことは、回路があまりに遅く流れていることを示し(より順のボディバイアスを有すべき)、を示し、逆もまた同様である(低信号は、回路がより逆のボディバイアスを有すべきことを示す)。
【0125】
遅延回路612による遅延がクロック信号628の周期より短い場合、ユーザー回路は、あまりに速く動作する。この場合、ゲート675の出力は、クロック信号628の立ち上がり遷移時にロジックゼロとなる。逆に、遅延回路612による遅延がクロック信号628の周期より長い場合、ユーザー回路は、あまりに遅く動作する。それらの状況の下に、XORゲート675は、クロック信号628の立ち上がり遷移時の出力時にロジックハイ信号を供給する。その結果、フリップフロップ681はスピードアップ出力信号を提供する。
【0126】
図20は、発明の例示的実施形態に従う位相比較器637の別の回路配置を示す。図19と同様に、図20の比較器637は、排他的OR(XOR)ゲート675、排他的NOR(XNOR)ゲート678、およびフリップフロップ681および684を含む。さらに、図20の比較器637は不感帯遅延回路690を含む。不感帯遅延回路690は、PLD103内のトランジスタをより安定に電力効率的なボディバイアス調整を行う。
【0127】
より具体的には、不感帯遅延回路690は、XNORゲート678が基準信号634自体よりはむしろ、基準信号634の遅延バージョンを受信する原因となる。不感帯遅延回路690がない場合、比較器637は、ユーザー回路609用の平衡速度、リーク、消費電力を見つけるよう求めるので、比較器のスピードアップおよびスローダウン出力信号を繰り返しおよび交互にアサートし得る。ボディ調整を繰り返す(トランジスタボディの充電と放電)と、電力消費の増加、および従って、効率の低下の原因となる。
【0128】
不感帯遅延回路690は、比較器637が、その出力時に、「チャタ(chatter)」がより少なくなるように助ける。別の言い方をすると、遅延回路612および不感帯遅延回路690を含む比較器637の場合(すなわち、図20)、一つの遅延回路は最小遅延を形成し、両方の合計は最大の遅延を形成する。クロック信号628の周期が両方の遅延の合計を超えた場合、ユーザー回路609はあまりに速く動作する。その結果、比較器637はスローダウン出力信号をアサートする。
【0129】
逆に、クロック周期が遅延回路612の遅延より短い場合、ユーザー回路609は、あまりに遅く動作する。その結果、比較器637はスピードアップ出力信号をアサートする。ユーザー回路609が、速度の許容可能または所定の範囲内で(対応するリークおよび消費電力レベルを伴って)動作する場合、比較器637は、その出力信号のいずれもアサートしない。その結果、比較器637は、ユーザー回路609の許容可能な動作速度を達成するために、比較器の出力信号の繰り返しの変更を避ける。
【0130】
遅延回路612は、固定または調整可能または構成可能な遅延のいずれかを提供し得ることに注意されたい。固定遅延の場合、遅延回路612は、所望または所定の遅延を有するロジック回路を含む。たとえば、遅延回路612は、ゲートなどの組み合わせの論理要素の配置を含み得る。プログラマブルロジック106およびプログラマブルルーティングまたは相互接続109などの、PLD103のプログラマブルリソースを使用して遅延回路612をインプリメントし得る(図1を参照されたい)。
【0131】
代わりに、遅延回路612は、構成可能な遅延を有し得る。図21は、発明に従う例示的実施形態における使用のための構成可能な遅延回路612を示す。図21の遅延回路612は、構成または調整信号703の1セットを受け入れる。信号703は、B0~Biで示されるビットの1セットを含む。構成信号703は、遅延回路612の遅延を調整または構成する。換言すると、構成信号703においてビットの値を設定することによって、時間量を調整し得、その時間量によって遅延回路612は、その出力信号を生成するためにその入力信号を遅延させる。
【0132】
図22は、発明の例示的実施形態に従う構成可能な遅延回路の回路配置を示す。構成可能な遅延回路は、相互接続またはルーティング遅延要素710の1セットのカスケード結合、ロジック遅延要素719の1セットのカスケード結合、MUX713およびMUX725を含む。
【0133】
ルーティング遅延要素710の出力信号は、MUX713の入力信号を構成する。MUX713はまた、一つ以上の選択信号716を受信する。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、選択信号716の数は、ルーティング遅延要素710の数に依存する。選択信号716によって、ルーティング遅延要素710の一つの出力をMUX713の出力に選択的に結合し得る。このように、第1のルーティング遅延要素の入力信号(基準信号631)からMUX713の出力までの遅延の量を構成し得る。
【0134】
同様に、ロジック遅延要素719の出力信号は、MUX725の入力信号を供給。MUX725もまた、一つ以上の選択信号728を受信する。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、選択信号728の数は、ロジック遅延要素719に依存する。選択信号728を使用することによって、ロジック遅延要素719の一つの出力をMUX728の出力へ選択的に結合し得る。従って、第1のロジック遅延要素の入力信号(すなわち、MUX713の出力信号)からMUX725の出力までの遅延の量を構成し得る。
【0135】
MUX713およびMUX725を使用することによって、所望数のルーティング遅延要素710とロジック遅延要素719とのそれぞれの遅延組み合わせを構成するために構成可能な遅延回路の遅延を構成し得る。このように、遅延回路の遅延がユーザーの回路の遅延を表すように、遅延回路を構成し得る(たとえば、詳細上記のPLD構成ソフトウェアによって)。さらに、必要に応じ、ダイナミックな方法で(変化する動作環境、外部制御、ユーザー制御に応答して)遅延を構成し得る。
【0136】
図23は、本発明の例示的実施形態に従うルーティング遅延要素710用の回路配置を示す。ルーティング遅延要素710は、MUX735およびインバータ738を含む。MUX735およびインバータ738は、一緒になって、PLD103内の代表的なルーティングメカニズム(その対応する遅延を含む)を表すよう捜す。MUX735は、その入力の一つおよびその選択入力が接地され、その結果、MUX735はその入力信号をインバータ738に結合する。インバータ738の出力信号は、ルーティング遅延要素738の出力信号を構成する。このように、ルーティング遅延ロジック710は、その出力信号としてその入力信号の反転したバージョンを供給する。
【0137】
図24は、発明の例示的実施形態に従うロジック遅延要素719の回路配置を示す。ロジック遅延要素719は、送信ゲート745、送信ゲート748、インバータ751、およびインバータ754を含む。ロジック遅延要素719内の回路要素は、一緒になって、PLD103内のプログラマブルロジック回路(およびその回路の対応する遅延)を表すように求める。送信ゲート745および748およびインバータ751は、入力信号(そのロジック値に関わらず)をインバータ754の入力に結合するためのメカニズムを提供する。インバータ754の出力信号は、ロジック遅延要素719の出力信号を構成する。このように、ロジック遅延ロジック719は、その出力信号としてその入力信号の反転したバージョンを供給する。
【0138】
図(たとえば、図18~20および22~24)は、図が表すそれぞれの回路の例示的な実施形態を提供するに過ぎないことに注意されたい。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、設計および性能仕様などの要因によって、必要に応じ、その他の回路および実施形態を使用し得る。
【0139】
単なる一例として、離散的時間出力値を有する比較器を使用するよりはむしろ、連続的時間出力値を有する比較器を使用し得る。さらに、調整可能またはプログラマブルなボディバイアス信号をPLD103の種々のパーツに供給するために、必要に応じ、二つ以上のボディバイアスコントローラ603(および比較器)を使用し得る。
【0140】
別の例として、必要に応じ、たとえば、制御回路網136(図1を参照されたい)のパーツとしての専用の回路網を使用して、図にある種々の回路(たとえば、ボディバイアスコントローラ603)を実現し得る。代案として、必要に応じ、PLD103のプログラマブルリソースにおけるそれらの回路(たとえば、図1、図3、および図4を参照されたい)すなわち、プログラマブルロジック106およびプログラマブル相互接続109、をインプリメントし得る。本発明の記述からメリットを享受する当業者は、これらの二つの手法の組み合わせを使用し得ること理解する。換言すると、必要に応じ、一部ではPLD103のプログラマブルリソースを使用することによって、および、一部では専用の回路網を使用して、回路網を実現し得る。インプリメンテーションがPLDプログラマブルリソースを使用する場合、PLDCADソフトウェアは(たとえば、図6Aおよび附属の説明を参照されたい)、PLD103のプログラマブル構造(プログラマブルロジック106およびプログラマブル相互接続109)内の種々の回路要素を配置し、伝送する。
【0141】
さらに、PLDCADソフトウェアは、遅延回路112をインプリメントする回路要素(組み合わせのロジック要素またはルーティング遅延要素710およびロジック遅延要素719)を選択、配置、および伝送する。PLDCADソフトウェアは、遅延回路612がユーザー回路609の遅延を表すように回路要素を選択する。PLDCADソフトウェアは、構成メモリ133のビット値をプログラムし(図1を参照されたい)、構成メモリ133は、その後、MUX選択信号627A(図17を参照されたい)および構成信号703(図21を参照されたい)などの種々の構成またはプログラム信号用の値を供給する。代わりの実施形態において、ユーザーは、ユーザー回路609をモデルにするため、遅延回路612のパラメータを定義し得る。代わりの実施形態は、ユーザーに対しPLD回路網の性能をユーザーの仕様または要件に適合させる能力を提供する。
【0142】
一つの遅延回路612および比較器637を使用するよりはむしろ、その代わりに必要に応じ、複数の遅延回路612および/または比較器637を使用し得ることに注意されたい。そうすることによって、遅延連鎖によって提供される遅延のより多くの解決、および従って、ボディバイアスコントローラの収束の改善を提供し得る。
【0143】
開示の別の局面は、一般に、IC内のトランジスタの性能(リーク、速度、およびワット損)を直接に調整またはプログラムする(それらのトランジスタを含む回路の性能をモデルにする遅延回路を使用するよりはむしろ)ことに関する。より具体的には、IC内の一つ以上のトランジスタのリークレベルをトランジスタのボディバイアスをプログラムまたは調整することによって設定するために、リークロックループ(LLL)を使用し得る。
【0144】
リークロックループ技術は、リーク電流の尺度としての代表遅延を使用することによる間接制御よりはむしろ、その技術が回路のリークを直接に制御する能力を提供するというメリット有する。その技術は、ユーザーが許容または所望リークレベルを指定し、性能とリーク電流およびワット損との間の所望のトレードオフを選択し指定することを可能にする。リークロックループのコンセプトを、一般に、PLDを含むICに適用し得ることに注意されたい。
【0145】
図25は、発明の例示的実施形態に従った、リークロックループのブロック図を示す。リークロックループは、基準トランジスタ760、リーク測定回路766、加算器775、およびボディバイアスジェネレータ430を含む。一般的に言って、リークロックループは負フィードバック回路を含む。リークロックループは、IC回路763内のトランジスタのリーク電流を測定するために、基準トランジスタ760を使用し、それらのトランジスタ用のボディバイアス信号を生成するために、測定されたリーク電流を使用する。
【0146】
必要に応じ、また、本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、他の量を測定するリークロックループの他の実施形態を設計し得、一つ以上のユーザー指定の基準を満たすように一つ以上のトランジスタのボディバイアスを調整し得ることに注意されたい。そのような量の例は、基準トランジスタの閾値電圧(VT)または基準トランジスタの飽和電流(Idsat)を含む。
【0147】
基準トランジスタ760は、IC回路763にある。必要に応じ、二つ以上の基準トランジスタ760を使用し得ること(たとえば、IC回路763の二箇所以上の場所におけるリーク電流を測定すること)に注意されたい。IC回路763は、ICの性能がボディバイアスレベルによって調整またはプログラムされるように求められるそのIC内の回路網を構成する。たとえば、ICはPLDであるという状況において、IC回路763は、ユーザー回路609を構成し得る(たとえば、図16を参照されたい)。
【0148】
一般に、IC回路763のトランジスタ(基準トランジスタ760を含む)が同様な電気的特性を有するようにし、条件の変動(たとえば、処理、電圧、および温度、またはPVT)がIC回路763全体のボディバイアスのプログラムを実質的に劣化しないように、IC内の回路網の十分に小さな部分を含めて、IC回路763を選択する。
【0149】
リーク測定回路766は、基準トランジスタ760のリークを測定し、リーク信号769を加算器775へ供給する。加算器775は、リーク信号769を基準リーク信号(νref)772に比較し、エラー信号778を生成する。ボディバイアスジェネレータ430は、エラー信号を使用し、一つ以上のボディバイアス信号435を生成する。ボディバイアスジェネレータ430は、ボディバイアス信号435をIC回路760内の所望のトランジスタに供給する。
【0150】
図25のリークロックループにおいて、必要に応じ、構成可能コンポーネントを使用し得ることに注意されたい。たとえば、必要に応じ、リーク測定回路766(構成可能利得)、構成可能加算器775(構成可能利得)または加算器775に続く個別の利得ブロック、構成可能基準リーク信号772(構成可能レベル)、および/またはボディバイアスジェネレータ430における構成可能利得を使用し得る。PLD構成RAMビット、PLD上のユーザー回路からの信号、またはこの二つの組み合わせを、それらの構成可能コンポーネントの各々を構成するために、必要に応じ、使用し得ることに注意されたい。
【0151】
図26は、発明の別の例示的実施形態に従ったリークロックループのブロック図を示す。図26におけるリークロックループは、基準トランジスタ760(IC回路763にある)、リーク測定回路766、基準値および比較器回路775、フィルタ787、およびボディバイアスジェネレータ430を含む。
【0152】
基準トランジスタ760およびIC回路763は、図25に関連する上記のそれらのものと同じかまたは同様の構成を有する。リーク測定回路766は、制御信号781によって、プログラマブル利得を供給する。より具体的には、リーク測定回路766がリーク信号769を供給するために、測定されたリーク電流に印加する利得は、制御信号781によって、調整し得る。
【0153】
基準値および比較器回路775は、リーク信号を処理する。基準値および比較器回路775は、必要に応じて、プログラマブル基準値、プログラマブル利得、またはその両方を、制御信号784によって供給する。換言すると、制御信号784によって、基準リーク信号(図25の基準リーク信号772に類似した)、リーク信号769を基準リーク信号と比較しリークエラー信号778を生成する比較器(明白には示されていない)、またはその両方を、必要に応じ、調整し得る。基準値および比較器回路775は、必要に応じて、比較器の出力信号を量子化する量子化器を任意に含み得る。
【0154】
フィルタ787は、リークエラー信号778を濾波および処理し、濾波された信号790を生成する。ボディバイアスジェネレータ430は、図25に関連する上記の方法で動作し、一つ以上のボディバイアス信号をIC回路263に供給する。
【0155】
必要に応じ、フィルタ787をリークロックループから省略し得ることに注意されたい。フィルタ787は、利得ブロックまたは回路、ローパス転送機能または積分器トランジスタ機能などの所望の転送機能を有し得る。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、フィルタ787およびその特定の転送機能を含めるかどうかの選択は、設計および性能仕様ならびに考慮に依存する。
【0156】
必要に応じ、リーク測定回路766、および、基準値および比較器回路775を種々の方法によって実行し得る。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、回路の選択およびインプリメンテーションは、種々の要因(たとえば、使用されるIC技術、所望の性能特性など)に依存する。図27~図29は、いくつかの例を提供する。
【0157】
図27は、発明の例示的実施形態に従ったリーク測定回路766を示す。リーク測定回路766は、PMOSトランジスタ803および805、基準トランジスタ760、および複数のNMOSトランジスタ808A~808Dを含む。
【0158】
基準トランジスタ760のゲートはそのソースに結合し、そのことは、基準トランジスタ760をオフ状態にする。このように、基準トランジスタ760を通じて伝導される電流は、基準トランジスタのリーク電流を表す。トランジスタ803は、基準トランジスタ760とシリアルに結合する。トランジスタ803のゲートは、そのトランジスタのドレインに結合する(いわゆる「ダイオード接続構成」)。
【0159】
トランジスタ803およびトランジスタ805は、電流ミラーを形成する。電流ミラーは、リーク電流(基準トランジスタ760を通った電流)を増幅する。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、増幅のレベルは、トランジスタ803および805の相対サイズに依存する。
【0160】
電流ミラーによって増幅される電流は、オン状態の任意のトランジスタ808A~808Dを通して流れる。トランジスタ808A~808Dは、構成可能な出力電流(リーク電流769)を供給する。適切なレベルの制御信号781を印加することによってトランジスタ808A~808Dを選択的にオンにすることによって、出力電流を構成し得る。一般に、iビットを有する制御信号781に関して、基準電流の2iレベルを供給する。トランジスタ808A~808Dは、制御信号781に応答し所望の基準電流プロファイルを供給するように選択された相対サイズを有し得る。
【0161】
本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、トランジスタの数とサイズの種々の組み合わせを使用し得る。一例として、トランジスタ808B~808Dの各々がその前のトランジスタの2倍の幅を有するように(2進重み付け構成)、トランジスタ808A~808Dのサイズを決め得る。一つの例示的実施形態において、所定のチャネル長に関して、トランジスタ760は200の幅を有し、トランジスタ803は1の幅、トランジスタ805は50の幅、トランジスタ808Aは1の幅、およびトランジスタ808B~808Dは2進重み付け幅を有する(すなわち、トランジスタ808Bは2の幅、トランジスタ808Cは4の幅、など)。
【0162】
図28は、発明の例示的実施形態に従った基準値および比較器回路775を示す。回路は、抵抗818、抵抗821および比較器815を含む。抵抗818および821は、リーク基準信号772を比較器815に供給する分圧器を形成する。所望の基準レベルを供給するように、抵抗818および821の値を選択し得る。比較器815は、リーク信号769をリーク基準信号772と比較し、リークエラー信号778を供給する。比較器815は、必要に応じ、構成可能な利得を有し得る(制御信号784に応答して)。図28は簡略な比較器815を示し、その比較器815は、必要に応じ、比較的正確な基準電圧を供給するために安定した基準回路を含め得ることに注意されたい。
【0163】
図29は、発明の別の例示的実施形態に従った基準値および比較器回路775を示す。回路は、抵抗824、抵抗827、抵抗830、比較器815A、比較器815B、およびカウンタ839を含む。比較器815Aおよび/または815Bは、必要に応じ、構成可能な利得を有し得る(制御信号784に応答して)。
【0164】
図29における基準値および比較器回路775は図28の回路と同様であるが、この回路は、リーク電流用に下限と上限を供給するように二つの基準信号を使用する。より具体的には、抵抗824、827、および830は、リーク基準信号772Aを比較器815Aに供給し、リーク基準信号772Bを比較器815Bに供給する分圧器を形成する。リーク基準信号772Aおよび772Bは、リーク電流用の上下限を構成する。別の言い方をすると、リーク基準信号772Aおよび772Bは、リーク電流用の値の「ウィンドウ」を供給する。リーク基準信号772Aおよび772Bの所望のレベルを供給するように、抵抗824、827、および830の値を選択し得る。
【0165】
比較器815Aは、リーク信号769をリーク基準信号772Aと比較し、ダウン信号833を供給する。ダウン信号833は、カウンタ839をカウントダウンさせる(すなわち、IC回路の動作速度を下げる)。逆に、比較器815Bは、リーク信号769をリーク基準信号772Bと比較し、アップ信号836を供給する。アップ信号836は、カウンタ839をカウントアップさせる(すなわち、IC回路の動作速度を上げる)。別の言い方をすると、カウンタ839は、図26のフィルタ787としての積分器を使用することに類似している。カウント信号842は、カウンタ839の電流カウント値を提供する。ボディバイアスジェネレータ430(図29に示されない)カウント信号842を使用し、ボディバイアス信号435(図29に示されない)を生成し、その信号をIC回路763に供給する。
【0166】
ボディバイアスレベルの制御またはプログラムをさらに供給するために、必要に応じ、IC内に二つ以上のボディバイアスジェネレータ回路430を含め得る。そのような構成において、各ボディバイアスジェネレータ430は一つ以上のボディバイアス信号435を回路(IC回路763など)またはIC内の領域に供給する。
【0167】
このように、ボディバイアスジェネレータ430をプログラムし、ICの各回路または領域用の特定のまたは個々に区別されたボディバイアス信号を供給し得る。代案として、ユーザーは、ICの所定の回路または領域用にボディバイアス信号435の所望の数およびレベルを生成するようにボディバイアスジェネレータ430用のプログラムを特定し、または供給し得る。特に適合されまたはプログラムされたボディバイアスレベルは、ICの各回路または領域用に性能とリークおよびワット損とのトレードオフを可能にする。その結果、ユーザーは、より細かい粒状度で、IC内の種々の部品および回路について性能と電力とのトレードオフに対する制御を増加させる。
【0168】
図30は、発明の例示的実施形態に従った、ICにおける複数のボディバイアス回路を供給するための回路配置を示す。回路配置は、IC領域870、IC回路763A~763Cのセット、対応する数のMUX875A~875C、およびボディバイアスジェネレータ435A~435Cを含む。
【0169】
ボディバイアスジェネレータ430A~430Cの各々は、ボディバイアス信号435A~435Cとして示される一つ以上のボディバイアス信号を生成し、信号をMUX875A~875Cの各々に供給する。選択信号880に応答し、MUX875A~875Cの各々は、ボディバイアスジェネレータ435A~435Cの一つからのボディバイアス信号を選択し、選択されたボディバイアス信号をIC回路763A~763Cの対応する一つに供給する。
【0170】
MUX875A~875Cを使用するよりはむしろ、プログラマブル不揮発性結合メカニズム(ヒューズなど)を使用し得る。そのような状況において、個々のICの特性(たとえば、リークのレベル)を判定するために、製作後個々のICをテストし得、所望または適切なボディバイアス信号をICの種々の領域または回路に供給するように不揮発性結合メカニズムをプログラムし得る。多数のボディバイアスジェネレータを含むことによって、ユーザーは、それらの領域または回路のボディバイアスレベルを独立してプログラムする能力が与えられる。
【0171】
別の実施形態において、不揮発性メモリに記憶された値(ICの特性(たとえば、リークレベル)またはIC内の特定の領域または回路に関係する値など)とユーザー構成またはユーザー特定の値との組み合わせを使用し、ボディバイアスレベルを生成し得る。この案は、性能とワット損およびリークレベルとをトレードオフするために、ICの特性およびユーザー特定のパラメータの両方を考慮に入れることを可能にする。
【0172】
PLDの場合、PLD領域870は、PLD領域606を構成し得(たとえば、図25を参照されたい)、各IC回路763はユーザー回路609に対応し得る。一つ以上の適合またはプログラムされたボディバイアス信号435をPLD103内の各ユーザー回路609(たとえば、図25を参照されたい)に供給し得る。別の実施形態において、IC回路763は、PLD回路(プログラマブルロジック106およびプログラマブル相互接続109)の物理的に近いセット、またはプログラマブルロジック106およびプログラマブル相互接続109の選択されたグループ(たとえば、図3の長方形のアレイに配列されたプログラマブルロジック回路106のグループ)に対応し得る。
【0173】
図30は、ボディバイアス信号435A~435Cを供給する回路網としてのボディバイアスジェネレータ430A~430Cを示す。PLDの場合、一般に、ボディバイアスジェネレータ430A~430Cよりはむしろ、ボディバイアスコントローラ603A~603C(たとえば、図25を参照されたい)を使用し得る。
【0174】
図30は、IC回路763A~763Cを含むとしてのIC領域870を示すことに注意されたい。しかし、本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、逆の状況が存在し得る(すなわち、各IC回路は一つ以上のIC領域870含み得る)。
【0175】
上記の性能同調コンセプトをその他の技術と組み合わせ、出力密度を減少し、または出力密度を安全な範囲内に維持し得ることにさらに注意されたい。たとえば、PLD内の種々の回路をオンまたはオフにし得(図9および添付の説明を参照されたい)、所望の性能レベルと安全または所定の消費電力レベルまたは出力密度とのトレードオフを達成し得る。その他の変種および実施形態は、本発明の記述からメリットを享受する当業者にとって、明らかであろう。
【0176】
一般に、必要に応じ、また、本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、発明コンセプトを、当業界で他の名前で公知の種々のプログラマブルロジック回路網またはICへ効果的に適用し得ることに注意されたい。そのような回路網は、複合プログラマブルロジックデバイス(CPLD)、プログラマブルゲートアレイ(PGA)、およびフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)として公知のデバイスを含む。
【0177】
図を参照すると、当業者は、示された種々のブロックは主としてコンセプトの機能および信号流れを示し得ることに気づく。実際の回路インプリメンテーションは、種々の機能ブロック用の別々に識別可能なハードウェアを含み得または含まれ得なく、また、示された特定の回路網を使用し得または使用し得ない。
【0178】
たとえば、必要に応じ、種々のブロックの機能性を一つの回路ブロックに結合し得る。さらに、必要に応じ、いくつかの回路ブロックにおいて一つのブロックの機能性を実現し得る。本発明の記述からメリットを享受する当業者は理解するように、回路インプリメンテーションの選択は、所定のインプリメンテーション用の特定の設計および性能仕様などの種々の要因に依存する。
【0179】
この明細書に記述された発明の実施形態に加えて、その他の修正および代わりの実施形態は、本発明の記述からメリットを享受する当業者にとって、明らかであろう。従って、この記述は、当業者に発明の実施方法を教え、例示的としてのみと解釈すべきである。
【0180】
示され記述された発明の形式は、現在好適なまたは例示的な実施形態として解すべきである。当業者は、本明細書に記述された発明の範囲から逸脱することなく、形状、サイズ、および部品の配置における種々の変更を行い得る。たとえば、当業者は、本明細書に例示および記述されたエレメントの代わりに同等のエレメントを用い得る。さらに、本発明の記述からメリットを享受する当業者は、発明の範囲から逸脱することなく、発明の特定の特徴を他の特徴の使用とは無関係に使用し得る。

APPARATUS AND METHODS FOR ADJUSTING PERFORMANCE OF INTEGRATED CIRCUITS

Cross-Reference to Related Applications

[001] This application is a continuation-in-part application of, and incorporates by reference, U.S. Patent Application Serial No. 10/848,953, Attorney Docket No. ALTR:026, titled "Apparatus and Methods for Adjusting the Performance of Programmable Logic Devices," filed on May 19, 2004.

Technical Field

[002] The inventive concepts relate generally to adjusting the performance of integrated circuits (ICs), including programmable logic devices (PLDs).

Background

[003] PLDs are ubiquitous electronic devices that provide flexibility to not only designers, but also end-users. During the design cycle of an electronic circuit or system, a designer may perform a relatively large number of design iterations by simply re- programming the PLD for each design. Thus, the length and expense of the design cycle decreases compared to other alternatives. Similarly, the end-user may have a desired level of control over the functionality of a design that includes PLD(s). By programming the PLD(s) in the field or even on a real-time basis, the user can change the way the circuit or system behaves.

[004] To accommodate increasingly complex designs, modern PLDs include a relatively large number of transistors. Furthermore, users demand ever higher performance, which results in larger operating frequencies. Consequently, the power consumption, power dissipation, die temperatures and, hence, power density (power dissipation in various circuits or blocks), of PLDs has tended to increase. The upward march of the power density, however, may make PLDs design and implementation impractical or failure-prone. A need exists for PLDs that feature adjustable power consumption and performance. A further need exists for directly controlling the performance (leakage, speed, and power dissipation) of transistors within general ICs.

Summary [005] The disclosed novel concepts relate to apparatus and methods for adjusting the performance of PLDs, for example, by making a speed-power consumption trade-off. One aspect of the inventive concepts relates to apparatus for adjusting the performance of PLDs. In one embodiment, a PLD configured to implement a user's circuit includes a delay circuit and a body-bias generator. The delay circuit has a delay that represents the delay of a user's circuit implemented in the PLD. The user's circuit includes at least one transistor. The body-bias generator adjusts a body bias of the transistor in the user's circuit in response to a quantity derived from the propagation delay of the delay circuit.

[006] In another embodiment, a PLD includes a reference transistor, a current measurement circuit, and body-bias generator. The reference transistor provides a current relates to a circuit within the PLD. The current measurement circuit measures the current provided by the reference transistor, and provides a measured current signal to the body-bias generator. The body-bias generator derives at least one body-bias signal from the measured current signal, and provides the body bias-signal(s) to the circuit in the PLD.

[007] In yet another embodiment, a PLD includes a plurality of user circuits and a plurality of body-bias generators. Each of the user circuits is implemented in the PLD. At least one of the plurality of body-bias generators is configured to selectively adjust a body bias of a transistor within at least one of the user circuits.

[008] Another aspect of the inventive concepts relates to methods of adjusting the performance of PLDs and using PLDs to implement a user's circuits. In one embodiment, a method of using a PLD to implement an electronic circuit includes mapping the electronic circuit to functional resources within the PLD to generate a design, and deriving a body-bias value from a delay representative of a signal propagation delay within at least one portion of the generated design. The method further includes programming a body-bias level of at least one transistor within the portion of the generated design to the body-bias value. - A -

[009] In another embodiment, t method of adjusting a leakage level of a transistor in a circuit embodied within a PLD includes obtaining a current that represents a leakage current of the transistor, and deriving a body-bias level from the obtained current. The method further includes adjusting the body bias of the transistor to the derived body-bias level.

[0010] In yet another embodiment, a method of realizing a user's circuit in at least one circuit region in a PLD includes selecting a body-bias level for at least one transistor in the circuit region, and generating an initial placement of the circuit region within the PLD. The method further includes changing at least once the body-bias level to be applied to the transistor(s) in the circuit region to another level if the existing body-bias level and placement fail to meet prescribed performance criteria.

Brief Description of the Drawings [0011] The appended drawings illustrate only exemplary embodiments of the invention and therefore should not be considered as limiting its scope. Persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention appreciate that the disclosed inventive concepts lend themselves to other equally effective embodiments. In the drawings, the same numeral designators used in more than one drawing denote the same, similar, or equivalent functionality, components, or blocks.

[0012] FIG. 1 shows a general block diagram of a PLD according to an illustrative embodiment of the invention.

[0013] FIG. 2 illustrates a MOS transistor used in exemplary embodiments according to the invention. [0014] FIG. 3 depicts a floor-plan of a PLD according to an exemplary embodiment of the invention.

[0015] FIG. 4 shows a block diagram of a programmable logic in a PLD according to an exemplary embodiment of the invention.

[0016] FIG. 5 illustrates a multiplexer used in PLDs according to exemplary embodiments of the invention that incorporate body-bias adjustment.

[0017] FIG. 6 A depicts various software modules that a PLD computer-aided design (CAD) software according to illustrative embodiments of the invention uses.

[0018] FIG. 6B illustrates a flow diagram for a PLD CAD software according to an exemplary embodiment of the invention.

[0019] FIG. 7 shows a flow diagram for the process of adjusting body bias according to an exemplary embodiment of the invention.

[0020] FIG. 8 illustrates a block diagram of circuitry within a PLD according to exemplary embodiments of the invention to adjust, program, or set the body-bias levels of desired PLD circuitry or blocks.

[0021] FIG. 9 depicts a block diagram of a circuit for selectively turning off circuitry or reducing or generally controlling power consumption of circuitry within a PLD according to exemplary embodiments of the invention. [0022] FIG. 10 shows a circuit arrangement according to exemplary embodiments of the invention for adjusting body-bias levels within a PLD in response to an external source.

[0023] FIG. 11 illustrates a circuit arrangement for modifying body-bias level(s) within a PLD according to exemplary embodiments of the invention.

[0024] FIG. 12 depicts a flow diagram for a process or technique of adjusting, programming, or setting body-bias levels in a PLD used in exemplary embodiments of the invention.

[0025] FIG. 13 shows a flow diagram for a process or technique of adjusting, programming, or setting body-bias level(s) that takes temperature level(s) into account.

[0026] FIG. 14 illustrates a flow diagram for a process or technique of adjusting, programming, or setting body-bias level(s) that takes into account the characteristics of the environment in which the PLD operates.

[0027] FIG. 15 depicts a flow diagram for a process or technique of adjusting, programming, or setting body-bias level(s) that takes into account temperature level(s) and the characteristics of the environment in which the PLD operates.

[0028] FIG. 16 shows a circuit arrangement for adjusting the body bias of transistors in a user circuit based on a delay representative of the operating delay of the user circuit.

[0029] FIG. 17 illustrates a block diagram of a body-bias controller according to an illustrative embodiment of the invention. [0030] FIG. 18 depicts a circuit arrangement for reference-signal generator according to an exemplary embodiment of the invention.

[0031] FIG. 19 shows a circuit arrangement for a phase comparator according to an exemplary embodiment of the invention.

[0032] FIG. 20 illustrates another circuit arrangement for a phase comparator according to an exemplary embodiment of the invention.

[0033] FIG. 21 depicts a configurable delay circuit for use in illustrative embodiments according to the invention.

[0034] FIG. 22 shows a circuit arrangement for a configurable delay circuit according to an exemplary embodiment of the invention.

[0035] FIG. 23 illustrates a circuit arrangement for a routing delay element according to an illustrative embodiment of the invention.

[0036] FIG. 24 depicts a circuit arrangement for a logic delay element according to an exemplary embodiment of the invention.

[0037] FIG. 25 shows a block diagram of a leakage-locked loop according to an illustrative embodiment of the invention.

[0038] FIG. 26 illustrates a block diagram of a leakage-locked loop according to another exemplary embodiment of the invention. [0039] FIG. 27 depicts a leakage measurement circuit according to an illustrative embodiment of the invention.

[0040] FIG. 28 shows a reference value and comparator circuit according to an illustrative embodiment of the invention.

[0041] FIG. 29 illustrates a reference value and comparator circuit according to another exemplary embodiment of the invention.

[0042] FIG. 30 depicts a circuit arrangement according to an exemplary embodiment of the invention for providing multiple body-bias circuits in an IC.

Detailed Description [0043] The inventive concepts contemplate apparatus and associated methods for PLDs that feature adjustable power and performance. The inventive concepts help to overcome excessive power density levels that conventional PLDs suffer. Moreover, one may adjust the performance level of a desired portion, or all, of a PLD according to the invention (i.e., on a granular basis ranging from individual transistors all the way to the entire PLD circuitry).

[0044] More specifically, and as described below in detail, the inventive concepts contemplate setting, programming, or adjusting the body or well bias of individual transistors, or groups of transistors, in a PLD. Adjusting the body bias varies the power consumption and performance of the transistor(s). [0045] The inventive concepts provide the following benefits over traditional implementations. First, they allow trading off performance and power consumption or optimizing the performance-power consumption tradeoff. Second, one may selectively set, program, or adjust the body-bias level(s) in critical circuit paths or parts of the PLD so as to increase their performance as desired. Conversely, one may selectively set, program, or adjust the body-bias level(s) in non-critical circuit paths or parts of the PLD and therefore reduce their power consumption and lower their power densities.

[0046] In addition, one may shut down or disable unused parts or circuits within the PLD, thus reduce their power consumption and lower their power densities. One may also employ the inventive concepts to prevent (or reduce the probability of) thermal runaway. More specifically, in a traditional PLD, circuits operating at relatively high speeds tend to consume more power, resulting in temperature increase of the PLD. The increased power consumption may cause those circuits to consume more power. This positive feedback mechanism may increase the power densities to unsafe or destructive levels.

[0047] FIG. 1 shows a general block diagram of a PLD 103 according to an illustrative embodiment of the invention. PLD 103 includes configuration circuitry 130, configuration memory 133, control circuitry 136, programmable logic 106, programmable interconnect 109, and I/O circuitry 112. In addition, PLD 103 may include test/debug circuitry 115, one or more processors 118, one or more communication circuitry 121, one or more memories 124, one or more controllers 127, as desired. [0048] Note that FIG. 1 shows a simplified block diagram of PLD 103. Thus, PLD 103 may include other blocks and circuitry, as persons of ordinary skill in the art understand. Examples of such circuitry include clock generation and distribution circuits, redundancy circuits, and the like. Furthermore, PLD 103 may include, analog circuitry, other digital circuitry, and/or mixed-mode circuitry, as desired.

[0049] Programmable logic 106 includes blocks of configurable or programmable logic circuitry, such as look-up tables (LUTs), product-term logic, multiplexers, logic gates, registers, memory, and the like. Programmable interconnect 109 couples to programmable logic 106 and provides configurable interconnects (coupling mechanisms) between various blocks within programmable logic 106 and other circuitry within or outside PLD 103.

[0050] Control circuitry 136 controls various operations within PLD 103. Under the supervision of control circuitry 136, PLD configuration circuitry 130 uses configuration data (which it obtains from an external source, such as a storage device, a host, etc.) to program or configure the functionality of PLD 103. The configuration data determine the functionality of PLD 103 by programming programmable logic 106 and programmable interconnect 109, as persons skilled in the art with the benefit of the description of the invention understand.

[0051] I/O circuitry 112 may constitute a wide variety of I/O devices or circuits, as persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention understand. I/O circuitry 112 may couple to various parts of PLD 103, for example, programmable logic 106 and programmable interconnect 109. I/O circuitry 112 provides a mechanism and circuitry for various blocks within PLD 103 to communicate with external circuitry or devices.

[0052] Test/debug circuitry 115 facilitates the testing and troubleshooting of various blocks and circuits within PLD 103. Test/debug circuitry 115 may include a variety of blocks or circuits known to persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention. For example, test/debug circuitry 115 may include circuits for performing tests after PLD 103 powers up or resets, as desired. Test/debug circuitry 115 may also include coding and parity circuits, as desired.

[0053] As noted above, PLD 103 may include one or more processors 118. Processor 118 may couple to other blocks and circuits within PLD 103. Processor 118 may receive data and information from circuits within or external to PLD 103 and process the information in a wide variety of ways, as persons skilled in the art with the benefit of the description of the invention appreciate. One or more of processor(s) 118 may constitute a digital signal processor (DSP). DSPs allow performing a wide variety of signal processing tasks, such as compression, decompression, audio processing, video processing, filtering, and the like, as desired.

[0054] PLD 103 may also include one or more communication circuitry 121. Communication circuitry 121 may facilitate data and information exchange between various circuits within PLD 103 and circuits external to PLD 103, as persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention understand. As an example, communication circuitry 121 may provide various protocol functionality {e.g., Transmission Control Protocol/Internet Protocol (TCP/IP), User Datagram Protocol (UDP) etc.), as desired. As another example, communication circuitry 121 may include network (e.g., Ethernet, token ring, etc.) or bus interface circuitry, as desired.

[0055] PLD 103 may further include one or more memories 124 and one or more controller(s) 127. Memory 124 allows the storage of various data and information (such as user-data, intermediate results, calculation results, etc.) within PLD 103. Memory 124 may have a granular or block form, as desired. Controller 127 allows interfacing to, and controlling the operation and various functions of circuitry outside the PLD. For example, controller 127 may constitute a memory controller that interfaces to and controls an external synchronous dynamic random access memory (SDRAM), as desired.

[0056] The blocks of circuitry within PLD 103 include a number of transistors. More particularly, the transistors constitute metal oxide semiconductor (MOS) transistors, such as N-type MOS (NMOS), P-type MOS (PMOS), complementary MOS (CMOS), or partially depleted silicon-on-insulator (SOI) MOS transistors (or a combination of those types of transistors), as desired.

[0057] FIG. 2 shows a MOS transistor used in exemplary embodiments according to the invention. The MOS transistor includes body (or substrate) region 203, source region 206, drain region 209, gate insulator 215, and gate 212. The drain current of the MOS transistor in the saturation region of operation depends on the threshold voltage and the gate-to-source voltage of the transistor:

(1) where ij) ― the total drain current (i.e., including AC and DC components), K= a constant, VQS = the total gate-to-source voltage (i.e., including AC and DC components), and Vj1= the threshold voltage.

[0058] The threshold voltage, Vj1, depends on a number of factors, such as the voltage between source region 206 and body region 203 of the transistor. The following equation provides the threshold voltage as a function of the body-to-source voltage:

VT = Km + r{pΦF -vBS ~ ftfF . (2A) Alternatively, one may write Equation 2 A in terms of the source-to-body voltage:

? 29Λ ,Fw ' (2B)

where VT(o) = the threshold voltage with the source-to-body voltage (or body-to-source voltage) set to zero, γ= the body factor, a constant that depends on the doping levels of the body,

a constant, VBS ~ the total body-to-source voltage (i. e. , including AC and DC components), and vsB = the total source-to-body voltage (i.e., including AC and DC components). Note that when the body-to-source voltage, vβS (or source-to-body voltage, VSB) equals zero, the threshold voltage, Vj1, equals Vτ(0)-

[0059] As Equation 2B shows, for a finite body factor, γ, the transistor's threshold voltage increases as the source-to-body voltage, vsB-> increases. Equation 1, however, indicates that for a given gate-to-source voltage an increase in the threshold voltage decreases the drain current, i][), of the transistor. In other words, according to Equations 1 and 2B, for a constant gate-to-source-voltage, VQS, an increase in the source-to-body voltage, v£g, causes an increase in the threshold voltage, Vj1.

[0060] An increased threshold voltage, Vχ} in turn causes a decrease in the quantity (VQS - Vf) and, consequently, a decrease in the drain current, ij), of the transistor. Thus, for a constant gate-to-source-voltage, VQS, an increase in the source-to-body voltage, v$g, causes a decrease in the current-drive capability (one measure of performance) of the transistor. The decreased current-drive capability of the transistor in turn leads to slower circuit operation and, ultimately, to slower operation of the PLD that includes the transistor.

[0061] The power dissipation of the transistor also varies according to changes in its threshold voltage. More specifically, a smaller threshold voltage increases the OFF-state leakage current (Joff) of the transistor, and vice- versa. The I off 0^ the transistor affects its static (non-switching) power dissipation. In addition, a smaller threshold voltage decreases the dynamic or switching power dissipation of the transistor. Thus, changing the threshold voltage by adjusting the body bias affects the power dissipation of the MOS transistor.

[0062] Furthermore, for a given supply voltage, Vf)J), an increase in the threshold voltage, Vx, limits the maximum voltage that the transistor can transmit when operating as a pass transistor. In other words, if the threshold voltage, Vx, increases to the point that it equals or exceeds the gate-to-source-voltage, VQS, the drain current reduces to zero. Thus, a voltage applied to the drain of the transistor, for example, a voltage that corresponds to a logic 1 level, fails to properly transmit to the source of the transistor. Consequently, the transistor fails to operate reliably as a pass transistor.

[0063] As the above description shows, one may affect the performance of the MOS transistor by adjusting its body bias and hence its source-to-body voltage (ultimately resulting in a chance in its threshold voltage). Adjusting the body bias affects performance measures such as current-drive capability, speed of operation, power dissipation, etc.

[0064] As noted above, in embodiments according to the invention, one may adjust the body bias of individual transistors, individual circuits or blocks within the PLD, groups of transistors or blocks, or even the entire PLD, as desired. Furthermore, one may control the body bias of individual NMOS and PMOS transistors, or the body biases of groups of NMOS and PMOS transistors, as desired. The following description provides the details.

[0065] FIG. 3 shows a floor-plan of a PLD 103 according to an exemplary embodiment of the invention. PLD 103 includes programmable logic 106 arranged as a two- dimensional array. Programmable interconnect 109, arranged as horizontal interconnect and vertical interconnect, couples the blocks of programmable logic 106 to one another. One may adjust the body bias of each block of programmable logic 106, each segment of programmable interconnect 109, or both, as desired. Furthermore, one may adjust the body bias of a portion of one or more blocks of programmable logic 106, a portion of programmable interconnect 109, or both, as desired. [0066] In illustrative embodiments, PLDs according to the invention have a hierarchical architecture. In other words, each block of programmable logic 106 in FIG. 3 may in turn include smaller or more granular programmable logic blocks or circuits. One may adjust the body bias of transistors in each level of the hierarchical architecture of the PLD, as desired.

[0067] FIG. 4 shows a block diagram of a programmable logic 106 in a PLD according to an exemplary embodiment of the invention. Programmable logic 106 includes logic elements or programmable logic circuits 250, local interconnect 253, interface circuit 256, and interface circuit 259. Logic elements 250 provide configurable or programmable logic functions, for example, LUTs, registers, product-term logic, etc., as persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention understand. Local interconnect 253 provides a configurable or programmable mechanism for logic elements 250 to couple to one another or to programmable interconnect 109 (sometimes called "global interconnect"), as desired.

[0068] Interface circuit 256 and interface circuit 259 provide a configurable or programmable way for programmable logic 106 block of circuitry to couple to programmable interconnect 109 (and hence to other programmable logic 106, as FIG. 3 shows). Interface circuit 256 and interface circuit 259 may include multiplexers (MUXs), registers, buffers, drivers, and the like, as persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention understand.

[0069] One may adjust the body bias of each portion or block of circuitry within PLD 103 (see FIGS. 1, 3, and 4), as desired. Furthermore, one may adjust the body bias of each portion or block of circuitry independently of others, on an individual or collective basis, as desired. Within each portion or block of circuitry, one may adjust the body bias of each sub-block or transistor, or groups of sub-blocks or transistors, on an individual or collective basis, as desired.

[0070] For example, one may adjust the body bias of all or a portion of the following circuitry within a PLD according to exemplary embodiments of the invention: one or more of the blocks in FIG. 1 (e.g., programmable logic 106, programmable interconnect 109, etc.); one or more logic elements 250 within one or more programmable logic blocks 106; one or more interface circuits 256 and/or 259, within one or more programmable logic blocks 106; one or more local interconnect within one or more programmable logic 106; and one or more MUXs, drivers, buffers, etc., within one or more interface circuits 256 and/or 259.

[0071] As noted above, one may make the body-bias adjustments in any desired level of granularity. In other words, one may make the adjustments applicable to individual transistors, groups of transistors, sub-blocks, blocks, or the entire PLD, as desired, and as applicable. For example, one may make body-bias adjustments to one or more NMOS transistors independently of one or more PMOS transistors, as desired.

[0072] Furthermore, one may adjust the body bias of one element in PLD 103 independently of all other elements, as desired. As persons of ordinary skill in the art with the benefit of the description of the invention understand, one may adjust the body bias some parts of a PLD and yet provide a fixed or default body bias for other parts of the PLD, as desired. [0073] As an example of the granularity of body-bias adjustment, consider a two-input, one-output MUX. FIG. 5 shows a MUX used in PLDs according to exemplary embodiments of the invention that incorporate body-bias adjustment. The MUX includes transistor 275 and transistor 278. The MUX receives a signal from circuit A and another signal from circuit B. In response to a select signal, S, and its complement, 5", the MUX routes to circuit C (coupled to the output of the MUX) either the signal from circuit A or the signal from circuit B.

[0074] One may adjust the body biases of transistor 275 and transistor 278 in a number of ways. First, one may choose to not adjust the body biases {e.g., use a default body bias within the PLD). Second, one may adjust the body bias of transistor 275 to the same level as the body bias of transistor 278. As an alternative, one may adjust the body bias of only of transistor 275 and transistor 278. As another choice, one may adjust individually the body biases of each of transistor 275 and transistor 278.

[0075] Thus, one may configure the performance properties of the MUX in a flexible manner. Put another way, one may balance or trade off the speed of operation, current- drive capability, and power dissipation of the MUX against one another. As further examples, note that one may extend the body-bias adjustment concept to a set of transistors in a MUX, to a particular signal route {e.g., a signal routing corresponding to a particular input), to a set of pass transistors (for example, a set of pass transistors in programmable routing, which feed a MUX shared by other sets of pass transistors to save configuration memory bit counts), etc.

[0076] As noted above, the user may adjust the body bias of various portions of PLDs according to the invention. The user may do so by using the software used to map a design to a PLD. FIG. 6A depicts various software modules that PLD computer-aided design (CAD) software according to illustrative embodiments of the invention uses. The modules include design-entry module 305, synthesis module 310, place-and-route module 315, and verification module 320.

[0077] Design-entry module 305 allows the integration of multiple design files. The user may generate the design files by using design-entry module 305 or by using a variety of electronic design automation (EDA) or CAD tools (such as industry-standard EDA tools), as desired. The user may enter the design in a graphic format, a waveform- based format, a schematic format, in a text or binary format, or as a combination of those formats, as desired.

[0078] Synthesis module 310 accepts the output of design-entry module 305. Based on the user-provided design, synthesis module 310 generates appropriate logic circuitry that realizes the user-provided design. One or more PLDs (not shown explicitly) implement the synthesized overall design or system. Synthesis module 310 may also generate any glue logic that allows integration and proper operation and interfacing of various modules in the user's designs. For example, synthesis module 310 provides appropriate hardware so that an output of one block properly interfaces with an input of another block. Synthesis module 310 may provide appropriate hardware so as to meet the specifications of each of the modules in the overall design or system.

[0079] Furthermore, synthesis module 310 may include algorithms and routines for optimizing the synthesized design. Through optimization, synthesis module 310 seeks to more efficiently use the resources of the one or more PLDs that implement the overall desigii or system. Synthesis module 310 provides its output to place-and-route module 315.

[0080] Place-and-route module 315 uses the designer's timing specifications to perform optimal logic mapping and placement. The logic mapping and placement determine the use of routing resources within the PLD(s). In other words, by use of particular programmable interconnects with the PLD(s) for certain parts of the design, place-and- route module 315 helps optimize the performance of the overall design or system. By proper use of PLD routing resources, place-and-route module 315 helps to meet the critical timing paths of the overall design or system. Place-and-route module 315 optimizes the critical timing paths to help provides timing closure faster in a manner known to persons of ordinary skill in the art with the benefit of the description of the invention. As a result, the overall design or system can achieve faster performance (i.e., operate at a higher clock rate or have higher throughput).

[0081] Furthermore, place-and-route module 315 adjusts the body bias of a portion of or all of the PLD(s) that implement the design or system. Place-and-route module 315 may do so automatically, according to user-specified criteria, or a combination of the two. Place-and-route module 315 may use the user-specified criteria (for example, performance specifications, such as power dissipation, speed, and/or current-drive capability). In addition, or instead, place-and-route module 315 may use the information about critical paths within the design or system to adjust body biases of parts or all of the design or system, as desired.

[0082] For example, place-and-route module 315 may adjust the body biases of the critical parts of the design or system so as to achieve higher performance. Place-and- route module 315 may take into account power dissipation criteria (e.g., maximum power density) so as to trade off power and performance, as desired. Place-and-route module 315 provides the optimized design to verification module 320.

[0083] Verification module 320 performs simulation and verification of the design. The simulation and verification seek in part to verify that the design complies with the user's prescribed specifications. The simulation and verification also aim at detecting and correcting any design problems before prototyping the design. Thus, verification module 320 helps the user to reduce the overall cost and time-to-market of the overall design or system.

[0084] Verification module 320 may support and perform a variety of verification and simulation options, as desired. The options may include design-rule checking, functional verification, test-bench generation, static timing analysis, timing simulation, hardware/software simulation, in-system verification, board-level timing analysis, signal integrity analysis and electro-magnetic compatibility (EMC), formal netlist verification, and power-consumption estimation, as desired. Note that one may perform other or additional verification techniques as desired and as persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention understand. As noted above, PLD architecture and circuitry according to the invention provide the ability for the user to trade in a PLD, or regions of a PLD, speed for leakage (and, hence, power dissipation). To make usage of this functionality as convenient as possible for the user, PLD CAD according to exemplary embodiments of the invention can configure the circuitry automatically so as to meet the user's specifications and criteria automatically. Furthermore, to maximize the leakage reduction while minimizing the speed impact on the user's circuit, PLD CAD according to various embodiments of the invention takes the presence of bias regions into account during the implementation of the user circuit, and optimizes the circuit so as to maximize the effectiveness of the bias regions. The following description provides details of the functionality of the PLD CAD.

[0085] For a timing-driven PLD CAD system to best exploit substrate-bias, it should estimate the substrate-bias to for the PLD, or each region (which may include one or more transistors) of the PLD, during design implementation. The PLD CAD takes into account the body bias during timing analysis of the design. Thus, the body-bias levels affect which portions of the design become critical from a timing point of view.

[0086] Initially, the CAD system assumes some body-bias level (and, hence, leakage/speed setting) for each region in the PLD for which the user wishes to set or program the body-bias level(s) of one or more transistors. As one possible choice, the PLD CAD may assume that all affected regions will use a relatively low speed setting (i.e., a body bias that results in relatively low leakage levels). The PLD CAD system provides an initial placement of the PLD circuitry. Placement proceeds via iterative improvements of that initial placement.

[0087] At various points during this iterative improvement procedure, the PLD CAD estimates the speed of the circuit, and calculates timing slack values for all connections involved. The calculation of timing slack values takes into account the current body-bias level selected for each region when estimating delays. Note that the PLD CAD interleaves body-bias selection with iterative improvements of placement. The PLD CAD evaluates regions that contain portions of the circuit with smaller average and worst-case connection slack values for conversion to a higher-speed (and corresponding higher leakage) body-bias setting. The CAD software selects a new candidate bias setting for one or more regions, and evaluates the bias setting by estimating the total cost of the new setting in terms of circuit timing, and the total increase in leakage current and/or power. If the new bias setting leads to positive slack values for all connections in the region (or less-negative slack levels in the region), the PLD CAD generally adopts the new bias setting.

[0088] Similarly, the CAD software evaluates for conversion to a lower-speed body-bias setting those regions that currently have relative high bias settings, but in which all connections have positive slack values. The CAD software adopts the new body-bias setting if doing so would not cause a violation of any circuit timing criterion or criteria.

[0089] Upon changing one or more bias setting(s), iterative placement improvement continues to try to resolve any potential timing concerns or violations generated by the changed bias setting, or it tries moving more time-critical circuitry into newly created bias regions with higher speed. The algorithm terminates either when the placement and routing meets the user's timing and power goals, or when it reaches a desired or prescribed iteration limit (i.e., it appears that it cannot accomplish any no further improvement).

[0090] FIG. 6B illustrates a flow diagram for a PLD CAD software according to an exemplary embodiment of the invention. The PLD CAD shown in FIG. 6B incorporates the choice of body bias for each region of the PLD into a timing-driven place-and-route CAD system.

[0091] More specifically, at 330, the PLD CAD sets initial region body-bias setting(s). At 335, the software generates an initial placement. Then, at 338, it analyzes the timing of the circuitry using delay estimates that reflect present body-bias settings. At 341, the software determines whether it has met the user's timing and power goals. If so, at 344 it records the placement and body-bias selections. If not, the software checks at 347 to determine whether it has reached the iteration limit. If so, it proceeds to 344 to record the current placement and body-bias selections. If the software has not reached the iteration limit, it increments the iteration count (not shown explicitly), and at 350 changes the bias settings of at least some regions. At 353, it analyzes the timing of the circuitry using delay estimates that reflect the changed body-bias settings. At 356, it improves the placement of the circuit, and jumps to 341 to determine whether it has met the user' s timing and power goals.

[0092] As persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention understand, one may use many variations of the algorithms described here. For example, one may use a variety of initial body-bias settings, such as setting all regions to low speed, or to high speed. If the software estimates that it will meet all timing specifications in a placement, it may evaluate converting high-speed bias regions to low-speed regions, with preference given to regions containing connections with larger positive slack values. After converting some regions into low-speed regions, the software resume placement improvement. The software may iterate those two steps until it meets the user's power and timing goals.

[0093] As a second example, the software may generate an initial setting of bias regions from a user's chip floor-plan. The software initially sets the bias for the time-critical regions in the floor-plan for high speed of operation, and sets the bias for other regions for relatively low speed of operation. The software may then use the technique shown in FIG. 6B for further improvement in bias selection. [0094] As a third example, the software may generate an initial setting of body bias from a quick placement of the circuit, followed by a timing analysis, to distinguish speed- critical regions from other regions. The placement may constitute a normal placement, or may constitute a "coarse placement" that determines in which body-bias region to locate each part of the user's circuit. The software may then use the algorithm in FIG. 6B for further improvement of those initial bias settings.

[0095] As a fourth example, before beginning placement, the software may pre-cluster the circuit into relatively large circuit elements that constitute a body-bias region. Each of the clusters may consist of circuitry that is either time-critical or non-time-critical. The software may place the clusters on a coarse grid that represents the PLD 's body-bias regions. The software may then set the bias level of each region according to the type of circuitry placed in it. Thus, time-critical circuits receive a relatively high-speed body- bias setting, whereas non-time-critical circuits receive a relatively low-speed. The software may then use the algorithm in FIG. 6B with those initial bias settings to improve the placement.

[0096] As a fifth example, other algorithms besides placement algorithms, such as routing algorithms, may take into account the body-bias of a given region in their delay estimation. One may interleave such algorithms with body-region bias fine-tuning by interleaving region body-bias selection and normal algorithm optimization.

[0097] Once the PLD CAD has implemented a design {i.e., synthesized, placed and routed the design), the CAD software should automatically set the body-bias circuitry {e.g., body-bias generation circuitry, body-bias control circuitry) to the correct state and body-bias level(s). The software may do so in several ways, depending on the details of the body-bias circuitry works, and also on user's goals.

[0098] As one alternative, if the user has a leakage power goal, and the bias circuitry incorporates leakage-locked loops (described below in detail), the PLD CAD should set the bias circuitry to so that the leakage power is less than or equal to the user's power- dissipation goal. The CAD software may then analyze the timing of the circuit at relatively high temperatures and the process corner with the highest ratio of leakage current to "ON" transistor drive current so that the circuit meets all timing specifications at that process and operating condition. If the user instead has the goal of minimizing leakage power, subject to meeting all timing specifications, the software may set the leakage-locked loop in each region such that the transistors operate in a regime where they meet all timing constraints at the worst expected process and operating corner. Generally, the corner will occur at relatively high temperatures and at the process corner with the highest ratio of leakage current to "ON" transistor drive current.

[0099] As another alternative, if the user has the goal of minimizing power subject to meeting some timing specifications and the bias circuitry includes delay-locked loops, the CAD software may set or program the delay loops so that that the circuit meets those timing specifications. The software may do so by extracting the most critical path from the circuitry in each body-bias region via timing analysis. If the delay-locked loop uses a programmable delay chain, the software sets the circuitry such that it sets the delay of the reference chain in each body-bias region to a nominal delay value greater than the nominal delay of the corresponding body-bias region's critical path. The software routes to the delay-locked circuitry the appropriate clock signal(s) that define the launch and capture edges for the critical path. Usually the same clock signal defines both the launch and capture edges, but in designs with multiple phase and frequency-related clock signal(s), separate clock domains may define the launch and capture edges. If the delay- locked loop is "soft" and locks to some PLD circuitry, the CAD system should make as precise a copy of each critical path for each bias region as possible to be used as reference delay of the delay-locked loop.

[00100] As yet another alternative, the PLD CAD may give the user the ability to select between various power-delay trade-offs by programming the body-bias circuitry. In that case, the CAD software looks up the appropriate power and delay models according to the bias setting the user has chosen, and uses those models in power and timing analysis. The software may make the power and delay models less conservative (worst-case). One may do so by testing the devices before shipment to users, and storing data (generally, in the form of the threshold voltage) indicating the transistor speed and leakage in the PLD (for example, in non- volatile memory that resides within the PLD). The CAD software still programs the user's desired power-delay trade-off into the device during programming, but on-chip hardware compares this "desired" trade-off with the stored device characteristics, and computes and applies the appropriate body bias levels so that the transistors have the desired power-delay trade-off.

[00101] FIG. 7 shows a flow diagram for the process of adjusting body bias according to an exemplary embodiment of the invention. A program, such as the software described in conjunction with FIG. 6A, may perform the process in FIG. 7.

[00102] Once the process begins, at 403, it identifies critical circuit path(s) within the PLD that implements the design or system, as described above, and as persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention understand. At 403, the process adjusts the body bias of transistors within the identified critical circuit path(s). In other words, it select one or more body-bias levels for one or more transistor or sets of transistors. Next, at 406, the process programs or configures one or more body-bias generators for the critical circuit path(s). The body-bias generator(s) generate one or more body-bias levels selected at 403.

[00103] Note that the process need not confine itself to merely the identified critical circuit paths or blocks. Instead, or in addition, the user may identify and specify circuit paths or blocks that the user desired to meet specific performance criteria. For example, the user may wish to have a high-speed adder implemented within the PLD. The user may identify the circuitry or blocks used to implement the adder and specify to the software to adjust the body-bias level(s) of the circuitry or blocks to meet certain timing specifications. The user may provide other performance specifications or criteria, such as power dissipation. The software may trade off the various performance specifications to select the body-bias level(s) of the circuit path(s) or blocks.

[00104] FIG. 8 shows a block diagram of circuitry within a PLD according to exemplary embodiments of the invention to adjust, program, or set the body-bias levels of desired PLD circuitry or blocks. The circuitry includes body-bias generator 430, a plurality of configuration memory (configuration random-access memory, or CRAM5 or other implementations of the memory) cells 438A-438D, a plurality of transistors 440A- 440D3 and PLD circuits 445A-445B.

[00105] Body-bias generator 430 generates one or more body-bias signals 435 and provides those signal(s) to transistors 440A-440D. In response to a respective one of the data in CRAM cells 438A-438, transistors 440A-440D provide the body-bias signals 435 to PLD circuits 445A-445B. PLD circuits 445A-445B may constitute circuitry whose body-bias levels one wishes to set, program, or adjust, such as individual transistors, groups of transistors, circuit blocks, etc., as described above.

[00106] For example, suppose that CRAM cells 438A and 438C store binary ones, whereas CRAM cells 438B and 438D store binary zeros. Consequently, transistors 440A and 440C turn ON and provide body-bias signal 435 A to PLD circuits 445A-445B. Transistors 440B and 440D turn OFF, and therefore do not provide any signals to PLD circuits 445A-445B.

[00107] As another example, suppose that the reverse situation of the preceding example exists {i.e., CRAM cells 438A-438D hold binary data 0, 1, 0, 1, respectively). In this case, transistors 440A and 440C turn OFF (and thus provide no signals to PLD circuits 445A-445B), and transistors 440B and 440D turn ON. As a result, transistors 440B and 440D provide body-bias signal 435B to PLD circuits 445A-445D.

[00108] In exemplary embodiments, CRAM cells 438A-438D may serve more than one purpose, as desired. More specifically, CRAM cells 438A-438D may control the body bias of various circuitry within the PLD {e.g., PLD circuit 445 A or 445B). In addition, CRAM cells 438A-438D may serve as routing CRAM cells. In other words, in addition to controlling body bias levels, one or more of CRAM cells 438A-438D may select one circuit path over another circuit path within a MUX {i.e., select one routing path within a MUX as opposed to an alternative routing path within the MUX), as desired. [00109] Note that one may implement body-bias generator 430 in a variety of ways, as persons of ordinary skill in the art with the benefit of the description of the invention understand. For example, one may use a bias source (e.g., one of a variety of well- known bias sources) and then use a charge pump to generate body-bias signals 435, which are pumped to appropriate or desired levels. As another example, one may use stored digital data corresponding to body-bias levels and use one or more sealer circuits together with one or more digital-to-analog converters (DACs) to generate the desired body-bias signals 435.

[00110] In addition to adjusting, programming, or setting body-bias levels, one may use other measures to control the power dissipation and, hence, power density of PLDs. More specifically, one may selectively shut down or turn off portion(s) of the circuitry within a PLD. As a result, one may further reduce the power dissipation within the PLD.

[00111] FIG. 9 shows a block diagram of a circuit for selectively turning off circuitry or reducing or generally controlling power consumption of circuitry within a PLD according to exemplary embodiments of the invention. The circuit includes control circuitry 136, transistor 450, and PLD circuit(s) 445A. In addition, the circuit may include transistor 450A, transistor 453, supply-voltage circuit 456, transistor 453A, and PLD circuit(s) 445B.

[00112] Suppose that one wishes to shut down PLD circuit(s) 445 A. Transistor 450 couples PLD circuit 445A to the supply voltage Vj)D. In other words, when transistor 450 is ON, PLD circuit(s) 445 A receive(s) the supply voltage Vj)D, and vice- versa. Transistor 450 turns ON and OFF in response to a control signal from control circuitry 136. Thus, to turn off PLD circuit(s) 445A, one causes control circuitry 136 to de-assert the gate signal of transistor 450 and interrupt the supply voltage to PLD circuit(s) 445 A. One may subsequently turn ON PLD circuit(s) 445A by asserting the gate signal of transistor 450 under the supervision of control circuitry 136.

[00113] Note that, rather than turning transistor 450 OFF or ON, one may control the gate voltage of transistor 450 so as to use transistor 450 as a variable impedance device. Thus, transistor 450 may at extremes have relatively high impedance (OFF state), relatively low impedance (ON state), or an impedance level between those two states. As a result, one may not only turn OFF and ON PLD circuit(s) 445 A, but also control power dissipation within those circuit(s) by controlling the impedance of transistor 450.

[00114] In addition to, or instead of, using transistor 450 to control the provision of supply voltage, Vj)D, to PLD circuit(s) 445A (whether turning OFF, ON, or anything in between those extremes, as described above), one may use transistor 450A to control the provision of supply voltage Vss (typically circuit ground). The details of operation are similar to those described above with respect to transistor 450 and supply voltage Vj)D, as persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention understand.

[00115] PLD 103 may use more than one supply voltage, as desired. In other words, one may optionally use supply- voltage circuit 456 to generate secondary supply- voltage 459 from the primary supply voltage, VDD- Secondary supply-voltage 459 may have a smaller or larger magnitude than the primary supply voltage, as desired. Furthermore, one may use more than one secondary supply-voltage, as desired. Secondary supply- voltage 445B powers PLD circuit 445B. One may shut down or power up PLD circuit(s) 445B by, respectively, de-asserting and asserting the gate signal of transistor 453 under the supervision of control circuitry 136.

[00116] Note that, rather than turning transistor 453 OFF or ON, one may control the gate voltage of transistor 453 so as to use it as a variable impedance device. Thus, transistor 453 may at extremes have relatively high impedance (OFF state), relatively low impedance (ON state), or an impedance level between those two states. As a result, one may not only turn OFF and ON PLD circuit(s) 445B, but also control power dissipation within those circuit(s) by controlling the impedance of transistor 453.

[00117] In addition to, or instead of, using transistor 453 to control the provision of secondary supply voltage 459 to PLD circuit(s) 445B (whether turning OFF, ON, or anything in between those extremes, as described above), one may use transistor 453A to control the provision of supply voltage VsS (typically circuit ground). The details of operation are similar to those described above with respect to transistor 453 and secondary supply- voltage 459, as persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention understand.

[00118] Note that each PLD circuit 445 A and/or PLD circuit 445B may constitute a PLD block (see, for example, FIGs. 1, 3, and 4), a portion of a PLD block, or a set of PLD blocks, as desired. In other words, one may selectively apply the power control techniques to one or more blocks, sub-blocks, or portions of block(s) within a PLD, as desired.

[00119] Note that one may adjust, program, or set body-bias levels in response to sources external to the PLD. For example, one may communicate body-bias levels to a PLD to adjust or modify its performance. FIG. 10 shows a circuit arrangement according to exemplary embodiments of the invention for adjusting body-bias levels within a PLD in response to an external source 470. The circuit arrangement includes external source 470, communication/interface circuit 475, and body-bias generator 430.

[00120] Communication/interface circuit 475 provides a mechanism for external source 470 and body-bias generator 430 to communicate and exchange information. External source 470 may provide one or more control signal(s) 480 to communication/interface circuit 475 within PLD 103. Communication/interface circuit 475 provides the information received from external source 470 to body-bias generator 430. In response, body-bias generator 430 generates one or more body-bias signals 435, with levels corresponding to control signal(s) 480. Communication/interface circuit 475 may provide information, such as status signals, from body-bias generator 430 (or PLD 103 generally) to external source 470.

[00121] External source 470 may constitute a variety of devices, structures, or arrangements, as persons of ordinary skill in the art with the benefit of the description of the invention understand. For example, external source 470 may constitute the Internet, a computer network, a bus, etc., as desired.

[00122] Note that one may adjust, program, or set the body-bias levels in PLDs on a dynamic or time-varying basis, as desired, to take into account or respond to changing conditions (for example, changes in performance specifications). As one example, referring to FIG. 10, external source 470 may update or modify control signal(s) 480 that it provides to PLD 103. In response, body-bias generator 430 provides body-bias signals 435 that correspond to the updated or modified control signal(s) 480. [00123] As another example, one may change or adjust body-bias levels in response to changes within PLD 103 itself, for instance, a change in temperature in one or more circuits or areas of PLD 103. FIG. 11 shows a circuit arrangement for modifying body- bias level(s) within a PLD according to exemplary embodiments of the invention.

[00124] The circuit arrangement includes one or more temperature sensor(s) 503, one or more reference source(s) 512, subtracter 509, and body-bias generator 430. Temperature sensor(s) 503 sense the temperature in one or more areas, circuits, or blocks within PLD 103 and provide temperature signal(s) 506 to subtracter 509. Reference source(s) 512 provide reference signal(s) 515 to subtracter 509. Reference signal(s) 515 may have values that correspond to various temperature levels.

[00125] Subtracter 509 subtracts reference signal(s) 515 from temperature signal(s) 506 and provides difference signal(s) 518 to body-bias generator 430. Difference signal(s) 518 may constitute the difference between actual temperatures and desired temperatures in one or more parts of PLD 103.

[00126] In response to difference signal(s) 518, body-bias generator 430 generates body-bias signal(s) 435. Body-bias generator 430 may use difference signal(s) 518 to generate body-bias signal(s) 435 that affect various aspects of the performance of PLD 103. For example, if difference signal(s) 518 indicate a lower temperate than a threshold or maximum temperature, body-bias generator 430 may generate body-bias signal(s) that decrease the threshold voltage of one or more transistors within PLD 103 (and hence cause increased performance). In contrast, if difference signal(s) 518 indicate a temperature level higher than a safe or maximum level, body-bias generator 430 may generate body-bias signal(s) that increase the threshold voltage of one or more transistors within PLD 103 (thus causing decreased temperature levels, albeit decreased performance).

[00127] More generally, one may implement a feedback loop that generates body-bias level(s) so as to target specific performance criteria. Put another way, one may compare actual performance measures of a PLD to desired or specified measures or criteria and adjust, program, or set body-bias levels accordingly.

[00128] FIG. 12 shows a flow diagram for a process or technique of adjusting, programming, or setting body-bias levels in a PLD used in exemplary embodiments of the invention. One may implement the process or technique by using appropriate circuitry (or a combination of circuitry and software or firmware), such as control circuitry 136.

[00129] The process operates as follows. At 550, one sets or programs initial body- bias level(s) for desired portion or portions of the PLD. Subsequently, at 553, one obtains performance measure(s) of the PLD. The performance measures may include a wide variety of criteria, such as the time a given operation takes, power consumption, power density, throughput, on-chip self test results, and the like, as persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention understand.

[00130] Next, at 556, the process checks to determine whether the actual performance measure(s) meet the desired or specified criterion or criteria. If so, at 559, the process leaves the body-bias level(s) unchanged. On the other hand, if the actual performance measure(s) fail to meet the specified criterion or criteria, at 562 the process adjusts, programs, or sets new or updated body-bias levels so as to reduce the difference between the actual and desired performance measure(s). The process then returns to 553 to check whether the effect of the new body-bias level(s) on the actual performance measure(s). The process may continue indefinitely or a given number of times, as desired.

[00131] In addition to checking performance measures (e.g., speed of operation, throughput, power consumption), one may check temperature level(s) of one or more parts or circuits within the PLD. FIG. 13 shows a flow diagram for a process or technique of adjusting, programming, or setting body-bias level(s) that takes temperature level(s) into account. As noted above, one may implement the process or technique by using appropriate circuitry (or a combination of circuitry and software or firmware), such as control circuitry 136.

[00132] At 550, the process sets, programs, or adjusts the initial body-bias level(s) for desired transistors, circuits, blocks, and the like, within the PLD. At 553, it obtains performance measures. The performance measures may include a wide variety of parameters or variables, as noted above. The choice of performance measures depends on factors such as design and performance specifications for the circuit or system that the PLD implements, as persons of ordinary skill in the art understand.

[00133] Subsequently, a 553A, the process obtains temperature level(s). As noted above, one may obtain and check one ore more temperature levels from various parts of the PLD. In exemplary embodiments, one may obtain temperature level(s) from any identified critical path(s) or, in general, any circuitry that may have relatively high power consumption and, hence, relatively high temperature levels. [00134] At 556A, the process checks to determine whether the actual performance measure(s) meet the desired or specified criterion or criteria. Furthermore, the process checks to determine whether the actual temperature level(s) meet the desired or specified criterion or criteria (e.g., whether the actual temperature falls within a prescribed range or below a threshold level, etc.).

[00135] If both conditions hold, at 559, the process leaves the body-bias level(s) unchanged. If both conditions fail to hold, however, at 562 the process adjusts, programs, or sets new or updated body-bias levels so as to reduce the difference between the actual and desired performance measure(s) and between the actual and desired or prescribed temperature level(s). The process then returns to 553 to check whether the effect of the new body-bias level(s) on the actual performance measure(s) and on the temperature level(s). The process may continue indefinitely or a given number of times, as desired.

[00136] In other embodiments, one may adjust, program, or set the body-bias level(s) in response to or depending on the operating environment of the circuit or system that the PLD implements. For example, suppose that one uses a PLD according to the invention to realize a communications network controller or router. During operation, the PLD may obtain information about the conditions or characteristics of the environment in which the controller or router operates.

[00137] For instance, the PLD may obtain measures relating to the traffic levels within that environment. Depending on the conditions in, or characteristics of, its operating environment, the PLD may adjust, program, or set body-bias level(s) in one or more of its transistors so that its performance matches the needs of the operating environment. Of course, the example above constitutes merely one illustration of how one may use such PLDs. One may apply the inventive concepts to a wide variety of circuits, systems, and operating environments, each with their own characteristics and conditions, as persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention understand.

[00138] FIG. 14 shows a flow diagram for a process or technique of adjusting, programming, or setting body-bias level(s) that takes into account the characteristics or conditions of the environment in which the PLD operates. As noted above, one may implement the process or technique by using appropriate circuitry (or a combination of circuitry and software or firmware), such as control circuitry 136.

[00139] The process operates as follows. At 550, one programs or sets initial body- bias level(s) for desired portion or portions of the PLD. Subsequently, at 553B, one obtains one or more conditions or characteristics of the environment, circuit, or system in which the PLD operates. The conditions or characteristics may include a wide variety of items, as noted above.

[00140] Next, at 556B, the process checks to determine whether the conditions or characteristics of the operating environment make desirable higher performance levels of the PLD. (To use the example above, for instance, whether network traffic levels are relatively high, thus making higher PLD performance or throughput more desirable.) If not, at 559, the process leaves the body-bias level(s) unchanged. On the other hand, if higher PLD performance or throughput are desirable, at 562 the process adjusts, programs, or sets new or updated body-bias levels so as to reduce the difference between the actual and desired performance measure(s). The process then returns to 553B to check whether the effect of the new body-bias level(s) on the actual performance measure(s). The process may continue indefinitely or a given number of times, as desired.

[00141] One may use a variety of embodiments according to the inventive concepts, depending on factors such as design and performance specifications for a given application or implementation. For example, referring to FIG. 14, note that, similar to the embodiment described in connection with FIG. 13, one may take into account temperature level(s) of various parts of the PLD, as desired.

[00142] Put another way, one may examine not only the desirability of higher PLD performance or throughput, but also whether temperature level(s) or power densities within the PLD make increased PLD performance safe or appropriate. FIG. 15 shows a process for realizing such an embodiment. One may repeat the procedure a desired number of times, depending on the application. As noted above, one may implement the process or technique by using appropriate circuitry (or a combination of circuitry and software or firmware), such as control circuitry 136.

[00143] Another aspect of the disclosure relates to setting or adjusting the body bias of circuitry within a PLD by measuring the delay of a selected circuit or region within the PLD. FIG. 16 shows a circuit arrangement for adjusting the body bias of transistors in a user circuit based on a delay representative of the operating delay of the user circuit. More specifically, the circuit arrangement includes PLD 103, PLD region 606, user circuit 609, delay circuit 612, and body-bias controller 603. [00144] PLD region 606 includes user circuit 609 and delay circuit 612. User circuit 609 may include any desired circuitry, such as a user-implemented or designated circuit or a portion of it (for example, the critical path). Delay circuit 612 represents or models the actual delay of user circuit 609. Generally, the delay represents the delay of user circuit 609, and it need not have the same delay as user circuit 609. For example, delay circuit 612 may have the same delay as user circuit 609, twice as much delay, half as much delay, etc., as desired.

[00145] Delay circuit 612 couples to body-bias controller 603 via signal link 615 (one or more coupling mechanisms, such as conductors). In response to the actual delay of delay circuit 612, body-bias controller 603 provides one or more body-bias signals to at least some transistors in PLD region 606 (as described below in detail).

[00146] Note that FIG. 16 shows two body-bias signals, F^1 and Vb2. The body-bias signal(s) adjust or set the body-bias of at least one transistor in PLD region 606. For example, one body-bias signal (say, F^1) may set the body bias of PMOS transistors, whereas another body-bias signal (say, F^2) may set the body bias of NMOS transistors, etc. By adjusting the body bias of transistors in user circuit 609, one may control or adjust its speed and leakage, as described above.

[00147] FIG. 17 shows a block diagram of a body-bias controller 603 according to an illustrative embodiment of the invention. Body-bias controller 603 includes reference- signal generator 625, delay circuit 612, phase comparator 637, and body-bias generator 430. Optionally, body-bias controller 603 may include MUX 627, as described below in detail. ' [00148] Reference-signal generator 625 generates reference signal 631 from clock signal 628. Depending on factors that depend on the actual design and implementation of the circuit (e.g., the relation of the delay in delay circuit 612 to the delay in user circuit 609), reference signal 631 may have a particular relation to clock signal 628, as desired. For example, reference signal 631 may have one half the frequency of clock signal 628. Reference signal 631 feeds delay circuit 612. In response, delay circuit 612 produces output signal 634, a delayed version of reference signal 631.

[00149] Note that one may optionally use MUX 627 to provide the capability to select one of a number of clock signals 628A, as desired. As described below in detail, body- bias controller 603 uses the period of clock signal 628 to measure the delay of a reference circuit, and uses the result of that measurement to generate and provide body-bias signals to various circuits in PLD 103. Through the selection signal 627A of MUX 627, one may select one of clock signals 628A such that the chosen clock signal has a desired or particular period. In that manner, one may increase the flexibility of body-bias controller 603.

[00150] Phase comparator 637 compares reference signal 631 and output signal 634 of delay circuit 612. Depending on the relative phases of the two signals, comparator 637 produces output signal 640 (speed-up) and output signal 643 (slow-down). Output signals 640 and 643 drive body-bias generator 430. Body-bias generator 430 produces body-bias signal(s) in response to output signals 640 and 643. In the particular example shown in FIG. 17, body-bias generator produces body-bias signal 646 (V^1) and body- signal 649 (v&2)- [00151] FIG. 18 shows a circuit arrangement for reference-signal generator 625 according to an exemplary embodiment of the invention. Reference-signal generator 625 includes flip-flop 660, and inverters 663 and 666. In this particular example, reference- signal generator 625 constitutes a divide-by-two circuit. Thus, flip-flop 660 and inverter 663 generate a signal with half the frequency of clock signal 628. Inverter 666 buffers that signal to provide reference signal 631. Persons of ordinary skill in the art with the benefit of the description of the invention understand that, depending on circuit configuration and the application, one need not use inverter 666 and may omit it, as desired.

[00152] FIG. 19 depicts a circuit arrangement for phase comparator 637 according to an exemplary embodiment of the invention. Comparator 637 includes exclusive-OR (XOR) gate 675, and flip-flop 681. Output of delay circuit 612 feeds one input of XOR gate 675. Reference signal 631 feeds a second input of XOR gate 675.

[00153] The output of XOR gate 675 feeds the data (D) input of flip-flop 681. Clock signal 628 drives flip-flops 681 and 684. Q Output of flip-flop 681 provides output

signal 640 {SPEEDUP I SLOWDOWN). A high output signal indicates a circuit that is running too slowly (should have more forward body bias), and vice-versa (a low signal indicates that the circuit should have a more reverse body bias).

[00154] If the delay through delay circuit 612 is shorter than the period of clock signal 628, then the user circuit is operating too fast. In that case, the output of gate 675 would be a logic zero at the time of a rising transition of clock signal 628. Conversely, if the delay through delay circuit 612 is longer than the period of clock signal 628, then the user circuit is operating too slowly. Under those circumstances, XOR gate 675 provides a logic-high signal at its output at the time of a rising transition of clock signal 628. As a consequence, flip-flop 681 provides a speed-up output signal.

[00155] FIG. 20 illustrates another circuit arrangement for phase comparator 637 according to an exemplary embodiment of the invention. Similar to FIG. 19, comparator 637 in FIG. 20 includes exclusive-OR (XOR) gate 675, exclusive-NOR (XNOR) gate 678, and flip-flops 681 and 684. In addition, comparator 637 in FIG. 20 includes dead- zone delay circuit 690. Dead-zone delay circuit 690 causes more stable and power- efficient body-bias adjustment of transistors within PLD 103.

[00156] More specifically, dead-zone delay circuit 690 causes XNOR gate 678 to receive a delayed version of reference signal 634, rather than reference signal 634 itself. In the absence of dead-zone delay circuit 690, comparator 637 may repeatedly and alternately assert its speed-up and slow-down output signals as it seeks to find an equilibrium speed, leakage, and power consumption for user circuit 609. The repeated body-adjustment (charging and discharging of the transistors bodies) might cause increased power consumption and, hence, less efficiency.

[00157] Dead-zone delay circuit 690 helps comparator 637 to experience less "chatter" at its output. Put another way, in the case of comparator 637 including both delay circuit 612 and dead-zone delay circuit 690 {i.e., FIG. 20), one delay circuit forms a minimum delay, and the sum of both forms a maximum delay. If the period of clock signal 628 exceeds the sum of both delays, then user circuit 609 is operating too fast. As a result, comparator 637 asserts the slow-down output signal. [00158] Conversely, if the clock period is shorter than the delay of delay circuit 612, then user circuit 609 is operating too slowly. Consequently, comparator 637 asserts the speed-up output signal. If user circuit 609 operates within an acceptable or prescribed range of speeds (with corresponding leakage and power-consumption levels), then comparator 637 does not assert either of its output signals. Consequently, comparator 637 avoids repeated alteration of its output signals in order to achieve an acceptable operating speed of user circuit 609.

[00159] Note that delay circuit 612 might provide either a fixed or adjustable or configurable delay. In the case of a fixed delay, delay circuit 612 includes a logic circuit with a desired or prescribed delay. For example, delay circuit 612 may include an arrangement of combinational logic elements, such as gates. One may implement delay circuit 612 using the programmable resources of PLD 103, such as programmable logic 106 and programmable routing or interconnect 109 (see FIG. 1).

[00160] Alternatively, delay circuit 612 may have a configurable delay. FIG. 21 depicts a configurable delay circuit 612 for use in illustrative embodiments according to the invention. Delay circuit 612 in FIG. 21 accepts a set of configuration or adjustment signals 703. Signals 703 include a set of bits, denoted as B0 through Bp Configuration signals 703 adjust or configure the delay of delay circuit 612. In other words, by setting the values of the bits in configuration signals 703, one may adjust the amount of time by which delay circuit 612 delays its input signal in order to generate its output signal.

[00161] FIG. 22 shows a circuit arrangement for a configurable delay circuit according to an exemplary embodiment of the invention. The configurable delay circuit includes a cascade coupling of a set of interconnect or routing delay elements 710, a cascade coupling of a set of logic delay elements 719, MUX 713, and MUX 725.

[00162] The output signals of the routing delay elements 710 constitute inputs signals of MUX 713. MUX 713 also receives one or more selection signal(s) 716. The number of selection signals 716 depends on the number of routing delay elements 710, as person of ordinary skill in the art with the benefit of the description of the invention understand. Through selection signal(s) 716, one may selectively couple the output of one of routing delay elements 710 to the output of MUX 713. Thus, one may configure the amount of delay from the input signal (reference signal 631) of the first routing delay element to the output of MUX 713.

[00163] Similarly, output signals of logic delay elements 719 provide the inputs signals of MUX 725. MUX 725 also receives one or more selection signal(s) 728. The number of selection signals 728 depends on the number of logic delay elements 719, as person of ordinary skill in the art with the benefit of the description of the invention understand. By using selection signal(s) 728, one may selectively couple the output of one of logic delay elements 719 to the output of MUX 728. Accordingly, one may configure the amount of delay from the input signal of the first logic delay element (i.e., the output signal of MUX 713) to the output of MUX 725.

[00164] By using MUX 713 and MUX 725, one may configure the delay of the configurable delay circuit to constitute a combination of the respective delays of a desired number of routing delay elements 710 and logic delay elements 719. Thus, one may configure the delay circuit (e.g., through the PLD configuration software, described above in detail) so that its delay represents the delay of the user's circuit. Furthermore, one may configure the delay in a dynamic manner (in response to changing operating environment, external control, user control, etc.), as desired.

[00165] FIG. 23 shows a circuit arrangement for a routing delay element 710 according to an illustrative embodiment of the invention. Routing delay element 710 includes MUX 735 and inverter 738. Together, MUX 735 and inverter 738 seek to represent a typical routing mechanism (including its corresponding delay) within PLD 103. MUX 735 has one of its inputs and its selection input grounded, so that it couples its input signal to the input of inverter 738. The output signal of inverter 738 constitutes the output signal of routing delay element 738. Thus, routing delay logic 710 provides as its output signal an inverted version of its input signal.

[00166] FIG. 24 illustrates a circuit arrangement for a logic delay element 719 according to an exemplary embodiment of the invention. Logic delay element 719 includes transmission gate 745, transmission gate 748, inverter 751, and inverter 754. Together, the circuit elements within logic delay element 719 seek to represent a programmable logic circuit (and its corresponding delay) within PLD 103. Transmission gates 745 and 748 and inverter 751 provide a mechanism for coupling the input signal (regardless of its logic value) to the input of inverter 754. The output signal of inverter 754 constitutes the output signal of logic delay element 719. Thus, logic delay logic 719 provides as its output signal an inverted version of its input signal.

[00167] Note that the figures (e.g., FIGs. 18-20 and 22-24) provide merely illustrative embodiments of the respective circuits they represent. As persons of ordinary skill in the art with the benefit of the description of the invention appreciate, depending on factors such as design and performance specifications, one may use other circuits and embodiments, as desired.

[00168] As merely one example, rather than using a comparator with discrete-time output values, one may use a comparator with continuous-time output values. Furthermore, one may use more than one body-bias controller 603 (and comparator), as desired, in order to provide adjustable or programmable body-bias signals to various parts of PLD 103.

[00169] As another example, one may realize the various circuits in the figures (e.g., body-bias controller 603) using dedicated circuitry, for example, as part of control circuitry 136 (see FIG. 1), as desired. As an alternative, one may implement those circuits in the programmable resources of PLD 103 (see, for example, FIGs. 1, 3, and 4), i.e., programmable logic 106 and programmable interconnect 109, as desired. Persons of ordinary skill in the art with the benefit of the description of the invention appreciate that one may use a combination of the two approaches. In other words, one may realize the circuitry in part by using the programmable resources of PLD 103 and in part by using dedicated circuitry, as desired. If the implementation uses PLD programmable resources, the PLD CAD software (see, for example, FIG. 6A and accompanying description) places and routes the various circuit elements within the programmable fabric (programmable logic 106 and programmable interconnect 109) of PLD 103.

[00170] In addition, the PLD CAD software selects, places, and routes the circuit elements (combinational logic elements or routing delay elements 710 and logic delay elements 719) that implement delay circuit 112. The PLD CAD software selects the circuit elements such that delay circuit 612 represents the delay of user circuit 609. The PLD CAD software programs values in bits of configuration memory 133 (see FIG. 1) that subsequently provide values for various configuration or programming signals, such as MUX selection signal 627A (see FIG. 17) and configuration signals 703 (see FIG. 21). In an alternative embodiment, the user may define the parameters of delay circuit 612 to model user circuit 609. The alternative embodiment provides the user with the ability to match the performance of the PLD's circuitry to the user's specifications or requirements.

[00171] Note that, rather than using one delay circuit 612 and comparator 637, one may instead use multiple delay circuits 612 and/or comparators 637, as desired. By doing so, one may provide more resolution of the delay provided by the delay chain and therefore improved convergence of the body-bias controller.

[00172] Another aspect of the disclosure relates to adjusting or programming directly the performance (leakage, speed, and power dissipation) of transistors in ICs generally (rather than use a delay circuit that models the performance of the circuit that includes those transistors). More particularly, one may use leakage-locked loops (LLLs) to set the leakage level of one or more transistors in an IC by programming or adjusting the body bias of the transistor(s).

[00173] The leakage-locked loop technique has the advantage that it provides the capability of directly controlling the leakage of the circuit, rather than an indirect control by using a representative delay as a measure of the leakage currents. The technique allows the user to specify a tolerable or desired leakage level and select and specify a desired tradeoff between performance and leakage currents and power dissipation. Note that one may apply the leakage-locked loop concept to ICs generally, including PLDs. [00174] FIG. 25 shows a block diagram of a leakage-locked loop according to an illustrative embodiment of the invention. The leakage-locked loop includes reference transistor 760, leakage measurement circuit 766, adder 775, and body-bias generator 430. Generally speaking, the leakage-locked loop includes a negative-feedback circuit. It uses reference transistor 760 to measure the leakage current of transistors in IC circuit 763, and uses the measured leakage current to generate the body-bias signals for those transistors.

[00175] Note that one may design other embodiments of the leakage-locked loop that measure other quantities, and adjust the body bias of one or more transistors so as to meet one or more user-specified criteria, as desired, and as persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention understand. Examples of such quantities include threshold voltage (Fj) of a reference transistor, or the saturation current (Idsai) of a reference, transistor.

[00176] Reference transistor 760 resides in IC circuit 763. Note that one may use more than one reference transistor 760, as desired (for example, to measure leakage currents in more than one location in IC circuit 763). IC circuit 763 constitutes the circuitry within an IC whose performance one seeks to adjust or program through body- bias levels. For example, in the situation that the IC is a PLD, IC circuit 763 may constitute user circuit 609 (see, for example, FIG. 16).

[00177] Generally, one selects IC circuit 763 to include a sufficiently small part of the circuitry within the IC so that the transistors within it (including reference transistor 760) have similar electrical characteristics and that variations in conditions (e.g., process, voltage, and temperature, or PVT) do not substantially degrade the programming of the body-bias across IC circuit 763.

[00178] Leakage measurement circuit 766 measures the leakage of reference transistor 760, and provides a leakage signal 769 to adder 775. Adder 775 compares leakage signal 769 to a reference leakage signal (vreβ 772 to generate error signal 778. Body-bias generator 430 uses error signal to generate one or more body-bias signals 435. Body- bias generator 430 provides the body-bias signal(s) 435 to desired transistors within IC circuit 760.

[00179] Note that one may use configurable components in the leakage-locked loop of FIG. 25, as desired. For example, one may use a configurable leakage measurement circuit 766 (configurable gain), a configurable adder 775 (configurable gain) or a separate gain block following adder 775, a configurable reference leakage signal 772 (configurable level), and/or configurable gain in body-bias generator 430, as desired. Note that one may use the PLD configuration RAM bits, signals from user circuits on the PLD, or a combination of the two, to configure each of those configurable components, as desired.

[00180] FIG. 26 illustrates a block diagram of a leakage-locked loop according to another exemplary embodiment of the invention. The leakage-locked loop in FIG. 26 includes reference transistor 760 (which resides in IC circuit 763), leakage measurement circuit 766, reference value and comparator circuit 775, filter 787, and body-bias generator 430. [00181] Reference transistor 760 and IC circuit 763 have the same or similar configurations to those described above in connection with FIG. 25. Leakage measurement circuit 766 provides programmable gain through control signals 781. More specifically, through control signals 781, one may adjust the gain that leakage measurement circuit 766 applies to the measured leakage current in order to provide leakage signal 769.

[00182] Reference value and comparator circuit 775 processes leakage signal. Reference value and comparator circuit 775 provides a programmable reference value, a programmable gain, or both, as desired, through control signals 784. In other words, through control signals 784, one may adjust the reference leakage signal (analogous to reference leakage signal 772 in FIG. 25), the gain of the comparator (not shown explicitly) that compares the leakage signal 769 to the reference leakage signal to generate leakage error signal 778, or both, as desired. Reference value and comparator circuit 775 may optionally include a quantizer that quantizes the output signal of the comparator, as desired.

[00183] Filter 787 filters and processes leakage error signal 778 to produce a filtered signal 790. Body-bias generator 430 operates in the manner described above in connection with FIG. 25 to provide one or more body-bias signals to IC circuit 263.

[00184] Note that one may omit filter 787 from the leakage-locked loop, as desired. Filter 787 may have a desired transfer function, such as a gain block or circuit, a low- pass transfer function or an integrator transistor function. The choice of whether to include filter 787 and its particular transfer function depend on design and performance specifications and considerations, as persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention understand.

[00185] One may implement leakage measurement circuit 766 and reference value and comparator circuit 775 in a variety of ways, as desired. The choice of circuitry and implementation depends on a variety of factors (e.g., IC technology used, desired performance characteristics, etc.), as persons skilled in the art with the benefit of the description of the invention understand. FIGs. 27-29 provide some examples.

[00186] FIG. 27 depicts a leakage measurement circuit 766 according to an illustrative embodiment of the invention. Leakage measurement circuit 766 includes PMOS transistors 803 and 805, reference transistor 760, and a plurality of NMOS transistors 808A-808D.

[00187] The gate of reference transistor 760 couples to its source, which causes reference transistor 760 to be in the OFF state. Thus, the current conducted through reference transistor 760 represents its leakage current. Transistor 803 couples in series with reference transistor 760. The gate of transistor 803 couples to its drain (the so- called "diode-connected" configuration).

[00188] Transistor 803 and transistor 805 form a current mirror. The current mirror amplifies the leakage current (the current through reference transistor 760). The level of amplification depends on the relative sizes of transistors 803 and 805, as persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention understand. [00189] The current amplified by the current mirror flows through any of transistors 808A-808D that are in the ON state. Transistors 808A-808D provide a configurable output current (leakage current 769). One may configure the output current by selectively turning ON transistors 88A-808D by applying appropriate levels of control signals 781. Generally, for a control signal 781 that has i bits, one may provide 2* levels of reference current. Transistors 8O8A-8O8D may have relative sizes selected so as to provide a desired reference current profile in response to control signals 781.

[00190] As persons of ordinary skill in the art with the benefit of the description of the invention understand, one may use a variety of combinations of the numbers and sizes of transistors. As one example, one may size transistors 808A-808D such that each of transistors 808B-808D has twice the width of the preceding transistor (a binary-weighted configuration). In one illustrative embodiment, for a given channel length, transistor 760 has a width of 200, transistor 803 a width of 1, transistor 805 a width of 50, transistor 808 A a width of 1, and transistors 808B-808D have binary-weighted widths (i.e., a width of 2 for transistor 808B, a width of 4 for transistor 808C, and so on).

[00191] FIG. 28 shows a reference value and comparator circuit 775 according to an illustrative embodiment of the invention. The circuit includes resistor 818, resistor 821, and comparator 815. Resistors 818 and 821 form a voltage divider that provides leakage reference signal 772 to comparator 815. One may select values of resistors 818 and 821 so as to provide a desired reference level. Comparator 815 compares leakage signal 769 to leakage reference signal 772 to provide leakage error signal 778. Comparator 815 may have a configurable gain (in response to control signal(s) 784), as desired. Note that FIG. 28 shows a simplified comparator 815, and that comparator 815 may include stable reference circuit to provide a relatively accurate reference voltage, as desired. [00192] FIG. 29 illustrates a reference value and comparator circuit 775 according to another exemplary embodiment of the invention. The circuit includes resistor 824, resistor 827, resistor 830, comparator 815A, comparator 815B, and counter 839. Comparators 815A and/or 815B may have a configurable gain (in response to control signal(s) 784), as desired.

[00193] Reference value and comparator circuit 775 in FIG. 29 is similar to the circuit in FIG. 28, but it uses two reference signals so as to provide a lower bound and an upper bound for the leakage current. More specifically, resistors 824, 827, and 830 form a voltage divider that provides leakage reference signal 772 A to comparator 815A and leakage reference signal 772B to comparator 815B. Leakage reference signals 772 A and 772B constitutes bounds for the leakage current. Put another way, leakage reference signals 772A and 772B provide a "window" of values for the leakage current. One may select values of resistors 824, 827, and 830 so as to provide desired levels of leakage reference signals 772 A and 772B.

[00194] Comparator 815A compares leakage signal 769 to leakage reference signal 772A to provide DOWN signal 833. DOWN signal 833 causes counter 839 to count down (i.e., cause the IC circuit's speed of operation to decrease). Conversely, comparator 815B compares leakage signal 769 to leakage reference signal 772B to provide IP signal 836. UP signal 836 causes counter 839 to count up (i.e., cause the IC circuit's speed of operation to increase). Put another way, counter 839 is analogous to using an integrator as filter 787 in FIG. 26. The count signals 842 provide the current count value of counter 839. Body-bias generator 430 (not shown in FIG. 29) uses count signals 842 to generate body-bias signal(s) 435 (not shown in FIG. 29) and supply the signal(s) to IC circuit 763. [00195] To provide further control or programming of body-bias levels, one may include within an IC more than one body-bias generator circuit 430, as desired. In such a configuration, each body-bias generator 430 provides one or more body-bias signals 435 to a circuit (such as IC circuit 763) or region within the IC.

[00196] Thus, one may program the body-bias generators 430 to provide specific or individualized body-bias signals for each circuit or region of the IC. As an alternative, the user may specify or provide programming for the body-bias generators 430 so as to generate desired numbers and levels of body-bias signals 435 for a given circuit or region of the IC. The specifically tailored or programmed body-bias levels allow trading off performance and leakage and power dissipation for each circuit or region of the IC. As a result, the user has increased control, with finer granularity, over the performance-power trade-off for various parts and circuits within the IC.

[00197] FIG. 30 depicts a circuit arrangement according to an exemplary embodiment of the invention for providing multiple body-bias circuits in an IC. The circuit arrangement includes IC region 870, a set of IC circuits 763A-763C, a corresponding number of MUXs 875A-875C, and a set of body-bias generators 435A-435C.

[00198] Each of body-bias generators 430A-430C generates one or more body-bias signals, denoted as body-bias signal(s) 435A-435C, and provides the signal(s) to each of MUXs 875A-875C. In response to selection signals 880, each of MUXs 875A-875C selects the body-bias signal(s) from one of body-bias generators 435A-435C and provides the selected body-bias signal(s) to a corresponding one of IC circuits 763A- 763C. [00199] Rather than using MUXs 875A-875C, one may use programmable non¬ volatile coupling mechanisms (such as fuses). In such a situation, one may test individual ICs after manufacture to determine its characteristics (e.g., level of leakage) and program the non-volatile coupling mechanisms so as to provide desired or appropriate body-bias signal(s) to various regions or circuits of the IC. By including a number of body-bias generators, one may give the user the ability to independently program the body-bias levels of those regions or circuits.

[00200] hi another embodiment, one may use a combination of values stored in non¬ volatile memory (such as values relating to the characteristics of the IC (e.g., leakage levels) or particular regions or circuits within it) and user-configured or user-specified values to generate body-bias levels. This scheme allows taking into account both the characteristics of the IC and the user-specified parameters in order to trade off performance and power dissipation and leakage levels.

[00201] In the case of a PLD, PLD region 870 may constitute PLD region 606 (see, for example, FIG. 25), and each IC circuit 763 may correspond to a user circuit 609. One may provide one or more tailored or programmed body-bias signals 435 for each user circuit 609 (see, for example, FIG. 25) in PLD 103. In another embodiment, IC circuits 763 may correspond to a physically proximate set of PLD circuits (programmable logic 106 and programmable interconnect 109) or a selected group of programmable logic 106 and programmable interconnect 109 (for example, a group of programmable logic circuits 106 arranged in a rectangular array in FIG. 3).

[00202] FIG. 30 illustrates body-bias generators 430A-430C as the circuitry that provides body-bias signals 435A-435C. In the case of a PLD, one may generally use body-bias controllers 603A-603C (see, for example, FIG. 25), rather than body-bias generators 430A-430C.

[00203] Note that FIG. 30 illustrates IC region 870 as including IC circuits 763A- 763 C. As persons of ordinary skill in the art with the benefit of the description of the invention understand, however, the reverse situation may exist (i.e., each IC circuit may include one or more IC region 870.

[00204] Note further that one may combine the performance-tuning concepts described above with other techniques to reduce power densities or keep them within safe ranges. For example, one may turn ON or OFF various circuits within the PLD (see FIG. 9 and accompanying description) to accomplish a tradeoff between desired performance levels and safe or prescribed power consumption levels or power densities. Other variations and embodiments will be apparent to persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention.

[00205] Generally, note that one may apply the inventive concepts effectively to various programmable logic circuitry or ICs known by other names in the art, as desired, and as persons skilled in the art with the benefit of the description of the invention understand. Such circuitry include devices known as complex programmable logic device (CPLD), programmable gate array (PGA), and field programmable gate array (FPGA).

[00206] Referring to the figures, persons of ordinary skill in the art will note that the various blocks shown may depict mainly the conceptual functions and signal flow. The actual circuit implementation may or may not contain separately identifiable hardware for the various functional blocks and may or may not use the particular circuitry shown.

[00207] For example, one may combine the functionality of various blocks into one circuit block, as desired. Furthermore, one may realize the functionality of a single block in several circuit blocks, as desired. The choice of circuit implementation depends on various factors, such as particular design and performance specifications for a given implementation, as persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention understand.

[00208] Other modifications and alternative embodiments of the invention in addition to those described here will be apparent to persons of ordinary skill in the art who have the benefit of the description of the invention. Accordingly, this description teaches those skilled in the art the manner of carrying out the invention and are to be construed as illustrative only.

[00209] The forms of the invention shown and described should be taken as the presently preferred or illustrative embodiments. Persons skilled in the art may make various changes in the shape, size and arrangement of parts without departing from the scope of the invention described in this document. For example, persons skilled in the art may substitute equivalent elements for the elements illustrated and described here. Moreover, persons skilled in the art who have the benefit of this description of the invention may use certain features of the invention independently of the use of other features, without departing from the scope of the invention.

「特表2007-538474およびWO2005116878より引用」

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[Claims] 個々の画素の輝度の感知と制御を用いる、高性能表示装置のためのシステムと方法

【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも1つの電子回路デバイスからおのおのが形成される複数の発光画素を有する表示デバイスと、
外部画像発生源から生の入力画像信号を受信して、修正された画像信号を表示装置に印加する表示ドライバ回路と、
少なくとも1つの表示デバイス輝度値を発生する表示輝度検出器と、
少なくとも1つの表示デバイス輝度値を受信して、情報を表示ドライバ回路に通信する処理ロジックユニットとを備え、
前記表示ドライバ回路はこの通信される情報を用いて、生の入力画像信号から修正済みの画像信号を発生するための変換を発生する
安定フィードバック表示システム。
【請求項2】
前記画素のおのおのが、
サンプル・ホールド回路と、
前記サンプル・ホールド回路によって制御される電流発生源と、
前記電流発生源から電流供給される光子放射デバイスと、
前記光子放射デバイスからある分離距離内に配置され、光子放射デバイスが放射した光子を検出する輝度検出デバイスと、
を備える、請求項1に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項3】
前記画素のおのおのが、
光子放射体と、
指定時間中に光子放射体から光子の束を途中で遮って、途中で遮ぎられる光子に反応して電気的特性が変化し、この時間中に途中で遮ぎられた光子を累積するまたはその数をカウントし、この指定時間中の累積光子束の全体を示す信号を発生する、画素内に配置された光子束累積装置と、
を備える、請求項1に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項4】
前記光子束累積装置は、
光子束の変化や変動に反応して特定が変化したり変動したりする光デバイスから形成されたセンサーと、
電荷を蓄積または減少するように適用された電荷蓄積デバイスと、
前記センサーの抵抗またはコンダクタンスの変化に反応して前記電荷蓄積デバイスに電荷を出力したりこれから電荷を除去したりする制御回路と、
を備える、請求項3に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項5】
前記電荷蓄積デバイスはキャパシタを備える、請求項4に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項6】
前記制御回路はトランジスタを備える、請求項4に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項7】
前記光デバイスは、自身の表面に衝突する光子束が変化すると抵抗またはコンダクタンスが変化する感光性抵抗体を備える、請求項4に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項8】
前記光デバイスは、自身の表面に衝突する光子束の変動に応じて漏れが増減する光ダイオードを備える、請求項4に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項9】
前記光ダイオードの漏れは、漏れ電圧、漏れ電流および漏れ電荷の内の少なくとも1つを含む、請求項8に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項10】
前記光デバイスは、表面に衝突する光子束の変動に応じて電流が増減する光トランジスタを備える、請求項4に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項11】
前記輝度検出器は光子束累積装置を備える、請求項1に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項12】
前記画素は、前記光子束累積装置と同じ画素内で光子放射デバイスが放射した光子束を累積する特定の光子束累積装置を備える、請求項1に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項13】
おのおのの前記光子束累積装置が、
第1の回路ノードを第2の回路ノードから隔離し、また、出力ポート(ノード)を有する隔離スイッチングデバイスと、
前記隔離スイッチングデバイスの出力ポート(ノード)に結合された入力部と電圧基準ノードに接続された出力部とを有する感光性ユニットと、
前記隔離スイッチの第1のポートと結合された第1の電極と電圧基準ノードと結合された第2の電極とを有する電荷蓄積デバイスと、
を備える、請求項3に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項14】
前記電荷蓄積デバイスはキャパシタを備える、請求項4に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項15】
前記隔離スイッチはトランジスタを備える、請求項4に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項16】
前記隔離スイッチは、薄膜トランジスタ(TFT)として基板上に形成される、請求項4に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項17】
前記薄膜トランジスタはアモルファスシリコンから形成されている、請求項16に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項18】
前記薄膜トランジスタはポリシリコンから形成されている、請求項16に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項19】
前記薄膜トランジスタはセレン化カドミウムから形成されている、請求項16に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項20】
前記薄膜トランジスタはいずれかの半導体材料から形成されている、請求項16に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項21】
前記薄膜トランジスタは、ある材料で区画されたチャネルを含み、前記材料は、アモルファスシリコンチャネル、ポリシリコンチャネル、セレン化カドミウムチャネル、ガリウム砒素チャネルおよび他のいずれかの半導体材料で形成もしくは区画されたチャネルからから選択される、請求項1に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項22】
前記表示デバイスは平面アレイ状に配置された複数の画素を含む、請求項1に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項23】
複数の個々の画素が行と列によってアドレス指定される、請求項1に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項24】
前記指定時間は行アドレス時間以下である、請求項3に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項25】
前記指定時間はフレームアドレス時間以下である、請求項3に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項26】
前記指定時間はフレーム時間の整数倍に等しい、請求項3に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項27】
前記表示装置発光デバイスは有機発光ダイオード(OLED)である、請求項1に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項28】
前記有機発光ダイオード(OLED)は小分子OLEDである、請求項27に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項29】
前記有機発光ダイオード(OLED)はポリマーOLED(PLED)である、請求項27に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項30】
前記有機発光ダイオード(OLED)はフォスフォレセントOLED(PHOLED)である、請求項27に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項31】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、単一または複数の層を成す有機材料および電極の何らかの組み合わせ中のいずれかの材料から形成される、請求項27に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項32】
前記有機発光ダイオード(OLED)はアクティブマトリックスOLEDである、請求項27に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項33】
前記表示装置発光デバイスはエレクトロルミネセントデバイスである、請求項1に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項34】
前記表示装置発光デバイスはプラズマ発光デバイスである、請求項1に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項35】
前記表示装置発光デバイスは、いずれかの制御式光子放射デバイスである、請求項1に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項36】
前記アクティブマトリックスはアモルファスシリコンから形成されている、請求項32に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項37】
前記アクティブマトリックスはポリシリコンから形成されている、請求項32に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項38】
前記アクティブマトリックスはセレン化カドミウムから形成されている、請求項32に記載の安定フィードバック表示システム。
【請求項39】
少なくとも1つの電子回路デバイスからおのおのが形成される複数の発光画素を有する表示デバイスを提供するステップと、
外部画像発生源から表示ドライバ回路によって生の入力画像信号を受信して、修正された画像信号を表示装置に入力するステップと、
表示輝度を検出して、少なくとも1つの表示デバイス輝度値を発生するステップと、
少なくとも1つの前記表示デバイス輝度値を処理ロジックユニットによって受信して、情報を前記表示ドライバ回路に通信し、この通信される情報を用いて、生の入力画像信号から修正済みの画像信号を発生するための変換を発生するステップと、
を含む、表示システム安定化方法。
【請求項40】
デジタル画像階調レベル値と、前記デジタル階調レベル値に対応する画素の輝度を発生する表示駆動信号との間の変換を格納するステップと、
特定の画素に対する目標階調レベルを特定するステップと、
特定された前記階調レベルに対応する表示駆動信号を格納済みの前記変換に基づいて発生して、第1の表示フレーム中に駆動信号によって特定の前記画素を駆動するステップと、
第1の表示時間の終了時において特定の前記画素の輝度の実際の測定値を表すパラメータを測定するステップと、
特定の前記画素に対して特定された目標輝度と実際の測定された輝度との間の差を決定するステップと、
特定の前記画素の前記格納済み変換を決定された差に基づいて修正するステップと、
修正された前記変換を記憶し、これを用いて、第1のフレーム時間に続くフレーム時間中に特定の前記画素に対する表示駆動信号を発生するステップと、
を含む、
表示デバイス中の画素輝度を制御する制御方法。
【請求項41】
前記第1の表示フレームは、ソフトウエアプログラミングもしくは表示装置のユーザまたはこれらの組み合わせによって指定されたいずれかの表示フレームである、請求項40に記載の制御方法。
【請求項42】
前記第1のフレームに続くフレーム時間は、いずれかの後続のフレーム時間である、請求項40に記載の制御方法。
【請求項43】
前記第1の表示フレームは、ソフトウエアプログラミングもしくは表示装置のユーザまたはこれらの組み合わせによって指定されたいずれかの表示フレームである、請求項40に記載の制御方法。
【請求項44】
前記第1の表示時間は、1つの連続の期間または複数の不連続の期間からなっており、ここで、連続の期間または不連続の期間のどちらかが1つのフレーム時間または複数のフレーム時間にわたって発生する、請求項40に記載の制御方法。
【請求項45】
修正された変換を記憶および/または使用して、特定の画素に対する表示駆動信号を発生する前記ステップが、1つのフレームまたはさまざまなフレームのいずれかの後続の部分で発生する、請求項40に記載の制御方法。
【請求項46】
修正された変換を記憶および/または使用して、特定の画素に対する表示駆動信号を発生する前記ステップが、この1つの連続の期間または複数の不連続の期間のどちらかがで発生し、また、この連続の期間または不連続の期間のどちらかが、1つのフレーム時間または複数のフレーム時間にわたって発生する、請求項40に記載の制御方法。
【請求項47】
修正された変換を記憶および/または使用して、特定の画素に対する表示駆動信号を発生する前記ステップが、1つの連続の期間または複数の不連続の期間のどちらかがで発生し、また、この連続の期間または不連続の期間のどちらかが、1つのフレーム時間または複数のフレーム時間にわたって発生する、請求項44に記載の制御方法。
【請求項48】
記憶された前記変換は、表示システムの階調レベルロジック機能ブロックに記憶されている変換を含む、請求項40に記載の制御方法。
【請求項49】
記憶された前記変換は、表示デバイスのガンマテーブルに記憶されている変換を含む、請求項40に記載の制御方法。
【請求項50】
前記第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表す測定されたパラメータは、電荷蓄積デバイスに累積または減少された電子の数に対応した電圧測定値を含む、請求項40に記載の制御方法。
【請求項51】
前記第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表す測定されたパラメータは、電荷蓄積デバイスに累積または減少された電子の数に対応した電流測定値を含む、請求項40に記載の制御方法。
【請求項52】
前記第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表す測定されたパラメータは、電荷蓄積デバイスに累積または減少される電子の数に対応した電荷測定値を含む、請求項40に記載の制御方法。
【請求項53】
前記電荷蓄積デバイスはキャパシタを備える、請求項50に記載の制御方法。
【請求項54】
電子は、前記センサーに入射する光子の束に反応して変化する抵抗率や伝導率を有するセンサー素子の抵抗率や伝導率に比例して蓄積または減少される、請求項53に記載の制御方法。
【請求項55】
前記比例は正比例である、請求項54に記載の制御方法。
【請求項56】
前記第1のフレーム時間に続くフレーム時間は次の後続フレーム時間である、請求項40に記載の制御方法。
【請求項57】
前記第1のフレーム時間に続くフレーム時間はいずれかの後続フレーム時間である、請求項40に記載の制御方法。
【請求項58】
前記第1のフレーム時間に続くフレーム時間は次の表示デバイスパワーオン時間である、請求項40に記載の制御方法。
【請求項59】
前記第1のフレーム時間に続くフレーム時間は、所定のまたは動的に決定された時間間隔におけるフレーム時間である、請求項40に記載の制御方法。
【請求項60】
前記表示デバイス中の各画素に対して異なった変換が記憶される、請求項40に記載の制御方法。
【請求項61】
前記表示デバイス中の別個にアドレス指定可能な各画素に対して表示されるおのおのの異なった階調レベルに対して異なった変換が記憶される、請求項40に記載の制御方法。
【請求項62】
前記第1の表示時間は、表示装置中で画素がオンである持続時間である、請求項40に記載の制御方法。
【請求項63】
前記表示時間は、8ミリ秒と36ミリ秒の間の実質的に任意の時間である、請求項40に記載の制御方法。
【請求項64】
前記表示時間は、10ミリ秒と20ミリ秒の間の実質的に任意の時間である、請求項40に記載の制御方法。
【請求項65】
前記フレーム時間の一部は実質的に行アドレス時間を含む、請求項40に記載の制御方法。
【請求項66】
フレーム時間の一部は、行アドレス時間とフレームアドレス時間の間の時間を含む、請求項40に記載の制御方法。
【請求項67】
第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表すパラメータを測定する前記ステップは、周知の電圧に充電されたまたはこれから放電されたキャパシタ上に蓄積された電圧を測定するステップを含み、充電または放電の量は、特定の画素内の発光体から同じ特定の画素内のセンサーに放射された光子束に比例する、請求項40に記載の制御方法。
【請求項68】
特定する前記ステップ、発生する前記ステップ、測定する前記ステップ、決定する前記ステップ、修正する前記ステップおよび使用する前記ステップは、表示装置中のすべての前記画素に対して繰り返される、請求項40に記載の制御方法。
【請求項69】
特定の前記画素に対する特定された目標輝度と実際の輝度測定値間の差の決定は、製造中または最初に用いられる際に実行される表示装置校正手順で決定される特定の画素センサー上の基準累積光子束に基づいている、請求項40に記載の制御方法。
【請求項70】
前記表示装置が表示するように指令されるすべての画素とすべての階調レベルに対して初期変換を決定して記憶する表示装置校正手順をさらに含む、請求項40に記載の制御方法。
【請求項71】
表示デバイス中の画素の輝度を制御する制御システムであって、
画素が表示することを指令される各画素と各階調レベルについての格納済み画素階調レベルから表示画素駆動信号への変換であって、前の表示フレーム期間中での表示画素の性能特性に基づいている変換と、
命令を受け取る制御部に応答して、特定の画素位置について特定の階調レベルを表示して、第1のフレーム時間中に前記格納済みの変換を用いて前記特定の画素に対して駆動信号を生成する表示駆動信号発生器と、
表示装置中のおのおのの別個の画素について、第1の表示時間の終了時に複数の特定の画素のおのおのの実際の輝度測定値を表すパラメータを測定する輝度測定回路と、
前記特定の画素に対する前記特定の目標輝度と実際の測定輝度の間の差を決定するコンパレータ回路と、
おのおのの特定の画素に対する前記格納済み変換を、決定された前記差に基づいて第1のフレーム時間の一部の間に修正する変換更新ロジックと
を含み、修正された変換を用いて、第1のフレーム時間に続く第2のフレーム時間の一部の間に前記特定の画素に対する前記表示駆動信号を発生する
制御システム。
【請求項72】
格納済みの前記変換は、表示システムの階調レベルロジック機能ブロックに記憶されている変換を含む、請求項71に記載のシステム。
【請求項73】
記憶された前記変換は、前記表示デバイスのガンマテーブルに記憶されている変換を含む、請求項71に記載のシステム。
【請求項74】
前記輝度測定回路は、第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表し、また、表示装置の各画素に対して別々に電荷蓄積デバイスに累積または減少された電子の数に対応した電流測定値を含むパラメータを測定する、請求項71に記載のシステム。
【請求項75】
前記電荷蓄積デバイスはキャパシタを含む、請求項74に記載のシステム。
【請求項76】
電子は、センサーに入射する光子の束に反応して変化する抵抗率や伝導率を有するセンサー素子の抵抗率や伝導率に比例して蓄積または減少される、請求項75に記載のシステム。
【請求項77】
前記比例は正比例である、請求項76に記載のシステム。
【請求項78】
前記第1のフレーム時間に続くフレーム時間は、次の後続フレーム時間である、請求項71に記載のシステム。
【請求項79】
前記第1のフレーム時間に続くフレーム時間は、いずれかの後続フレーム時間である、請求項71に記載のシステム。
【請求項80】
前記第1のフレーム時間に続くフレーム時間は、次の表示デバイスパワーオン時間である、請求項71に記載のシステム。
【請求項81】
前記第1のフレーム時間に続くフレーム時間は、所定のまたは動的に決定された時間間隔におけるフレーム時間である、請求項71に記載のシステム。
【請求項82】
前記表示デバイス中の各画素に対して異なった変換が記憶される、請求項71に記載のシステム。
【請求項83】
前記表示デバイス中の別個にアドレス指定可能な各画素に対して表示されるおのおのの異なった階調レベルに対して異なった変換が記憶される、請求項71に記載のシステム。
【請求項84】
前記第1の表示時間は、前記表示装置において画素がオンである持続時間である、請求項71に記載のシステム。
【請求項85】
前記表示時間は、8ミリ秒と36ミリ秒の間の実質的に任意の時間である、請求項71に記載のシステム。
【請求項86】
前記表示時間は、10ミリ秒と20ミリ秒の間の実質的に任意の時間である、請求項71に記載のシステム。
【請求項87】
前記フレーム時間の一部は実質的に行アドレス時間を含む、請求項71に記載のシステム。
【請求項88】
前記フレーム時間の一部は、行アドレス時間とフレームアドレス時間の間の時間を含む、請求項71に記載のシステム。
【請求項89】
第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表すパラメータを測定する前記ステップは、周知の電圧に充電されたまたはこれから放電されたキャパシタ上に蓄積された電圧を測定するステップを含み、充電または放電の量は、特定の画素内の発光体から同じ特定の画素内のセンサーに放射された光子束に比例する、請求項71に記載のシステム。
【請求項90】
特定する前記ステップ、発生する前記ステップ、測定する前記ステップ、決定する前記ステップ、修正する前記ステップおよび使用する前記ステップは、前記表示装置におけるすべての画素に対して繰り返される、請求項71に記載のシステム。
【請求項91】
特定の画素に対する特定された目標輝度と実際の輝度測定値間の差の前記決定は、製造中または最初に用いられる際に実行される表示装置校正手順で決定される特定の画素センサー上の基準累積光子束に基づいている、請求項71に記載のシステム。
【請求項92】
前記表示装置が表示するように指令されるすべての画素とすべての階調レベルに対して初期変換を決定して記憶する表示装置校正手順をさらに含む、請求項71に記載のシステム。
【請求項93】
第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表す測定された前記パラメータは、電荷蓄積デバイスに累積または減少された電子の数に対応した電流測定値を含む、請求項71に記載のシステム。
【請求項94】
第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表す測定された前記パラメータは、電荷蓄積デバイスに累積または減少された電子の数に対応した電荷測定値を含む、請求項71に記載のシステム。
【請求項95】
前記第1の表示フレームは、ソフトウエアプログラミングもしくは表示装置のユーザまたはこれらの組み合わせによって指定されたいずれかの表示フレームである、請求項71に記載のシステム。
【請求項96】
前記第1のフレーム時間に続くフレーム時間は、いずれかの後続フレーム時間である、請求項71に記載のシステム。
【請求項97】
前記第1の表示フレームは、ソフトウエアプログラミングもしくは表示装置のユーザまたはこれらの組み合わせによって指定されたいずれかの表示フレームである、請求項71に記載のシステム。
【請求項98】
前記第1の表示フレームは、1つの連続の期間または複数の不連続の期間からなっており、連続の期間または不連続の期間のどちらかが1つのフレーム時間または複数のフレーム時間にわたって発生する、請求項71に記載のシステム。
【請求項99】
修正された変換を記憶および/または使用して、特定の画素に対する表示駆動信号を発生する前記ステップが、1つの連続の期間または複数の不連続の期間のいずれかの後続部分で適用される、請求項71に記載のシステム。
【請求項100】
修正された変換を記憶および/または使用して、特定の画素に対する表示駆動信号を発生する前記ステップが、1つの連続の期間または複数の不連続の期間のどちらかがで発生し、また、この連続の期間または不連続の期間のどちらかが、1つのフレーム時間または複数のフレーム時間にわたって発生する、請求項71に記載のシステム。
【請求項101】
修正された変換を記憶および/または使用して、特定の画素に対する表示駆動信号を発生する前記ステップが、1つの連続の期間または複数の不連続の期間のいずれかで発生し、また、この連続の期間または不連続の期間のどちらかが、1つのフレーム時間または複数のフレーム時間にわたって発生する、請求項98に記載のシステム。
【請求項102】
複数の画素を有するアクティブマトリックスOLED表示デバイスまたは他の発光性表示デバイスを操作するシステムであって、
デジタル画像データの外部発生源に結合された階調レベルロジックであり、画像画素階調レベル値の第1の表現を同じ画像画素値の第2の表現に変換する変換を含む、階調レベルロジックと、
前記階調レベルロジックから入力を受信して、画像信号と制御信号を表示マトリックスの行選択ドライバ回路と列ドライバ回路に通信するように動作する表示装置コントローラであり、前記行選択ドライバ回路と前記列ドライバ回路は、複数の画素に対してフレーム時間中に画像が表示させ、前記複数の画素のおのおのが、画素光子束放射体と、画素表示フレーム時間の一部で前記放射体からの放射済み光子束の少なくとも一部を累積して、累積された光子束を示す出力信号を発生する画素光子束レセプタとを含む、前記表示装置コントローラと、
前記複数の画素のおのおのに対する校正値と、画素によって表示される各画素値とを格納する校正メモリと、
前記複数の画素のおのおのと前記校正メモリとから出力信号を受信して、受信した出力信号を前記校正メモリからのこれらに対応する複数の信号と比較して、画素ごとに差分信号を計算するコンパレータと、
前記コンパレータから差分信号を受信して、少なくとも校正値と測定値が異なる画素位置と画素階調レベル値とについて前記諧調レベルロジックの前記変換の変更を指示する画素偏差ロジックと
を備えるシステム。
【請求項103】
前記画素偏差ロジックは、画素輝度の校正値と画素輝度の測定値間の偏差を記憶する画素偏差メモリを含む、請求項102に記載のシステム。
【請求項104】
前記偏差値は電圧値であり、累積された光子束を示す前記出力信号は電圧であり、前記コンパレータは電圧比較回路である、請求項102に記載のシステム。
【請求項105】
前記校正値は電流値であり、累積された光子束を示す前記出力信号は電流であり、前記コンパレータは電流ベースの電荷アンプ/インピーダンス変換回路である、請求項102に記載のシステム。
【請求項106】
前記校正値は電荷値であり、累積された光子束を示す前記出力信号は電荷であり、前記コンパレータは電荷ベースの比較回路である、請求項102に記載のシステム。
【請求項107】
前記校正値は電圧値であり、累積された光子束を示す前記出力信号は電荷であり、前記コンパレータは電圧比較回路である、請求項102に記載のシステム。
【請求項108】
累積された光子束を示す前記出力信号はアナログ信号であり、前記システムが、
画素表示フレーム時間の一部中でアナログ信号を画素ごとの累積光子束を表す電圧としてサンプルして、このサンプルされた信号をデジタル値に変換されるように保持するサンプル・ホールド回路と、
サンプルされ保持された前記アナログ信号をデジタル値に変換するアナログ/デジタルコンバータと、
前記アナログ/デジタルコンバータに結合されており、デジタル値を受信してこれを前記コンパレータに対して所定のフォーマットと順序で通信するマルチプレクサと、
をさらに備える、請求項102に記載のシステム。
【請求項109】
累積された光子束を示す出力信号はアナログ信号であり、前記システムが、さらに、
画素表示フレーム時間の一部中で前記アナログ信号を画素ごとの累積光子束を表す電圧としてサンプルして、このサンプルされた信号を保持するサンプル・ホールド回路と、
前記サンプル・ホールド回路に結合されており、サンプルされ保持された前記アナログ信号値を受信するマルチプレクサと、
前記前記マルチプレクサから受信した前記アナログ信号を変換し、アナログ値をデジタル値に変換して、これを前記コンパレータに対して所定のフォーマットと順序で通信するアナログ/デジタルコンバータと、
を備える、請求項102に記載のシステム。
【請求項110】
さらに、デジタル画像データの外部発生源を備える、請求項102に記載のシステム。
【請求項111】
デジタル画像データの外部発生源は、デジタル画像データまたはアナログデータとの組み合わせの発生源と画像アナログ/デジタルコンバータを備える、請求項110に記載のシステム。
【請求項112】
前記フレーム時間の一部は行アドレス時間以下の時間期間を含む、請求項102に記載のシステム。
【請求項113】
前記フレーム時間の一部は、実質的にフレーム時間全体を含む、請求項102に記載のシステム。
【請求項114】
前記フレーム時間の一部はフレーム時間全体の少なくとも50%を含む、請求項102に記載のシステム。
【請求項115】
前記フレーム時間の一部はフレーム時間全体の少なくとも90%から100%を含む、請求項102に記載のシステム。
【請求項116】
前記フレーム時間の一部は少なくとも1ミリ秒を含む、請求項102に記載のシステム。
【請求項117】
複数の画素を有するアクティブマトリックス表示デバイスを操作する方法であって、
各画素の校正値とこの画素のおのおのによって表示されるおのおのの階調レベル値とを校正メモリに記憶するステップと、
表示装置中の画素ごとに、また、この画素のおのおので表示される階調レベルごとに画像階調レベル値の第1の表現を同じ画像階調レベル画素値の第2の表現に変換する変換を変換メモリに記憶するステップと、
外部発生源からの複数の画素に対する画像画素階調レベル値の第1の階調レベル表現を受信するステップと、
記憶されている前記変換にしたがって画素ごとに第1の階調レベル表現を等しい数の第2の階調レベル表現に変換するステップと、
画像階調レベル画素値の前記第2の表現にしたがって現在の表示フレーム時間中にマトリックス表示デバイス中の画素素子を駆動するための画像データ信号と制御信号を発生するステップと、
現在の表示フレーム時間の一部中で表示装置中の複数の画素のおのおの上の累積光子束を示す表示装置中の複数の画素のおのおのに対する累積光子束信号を発生するステップと、
画素1つずつ、画素ごとに指令された階調レベルに対する複数の累積光子束信号を同じ階調レベルの校正値と比較して、指令された階調レベルと測定された階調レベル間の差を示す複数の比較結果を発生するステップと、
画素ごとになんらかの偏差を比較結果に基づいて特定して、少なくとも画素ロケーションと校正値と測定値に差があるような画素階調レベル値に対して後続の表示フレーム時間中に適用される格納済み変換の変化を出力するステップと、
を含む方法。
【請求項118】
前記偏差特定ステップは、校正された画素輝度値と測定された画素輝度値の画素偏差を画素偏差メモリに記憶するステップを含む、請求項117に記載の方法。
【請求項119】
前記校正値は電圧値であり、前記累積光子束値は電圧であり、また、前記比較は電圧の比較である、請求項117に記載の方法。
【請求項120】
前記校正値は電流値であり、前記累積光子束値は電流であり、また、前記比較は電流の比較を含む、請求項117に記載の方法。
【請求項121】
前記校正値は電荷値であり、前記累積光子束値は電荷であり、また、前記比較は電荷の比較を含む、請求項117に記載の方法。
【請求項122】
前記累積光子束値はアナログ信号であり、前記方法が、さらに、
画素表示フレーム時間の一部中で画素1つ当たりの累積光子束を表す電圧としてアナログ信号をサンプルして、このサンプルされた信号をデジタル信号に変換するために保持するステップと、
サンプルされた前記アナログ信号をデジタル信号に変換するステップと、
を含む、請求項117に記載の方法。
【請求項123】
前記累積光子束値はアナログ信号であり、前記方法が、さらに、
画素表示フレーム時間の一部中で画素1つ当たりの累積光子束を表す電荷としてアナログ信号をサンプルして、このサンプルされた信号をデジタル信号に変換するために保持するステップと、
サンプルされた前記アナログ信号をデジタル信号に変換するステップと、
を含む、請求項117に記載の方法。
【請求項124】
前記累積光子束値はアナログ信号であり、本方法は、さらに、
画素表示フレーム時間の一部中で画素1つ当たりの累積光子束を表す電流として前記アナログ信号をサンプルして、このサンプルされた信号をデジタル信号に変換するために保持するステップと、
サンプルされた前記アナログ信号をデジタル信号に変換するステップと、を含む、請求項117に記載の方法。
【請求項125】
さらに、複数の画素に対して画像画素階調レベル値の第1の階調レベル表現を発生するステップを含む、請求項117に記載の方法。
【請求項126】
デジタル画像データは、デジタル画像データまたはアナログ/デジタルコンバータによってデジタルデータに変換されるアナログ画像データを含む、請求項125に記載の方法。
【請求項127】
前記フレーム時間の一部はローアドレス時間以下の時間を含む、請求項117に記載の方法。
【請求項128】
前記フレーム時間の一部は、実質的にフレーム時間全体を含む、請求項117に記載の方法。
【請求項129】
前記フレーム時間の一部はフレーム時間全体の少なくとも50%を含む、請求項117に記載の方法。
【請求項130】
前記フレーム時間の一部はフレーム時間全体の少なくとも90%から100%を含む、請求項117に記載の方法。
【請求項131】
前記フレーム時間の一部は少なくとも1ミリ秒を含む、請求項117に記載の方法。
【請求項132】
後続の表示フレーム時間は、現在の表示フレーム時間に続く次の表示時間である、請求項117に記載の方法。
【請求項133】
後続の表示フレーム時間は、現在の表示フレーム時間に続くいずれかの表示フレーム時間である、請求項117に記載の方法。
【請求項134】
後続の表示フレーム時間は、表示装置の初期化時またはパワーオン時でのフレーム時間である、請求項117に記載の方法。
【請求項135】
画像データ信号と制御信号は表示装置マトリックスの行と列を含み、また、制御信号と駆動信号は、複数の画素に対するフレーム時間中に画像を表示させるように動作する、請求項117に記載の方法。
【請求項136】
前記画素はアモルファスシリコンから形成された少なくとも1つの薄膜トランジスタを含む、請求項117に記載の方法。
【請求項137】
前記画素はポリシリコンから形成された少なくとも1つの薄膜トランジスタを含む、請求項117に記載の方法。
【請求項138】
前記画素はセレン化カドミウムから形成された少なくとも1つの薄膜トランジスタを含む、請求項117に記載の方法。
【請求項139】
前記画素は半導体材料から形成された少なくとも1つの薄膜トランジスタを含む、請求項117に記載の方法。
【請求項140】
現在の表示フレーム時間の一部は行アドレス時間以下である、請求項117に記載の方法。
【請求項141】
現在の表示フレーム時間の一部は、フレーム時間以下である、請求項117に記載の方法。
【請求項142】
現在の表示フレーム時間の一部は、フレーム時間の複数倍に等しい、請求項117に記載の方法。
【請求項143】
前記表示デバイスは有機発光ダイオード(OLED)画素表示デバイスである、請求項117に記載の方法。
【請求項144】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、小分子OLEDである、請求項143に記載の方法。
【請求項145】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、ポリマーOLED(PLED)である、請求項143に記載の方法。
【請求項146】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、燐光性OLED(PHOLED)である、請求項143に記載の方法。
【請求項147】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、単一または複数層の有機材料と電極とのいずれかの組み合わせという形態のいずれかの有機材料から形成される、請求項143に記載の方法。
【請求項148】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、アクティブマトリックスOLEDである、請求項143に記載の方法。
【請求項149】
前記表示デバイスは、エレクトロルミネセントデバイスである、請求項117に記載の方法。
【請求項150】
前記表示デバイスは、プラズマ発光デバイスである、請求項117に記載の方法。
【請求項151】
前記表示デバイスは、いずれかの制御可能光子放射デバイスである、請求項117に記載の方法。
【請求項152】
前記アクティブマトリックス表示デバイスは、アモルファスシリコンから形成されている、請求項148に記載の方法。
【請求項153】
前記アクティブマトリックス表示デバイスは、ポリシリコンから形成されている、請求項148に記載の方法。
【請求項154】
前記アクティブマトリックス表示デバイスは、セレン化カドミウムから形成されている、請求項148に記載の方法。
【請求項155】
前記アクティブマトリックス表示デバイスは、いずれかのタイプの半導体材料から形成されている、請求項148に記載の方法。
【請求項156】
累積輝度センサーを有する発光画素デバイスであって、
発光デバイスと、
前記発光デバイスを画像電圧に対応する所定の輝度にまで駆動する電流を発生して、駆動電流をフレーム時間中に発光デバイスに入力する駆動回路と、
発光デバイスの近傍に配置された入射光子束の変化に反応して電気的特性の変化を示して、発光デバイスが発光状態にあるときに測定可能な光子を途中で遮ぎる光センサーと、
前記センサーと結合しており、電荷を蓄積もしくは減少して、容量電荷およびこの電荷に比例する電圧を一時に示す電荷蓄積デバイスと、
フレーム時間の少なくとも一部においてセンサーの電気的特性の変化に反応して電荷蓄積デバイスの充電および放電を制御する制御回路と、
を備える前記画素デバイス。
【請求項157】
さらに、前記表示フレーム時間の少なくとも一部の終了時で前記電荷蓄積デバイスの両端の電圧を測定する電圧読取回路を備え、この測定された電圧はこのフレーム時間の一部の間での画素の測定輝度を示す、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項158】
さらに、前記表示フレーム時間の少なくとも一部の終了時で前記電荷蓄積デバイスからの電流を測定する電流読取回路を備え、この測定された電流はこのフレーム時間の一部の間での画素の測定輝度を示す、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項159】
さらに、前記表示フレーム時間の少なくとも一部の終了時で前記電荷蓄積デバイス上の電荷を測定する電荷読取回路を備え、この測定された電荷はこのフレーム時間の一部の間での画素の測定輝度を示す、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項160】
後続のフレーム時間中に画素駆動回路に修正値を入力し、これで、この後続フレーム時間中の測定輝度がフレーム測定時間中の場合より基準輝度からの変動が小さくなるようにするフィードバック制御回路をさらに備える、請求項157に記載の発光画素デバイス。
【請求項161】
前記電荷蓄積デバイスの両端の電圧は、前記制御回路が電荷蓄積デバイスの充電または放電をすることが許容されているフレーム時間の一部の間における累積された光子束を表している、請求項157に記載の発光画素デバイス。
【請求項162】
前記電圧読取回路は、さらに、前記電荷蓄積デバイスの両端の電圧と目標輝度に対応する基準電圧とを受け取って、目標輝度と測定輝度間の差を表す差分信号を発生する電圧コンパレータ回路を備える、請求項157に記載の発光画素デバイス。
【請求項163】
前記電流読取回路は、さらに、前記電荷蓄積デバイスからの電流と目標輝度に対応する基準電流とを受け取って、目標輝度と測定輝度間の差を表す差分信号を発生する電流コンパレータ回路を備える、請求項158に記載の発光画素デバイス。
【請求項164】
前記電荷読取回路は、さらに、電荷蓄積デバイス上の電荷と目標輝度に対応する基準電荷とを受け取って、目標輝度と測定輝度間の差を表す差分信号を発生する電荷コンパレータ回路を備える、請求項159に記載の発光画素デバイス。
【請求項165】
前記読取回路は、電荷増幅回路を有する電荷アンプ/トランスインピーダンス増幅器として構成されている、請求項157に記載の発光画素デバイス。
【請求項166】
前記電荷アンプ/トランスインピーダンス増幅器は、蓄積キャパシタを完全充電電圧にまで再充電するために必要とされる電荷を測定し、前記電荷増幅回路の反転(-)入力部は少なくとも1ギガオームという抵抗値を有し、前記電荷増幅回路の出力部は約0~100オームという抵抗値を有する、請求項165に記載の発光画素デバイス。
【請求項167】
前記電荷増幅回路の出力の抵抗は、実質的に0~10オームである、請求項166に記載の発光画素デバイス。
【請求項168】
前記制御回路は少なくとも1つのトランジスタを備える、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項169】
前記電荷蓄積デバイスは少なくとも1つのキャパシタを備える、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項170】
前記電荷蓄積デバイスは複数のキャパシタを備える、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項171】
前記センサーデバイスは、自身に入射する光子の数にしたがって抵抗率または伝導率が変動する光抵抗性デバイスまたは光伝導性デバイスを備える、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項172】
前記発光デバイスは光子を放射する、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項173】
前記発光デバイスは発光ダイオードを備える、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項174】
前記発光デバイスは有機発光ダイオードを備える、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項175】
前記発光デバイスは無機発光ダイオードを備える、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項176】
前記発光デバイスは、行と列として配置された2次元アレイとして配置された複数の発光デバイスのうちの1つである、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項177】
前記発光デバイスは発光ダイオードを備える、請求項176に記載の発光画素デバイス。
【請求項178】
前記発光デバイスは、有機発光ダイオードを備える、請求項176に記載の発光画素デバイス。
【請求項179】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、小分子OLEDである、請求項178に記載の発光画素デバイス。
【請求項180】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、ポリマーOLED(PLED)である、請求項178に記載の発光画素デバイス。
【請求項181】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、燐光性OLED(PHOLED)である、請求項178に記載の発光画素デバイス。
【請求項182】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、単一または複数層の有機材料と電極とのいずれかの組み合わせという形態のいずれかの有機材料から形成される、請求項178に記載の発光画素デバイス。
【請求項183】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、アクティブマトリックスOLEDである、請求項178に記載の発光画素デバイス。
【請求項184】
前記表示デバイスは、エレクトロルミネセントデバイスである、請求項178に記載の発光画素デバイス。
【請求項185】
前記表示デバイスは、プラズマ発光デバイスである、請求項178に記載の発光画素デバイス。
【請求項186】
前記表示デバイスは、いずれかの制御可能光子放射デバイスである、請求項178に記載の発光画素デバイス。
【請求項187】
前記アクティブマトリックス表示デバイスは、アモルファスシリコンから形成されている、請求項178に記載の発光画素デバイス。
【請求項188】
前記アクティブマトリックス表示デバイスは、ポリシリコンから形成されている、請求項178に記載の発光画素デバイス。
【請求項189】
前記アクティブマトリックス表示デバイスは、セレン化カドミウムから形成されている、請求項178に記載の発光画素デバイス。
【請求項190】
前記アクティブマトリックス表示デバイスは、いずれかのタイプの半導体材料から形成されている、請求項178に記載の発光画素デバイス。
【請求項191】
前記光センサー素子は抵抗部品を含み、抵抗は入射する光子束に比例して変化する、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項192】
前記光センサー素子は、入射する光子束に反応して抵抗および/またはコンダクタンスが変化する光ダイオードを含む、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項193】
前記光センサー素子は、入射する光子束に反応して抵抗および/またはコンダクタンスが変化する光トランジスタを含む、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項194】
前記光センサーは、発光デバイスが放射した光子を途中で遮って、これを電荷担体に変換して、センサーの材料をより良好な電流伝導体とし、これで、抵抗を下げている、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項195】
前記光センサーの抵抗が低いため、センサーの2端子抵抗部品と並列に接続されているキャパシタ上に蓄積された電荷を排出する、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項196】
前記画素回路は、抵抗部品とキャパシタを有するセンサーを備える光子束カウントインテグレータを含む、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項197】
排出される前記電荷の量は、フレーム時間中にセンサーに入射する光子の数に比例し、また、前記フレーム時間の一部の終了時でのキャパシタ上の電圧は、フレーム時間の一部中にカウントもしくは累積された光子の示度である、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項198】
特定の輝度レベルはセンサー中に光電流を発生させ、この光電流の大きさが輝度(センサー中の光子束)を示す、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項199】
前記光電流は輝度に比例する、請求項179に記載の発光画素デバイス。
【請求項200】
前記光電流は輝度に正比例する、請求項180に記載の発光画素デバイス。
【請求項201】
前記感光性素子が発光ダイオードと同じ画素中に配置される、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項202】
前記感光性素子は発光ダイオードと一体化され、これで、発光ダイオードが放射したすべてまたは実質的にすべての光子束が感光性素子に入射するようにする、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項203】
前記感光性素子は、発光デバイスの陽極側の半導体と物理的に接触して置かれる表面または層を有する、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項204】
前記フレーム時間の一部は、行アドレス時間以下を含む、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項205】
前記フレーム時間の一部は、実質的にフレーム時間全体を含む、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項206】
前記フレーム時間の一部はフレーム時間全体の少なくとも50%を含む、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項207】
前記フレーム時間の一部はフレーム時間全体の少なくとも90%から100%を含む、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項208】
前記フレーム時間の一部は少なくとも1ミリ秒を含む、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項209】
前記フレーム時間の一部は、ローアドレス時間以下である、請求項156に記載の発光画素デバイス。
【請求項210】
累積輝度センサーを有する発光画素デバイスを操作する方法であって、
発光デバイスを画像電圧に対応する所定の輝度にまで駆動する電流を発生して、駆動電流をフレーム時間中に発光デバイスに印加するステップと、
入射光子束の変化に反応して電気的特性が変化する光センサーを発光ダイオードが放射した光子に対してフレーム時間中に露光するステップと、
前記センサーと結合している電荷蓄積デバイスに電荷を蓄積または充電したりこれから排出または放電したりするステップであり、電荷蓄積デバイスは、電荷を蓄積もしくは減少して、容量電荷およびこの電荷に比例する電圧をある時間に示すデバイスであって、前記センサーはフレーム時間中での電荷の蓄積や減少の速度を制御する部品を含む、ステップと、
前記フレーム時間の一部の終了時に前記電荷蓄積デバイス上に存在する電荷によって生じる電圧を測定するステップであり、測定された前記電圧がフレーム時間の一部の間での実際の輝度を示す、ステップと、
輝度と関連する測定電圧を画素発光体画像電圧と画素発光体駆動電流に対する基準目標輝度と比較して、差分値を発生するステップと、
この差分値をフィードバック入力として修正回路に印加し、この修正回路が、同じ画素に対する画像電圧と駆動電流を後続のフレーム時間中に修正するステップと、
を含む方法。
【請求項211】
前記発光デバイスは無機発光ダイオードを含む、請求項189に記載の方法。
【請求項212】
前記発光デバイスは有機発光ダイオード(OLED)を含む、請求項189に記載の方法。
【請求項213】
前記有機発光ダイオード(OLED)は小分子OLEDである、請求項212に記載の方法。
【請求項214】
前記有機発光ダイオード(OLED)はポリマーOLED(PLED)である、請求項212に記載の方法。
【請求項215】
前記有機発光ダイオード(OLED)はフォスフォレセントOLED(PHOLED)である、請求項212に記載の方法。
【請求項216】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、単一または複数の層を成す有機材料および電極の何らかの組み合わせ中のいずれかの材料から形成される、請求項212に記載の方法。
【請求項217】
前記有機発光ダイオード(OLED)はアクティブマトリックスOLEDである、請求項212に記載の方法。
【請求項218】
前記表示装置発光デバイスはエレクトロルミネセントデバイスである、請求項210に記載の方法。
【請求項219】
前記表示装置発光デバイスはプラズマ発光デバイスである、請求項210に記載の方法。
【請求項220】
前記表示装置発光デバイスは、いずれかの制御式光子放射デバイスである、請求項210に記載の方法。
【請求項221】
前記アクティブマトリックスはアモルファスシリコンから形成されている、請求項217に記載の方法。
【請求項222】
前記アクティブマトリックスはポリシリコンから形成されている、請求項217に記載の方法。
【請求項223】
前記アクティブマトリックスはセレン化カドミウムから形成されている、請求項217に記載の方法。
【請求項224】
前記アクティブマトリックスはいずれかのタイプの半導体材料から形成されている、請求項217に記載の方法。
【請求項225】
前記光センサーは、発光デバイスが放射した光子を途中で遮って、これを電荷担体に変換して、センサーの材料をより良好な電流伝導体とし、これで、抵抗を下げている、請求項210に記載の方法。
【請求項226】
蓄積または排出される前記電荷の量は、フレーム時間の一部中にセンサーに入射する光子の数に比例し、また、フレーム時間の一部の終了時でのキャパシタ上の電圧は、フレーム時間の一部中にカウントもしくは累積された光子の示度である、請求項210に記載の方法。
【請求項227】
特定の輝度レベルはセンサー中に光電流を発生させ、この光電流の大きさが輝度(センサー中の光子束)を示す、請求項210に記載の方法。
【請求項228】
前記光センサー素子は発光ダイオードと同じ画素中に配置される、請求項210に記載の方法。
【請求項229】
前記フレーム時間の一部は、行アドレス時間以下を含む、請求項210に記載の方法。
【請求項230】
前記フレーム時間の一部は、実質的にフレーム時間全体を含む、請求項210に記載の方法。
【請求項231】
前記フレーム時間の一部はフレーム時間全体の少なくとも50%を含む、請求項210に記載の方法。
【請求項232】
前記フレーム時間の一部はフレーム時間全体の少なくとも90%から100%を含む、請求項210に記載の方法。
【請求項233】
前記フレーム時間の一部は少なくとも1ミリ秒を含む、請求項210に記載の方法。
【請求項234】
前記フレーム時間の一部は、行アドレス時間以下である、請求項210に記載の方法。
【請求項235】
自己校正形発光画素を操作する方法であって、
センサーキャパシタを所定の開始電圧に設定するステップと、
電流を光子放射デバイスに送出して、光子を所定の目標光子放射レベルで放射させるステップと、
センサー上の光子束にしたがって変動する電気的特性を有するセンサーを表示フレーム時間の少なくとも1部分の間に放射済みの光子に暴露するステップと、
センサーキャパシタに、センサーを介して所定の開始状態から充電もしくは放電させて、フレーム時間の1部およびフレーム時間の1部中でのセンサーの抵抗値によってセンサーキャパシタ上の電荷の量が決定されるようにするステップと、
フレーム時間の1部の終了時におけるセンサーキャパシタ上の残留している電圧もしくは電荷を、累積された光子束と画素の輝度の表示として測定するステップと、
測定された前記電圧をフィードバックパラメータとして用いて、いずれかの後続の表示フレーム時間中に画素に印加される画像電圧および/または電流を修正するステップと、
を含む方法。
【請求項236】
前記センサーは光抵抗性デバイスを備える、請求項235に記載の方法。
【請求項237】
前記センサーは光伝導性デバイスを備える、請求項235に記載の方法。
【請求項238】
前記センサーは、光ダイオード、光抵抗体、光伝導体および光トランジスタの内の少なくとも1つを備える、請求項235に記載の方法。
【請求項239】
前記センサーは光トランジスタを備える、請求項235に記載の方法。
【請求項240】
前記センサーは光ダイオードを備える、請求項235に記載の方法。
【請求項241】
前記キャパシタ開始電圧設定値は、センサーキャパシタを所定の充電電圧に充電することによって設定される、請求項235に記載の方法。
【請求項242】
前記キャパシタ開始電圧設定値は、実質的にゼロボルトに設定される、請求項235に記載の方法。
【請求項243】
前記所定のキャパシタ開始電圧は、ある電圧の値を有する非ゼロ電圧である、請求項235に記載の方法。
【請求項244】
所定の非ゼロ開始電圧に充電され次に放電されたセンサーキャパシタの場合、センサーキャパシタの両端に残っている差分電圧は、フレーム時間中の累積光子束の全体量を示す、請求項235に記載の方法。
【請求項245】
実質的にゼロボルトで放電されたまたは別の電圧で充電され次にフレーム累積時間の一部中に充電されたセンサーキャパシタの場合、センサーキャパシタ上の開始電圧と終了電圧間の差はフレーム時間の前記一部中の光子累積束の総量を示す、請求項235に記載の方法。
【請求項246】
後続の表示フレーム時間中に同じ画素と階調レベルに印加される画像電圧と電流を修正する前記ステップは、さらに、測定されたセンサーキャパシタ電圧をメモリに記憶されている基準校正電圧と比較してこれらの電圧間の差を用いて修正値を発生するステップを含む、請求項235に記載の方法。
【請求項247】
前記方法は、2次元アクティブマトリックス画素アレイの各画素に対して実質的に並列に実行される、請求項235に記載の方法。
【請求項248】
送出電流は、電圧を制御デバイスに印加し、このデバイスがこの電圧に対応する電流を光子放射デバイスに送出して、光子を所定の目標光子放射レベルで放射させることによって送出される、請求項235に記載の方法。
【請求項249】
前記フレーム時間の一部は、行アドレス時間以下を含む、請求項235に記載の方法。
【請求項250】
前記フレーム時間の一部は、実質的にフレーム時間全体を含む、請求項235に記載の方法。
【請求項251】
前記フレーム時間の一部はフレーム時間全体の少なくとも50%を含む、請求項235に記載の方法。
【請求項252】
前記フレーム時間の一部はフレーム時間全体の少なくとも90%から100%を含む、請求項235に記載の方法。
【請求項253】
前記フレーム時間の一部は少なくとも1ミリ秒を含む、請求項235に記載の方法。
【請求項254】
前記フレーム時間の一部は、行アドレス時間以下である、請求項235に記載の方法。
【請求項255】
さらに、センサーと結合している前記キャパシタを、トランジスタとキャパシタ充電電圧源によってセンサーラインを介して累積フレーム時間に先立って第1の所定の電圧に充電するステップを含む、請求項235に記載の方法。
【請求項256】
前記キャパシタ充電電圧はセンサーライン上で印加され、するとセンサーラインは、センサーキャパシタ電圧が測定されているときまたはセンサーキャパシタが再充電されていて、電圧が高度に安定しており変動していないときに電流を流すだけである、請求項255に記載の方法。
【請求項257】
各画素が、有機発光ダイオード発光体と、各画素に対する入力画像データを受信して、フレーム時間中に、対応する目標画素輝度を発生する意図を持つ画素駆動信号を発生する発光体駆動回路と、測定値表示フレーム時間の1部で、各画素の実際の輝度を示す電気的パラメータを測定する発光体輝度センサーおよび測定回路とを含む2次元アレイとして配置された複数のアクティブマトリックス画素を備えるフラットパネル表示デバイスと、
前記フラットパネル表示デバイスに接続され、画素輝度関連の電気的パラメータを画素ごとに受信して、測定表示フレーム時間に続くフレーム時間に画素ごとの入力画像データに対して適用される修正値を目標画素輝度と画素輝度測定値の差に基づいて発生する、表示ロジックサブシステムと、
を備える情報機器。
【請求項258】
さらに、テレビモニター、テレビ受信装置、CDプレーヤー、DVDプレーヤー、コンピュータモニターもしくは表示装置、コンピュータシステム、自動車計器パネル、航空機計器表示パネル、ビデオゲーム、携帯電話、個人向け携帯型情報通信機器(PDA)、電話、図形システム、印刷システム、スコアボードシステム、エンターテインメントシステム、家庭内もしくは電化製品、コピー機、GPSナビゲーション表示装置、動的アート表示デバイス、カメラ、およびこれらの組み合わせの内の少なくとも1つを備える、請求項257に記載の情報機器。
【請求項259】
前記画素のおのおのが、
発光デバイスと、
前記発光デバイスを画像電圧に対応する所定の輝度にまで駆動する電流を発生して、駆動電流をフレーム時間中に発光デバイスに印加する駆動回路と、
前記発光デバイスの近傍に配置された入射光子束の変化に反応して電気的特性の変化を示して、前記発光デバイスが発光状態にあるときに測定可能な光子束を途中で遮ぎる光センサーと、
前記センサーと結合して、電荷を蓄積もしくは減少して、容量電荷およびこの電荷に比例する電圧を一時に示す電荷蓄積デバイスと、
前記フレーム時間の少なくとも一部において前記センサーの電気的特性の変化に反応して前記電荷蓄積デバイスの充電および放電を制御する制御回路と、
前記表示フレーム時間の少なくとも一部の終了時に前記電荷蓄積デバイスの両端の電圧を測定し、測定された前記電圧が前記フレーム時間の一部の間での測定輝度を示す、電圧読取回路と、
後続のフレーム時間中に画素駆動回路に修正値を入力し、これで、この後続フレーム時間中の測定輝度がフレーム測定時間中の場合より基準輝度からの変動が小さくなるようにするフィードバック制御回路と、
を備える、請求項257に記載の情報機器。
【請求項260】
各画素が発光ダイオード発光体と画素ごとの入力画像データを受信して、おのおののフレーム表示時間中に対応する目標画素輝度を発生する意図を持つ画素駆動信号を発生する発光体駆動回路とを含む、2次元アレイとして配置された複数のアクティブマトリックス画素を有するタイプの表示デバイスを操作する方法であって、さらに、
第1のフレーム時間の少なくとも一部中に発光体輝度測定回路によって途中で遮ぎられた光子束を示す電圧を測定するステップと、
測定輝度に対応する測定電圧を基準輝度に対応する基準電圧と比較して、差分信号を発生し、この差分信号を用いて、後続のフレーム表示時間中に画素ごとに入力画像データを修正し、これで、後続のフレーム表示時間中の画素輝度が基準輝度とほとんど等しくなるようにするステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項261】
前記フレーム時間の一部は行アドレス時間以下を含む、請求項260に記載の方法。
【請求項262】
前記フレーム時間の一部は、実質的にフレーム時間全体を含む、請求項260に記載の方法。
【請求項263】
前記フレーム時間の一部はフレーム時間全体の少なくとも50%を含む、請求項260に記載の方法。
【請求項264】
前記フレーム時間の一部はフレーム時間全体の少なくとも90%から100%を含む、請求項260に記載の方法。
【請求項265】
前記フレーム時間の一部は少なくとも1ミリ秒を含む、請求項260に記載の方法。
【請求項266】
後続のフレーム表示時間は、第1の表示時間の直後のフレーム表示である、請求項260に記載の方法。
【請求項267】
前記フレーム時間の一部は、行アドレス時間以下である、請求項260に記載の方法。
【請求項268】
後続のフレーム表示時間は、輝度が測定される第1のフレーム表示の後に所定数の表示フレームだけ続くフレーム表示であり、また、所定数のフレームとはいずれかの整数N個のフレームのことである、請求項260に記載の方法。
【請求項269】
後続のフレーム表示時間は、所定のまたは動的に決定された事象の発生時のフレーム表示である、請求項260に記載の方法。
【請求項270】
所定のまたは動的に決定された事象の発生は、表示初期化事象、表示パワーオン事象、動作事象の表示時間、ユーザ初期化事象、いずれかの自動的ポリシーもしくはルールに基づいた事象およびこれらの組み合わせから選択される、請求項269に記載の方法。
【請求項271】
前記表示デバイスは全体的なシステム中の部品であるフラットパネル表示デバイスを備え、また、前記システムは、いずれかの情報機器、テレビモニター、CDプレーヤー、DVDプレーヤー、コンピュータモニター、コンピュータシステム、自動車計器パネル、航空機計器表示パネル、ビデオゲーム、携帯電話、個人向け携帯型情報通信機器(PDA)、電話、図形システム、印刷システム、スコアボードシステム、エンターテインメントシステム、家庭内もしくは電化製品、コピー機、GPSナビゲーション表示装置、動的アート表示デバイス、カメラ、およびこれらの組み合わせからなるシステムの集合から選択される、請求項260に記載の表示デバイスを操作する方法。
【請求項272】
前記発光デバイスは有機発光ダイオード(OLED)を備える、請求項259に記載の情報機器。
【請求項273】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、小分子OLEDである、請求項272に記載の情報機器。
【請求項274】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、ポリマーOLED(PLED)である、請求項272に記載の情報機器。
【請求項275】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、燐光性OLED(PHOLED)である、請求項272に記載の情報機器。
【請求項276】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、単一または複数層の有機材料と電極とのいずれかの組み合わせという形態のいずれかの有機材料から形成される、請求項272に記載の情報機器。
【請求項277】
前記有機発光ダイオード(OLED)は、アクティブマトリックスOLEDである、請求項272に記載の情報機器。
【請求項278】
前記発光デバイスは、エレクトロルミネセントデバイスである、請求項259に記載の情報機器。
【請求項279】
前記発光デバイスは、プラズマ発光デバイスである、請求項259に記載の情報機器。
【請求項280】
前記発光デバイスは、いずれかの制御可能光子放射デバイスである、請求項259に記載の情報機器。
【請求項281】
前記表示デバイスは、アモルファスシリコンから形成されている、請求項259に記載の情報機器。
【請求項282】
前記表示デバイスは、ポリシリコンから形成されている、請求項259に記載の情報機器。
【請求項283】
前記表示デバイスは、セレン化カドミウムから形成されている、請求項259に記載の情報機器。
【請求項284】
前記表示デバイスは、いずれかのタイプの半導体材料から形成されている、請求項259に記載の情報機器。

We Claim:

1. A stabilized feedback display system comprising: a display device having a plurality of emissive picture elements (pixels) each formed from at least one electronic circuit device; a display driver circuit receiving a raw input image signal from an external image source and applying a corrected image signal to the display; a display luminance detector generating at least one display device luminance value; and a processing logic unit receiving the at least one display device luminance value and communicating information to the display driver circuit, the display driver circuit using this communicated information to generate a transformation for generating the corrected image signal from the raw input image signal.

2. A stabilized feedback display system as in claim 1, wherein each of the picture elements comprises: a sample and hold circuit; a current source controlled by the sample and hold circuit; a photon emission device supplied by the current source; and a luminance detection device disposed within a separation distance from the photon emission device for detecting photons emitted by the photon emission device.

3. A stabilized feedback display system as in claim 1, wherein each of the picture elements comprises: a photon emitter; and a photon flux integrator disposed within the pixel to intercept a flux of photons from the photon emitter during a specified time, to undergo an electrical property change in response to the photons intercepted, to integrate or count the number of photons intercepted during the time, and to generate a signal indicative of a the total integrated photon flux during the specified time. 4. A stabilized feedback display system as in claim 3, wherein the photon flux integrator comprises: a sensor formed of a photo device that exhibits changing or variable properties in response to a changing or variable photon flux; a charge storage device adapted to store or release charges; and a control circuit that directs charges to or removes charges from the charge storage device in response to the change in resistance or conductance of the sensor.

5. A stabilized feedback display system as in claim 4, wherein the charge storage device comprises a capacitor.

6. A stabilized feedback display system as in claim 4, wherein the control circuit includes a transistor.

7. A stabilized feedback display system as in claim 4, wherein the photodevice comprises a photo sensitive resistor that changes its resistance or conductance with changes of photon flux impinging on its surface.

8. A stabilized feedback display system as in claim 4, wherein the photodevice comprises a photo diode the leakage of which increases or decreases with variations of photon flux impingent on its surface.

9. A stabilized feedback display system as in claim 8, wherein the photo diode leakage comprises one or more of voltage leakage, current leakage, or charge leakage.

10. A stabilized feedback display system as in claim 4, wherein the photodevice comprises a phototransistor the current of which increases or decreases with variations of photon flux impingent on the phototransistor surface.

11. A stabilized feedback display system as in claim 1, wherein the luminance detector comprises a photon flux integrator. 12. A stabilized feedback display system as in claim 1, wherein the picture element (pixel) comprises a particular photon flux integrator that integrates a photon flux emitted by the photon emission device within the same pixel as the photon flux integrator.

13. A stabilized feedback display system as in claim 3, wherein each photon flux integrator comprises: an isolation switching device for isolating a first circuit node from a second circuit node and having an output port (node); a photosensitive unit having an input coupled to the isolation switching device output port (node) and an output connected with a voltage reference node; and a charge storage device having a first electrode coupled with a first port of the isolation switch and a second electrode coupled with the voltage reference node.

14. A stabilized feedback display system as in claim 4, wherein the charge storage device comprises a capacitor.

15. A stabilized feedback display system as in claim 4, wherein the isolation switch comprises a transistor.

16. A stabilized feedback display system as in claim 4, wherein the isolation switch is formed on a substrate as a thin film transistor (TFT).

17. A stabilized feedback display system as in claim 16, wherein the thin film transistor is constructed from amorphous silicon.

18. A stabilized feedback display system as in claim 16, wherein the thin film transistor is constructed from polysilicon.

19. A stabilized feedback display system as in claim 16, wherein the thin film transistor is constructed from cadmium selenide. 20. A stabilized feedback display system as in claim 16, wherein the thin film transistor is constructed from any semiconductor material.

21. A stabilized feedback display system as in claim 1, wherein the thin film transistor comprises a channel defined in a material, and the material is selected from the set of materials consisting of: an amorphous silicon channel, a poly-silicon channel, a cadmium selenide channel, a gallium arsenide channel, and a channel formed or defined in any other semiconducting material.

22. A stabilized feedback display system as in claim 1, wherein the display device comprises multiple picture elements arranged in a planar array.

23. A stabilized feedback display system as in claim 1, wherein the multiple individual picture elements are addressed by column and row.

24. A stabilized feedback display system as in claim 3, wherein the specified time is equal to or less than the row address time.

25. A stabilized feedback display system as in claim 3, wherein the specified time is equal to or less than the frame time.

26. A stabilized feedback display system as in claim 3, wherein the specified time is equal to multiple frame times.

27. A stabilized feedback display system as in claim 1, wherein the display emissive device is an organic light emitting diode (OLED).

28. A stabilized feedback display system as in claim 27, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a small molecule OLED.

29. A stabilized feedback display system as in claim 27, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a polymer OLED (PLED). 30. A stabilized feedback display system as in claim 27, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a phosphorescent OLED (PHOLED).

31. A stabilized feedback display system as in claim 27, wherein the organic light emitting diode (OLED) is constructed from any organic material in any combination of single or multiple layers of organic materials and electrodes.

32. A stabilized feedback display system as in claim 27, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a active matrix OLED.

33. A stabilized feedback display system as in claim 1, wherein the display emissive device is an electroluminescent device.

34. A stabilized feedback display system as in claim 1, wherein the display emissive device is an plasma emission device.

35. A stabilized feedback display system as in claim 1, wherein the display emissive device is any controllable photon emissive device.

36. A stabilized feedback display system as in claim 32, wherein the active matrix is constructed from amorphous silicon.

37. A stabilized feedback display system as in claim 32, wherein the active matrix is constructed from poly silicon.

38. A stabilized feedback display system as in claim 32, wherein the active matrix is constructed from cadmium selenide.

39. A method for stabilizing a display system, the method comprising: providing a display device having a plurality of emissive picture elements (pixels) each formed from at least one electronic circuit device; receiving a raw input image signal by a display driver circuit from an external image source and applying a corrected image signal to the display; detecting a display luminance and generating at least one display device luminance value; and receiving the at least one display device luminance value by a processing logic unit and communicating information to the display driver circuit, and using this communicated information to generate a transformation for generating the corrected image signal from the raw input image signal.

40. A method for controlling the luminance of a picture element (pixel) in a display device, the method comprising: storing a transformation between a digital image gray level value and a display drive signal that generates a luminance from a pixel corresponding to the digital gray level value; identifying a target gray level value for a particular pixel; generating a display drive signal corresponding to the identified target gray level based on the stored transformation and driving the particular pixel with the drive signal during a first display frame; measuring a parameter representative of an actual measured luminance of the particular pixel at a time after the first display time; determining a difference between the identified target luminance and the actual measured luminance for the particular pixel; modifying the stored transformation for the particular pixel based on the determined difference; and storing and using the modified transformation for generating the display drive signal for the particular pixel during a frame time following the first frame time.

41. A method as in claim 40, wherein the first display frame is any display frame designated by software programming or by the display user or by a combination of the programming and the user.

42. A method as in claim 40, wherein the frame time following the first frame is any subsequent frame time. 43. A method as in claim 40, wherein the first display frame is any display frame designated by software programming or by the display user or by a combination of the programming and the user.

44. A method as in claim 40, wherein the first display time may be either a single continuous period of time or comprised of a plurality of discontinuous periods of time, and wherein either of the continuous period of time and the discontinuous periods of time may occur during a single frame time or over multiple frame times.

45. A method as in claim 40, wherein storing and/or the using of the modified transformation for generating the display drive signal for the particular pixel is applied at any subsequent portion of a single frame or at different frames.

46. A method as in claim 40, wherein storing and/or the using of the modified transformation for generating the display drive signal for the particular pixel may be either at single continuous period of time or comprised of a plurality of discontinuous periods of time, and wherein either of the continuous period of time and the discontinuous periods of time may occur during a single frame time or over multiple frame times.

47. A method as in claim 44, wherein storing and/or the using of the modified transformation for generating the display drive signal for the particular pixel may be either at single continuous period of time or comprised of a plurality of discontinuous periods of time, and wherein either of the continuous period of time and the discontinuous periods of time may occur during a single frame time or over multiple frame times.

48. A method as in claim 40, wherein the stored transformation comprises a transformation stored in a gray level logic functional block of a display system.

49. A method as in claim 40, wherein the stored transformation comprises a transformation stored in a gamma table for a display device. 50. A method as in claim 40, wherein the measured parameter representative of an actual measured luminance of the particular pixel at the end of the first display time comprises a voltage measurement corresponding to a number of electrons accumulated or released from a charge storage device.

51. A method as in claim 40, wherein the measured parameter representative of an actual measured luminance of the particular pixel at the end of the first display time comprises a current measurement corresponding to a number of electrons accumulated or released from a charge storage device.

52. A method as in claim 40, wherein the measured parameter representative of an actual measured luminance of the particular pixel at the end of the first display time comprises a charge measurement corresponding to a number of electrons accumulated or released from a charge storage device.

53. A method as in claim 50, wherein the charge storage device comprises a capacitor.

54. A method as in claim 53, wherein the electrons are accumulated or released in proportion to a resistivity or conductivity of a sensor element having a resistivity or conductivity that changes in response to a flux of photons incident on the sensor.

55. A method as in claim 54, wherein the proportion is a direct proportion.

56. A method as in claim 40, wherein the frame time following the first frame time is the next subsequent frame time.

57. A method as in claim 40, wherein the frame time following the first frame time is any subsequent frame time.

58. A method as in claim 40, wherein the frame time following the first frame time is a next display device power on time. 59. A method as in claim 40, wherein the frame time following the first frame time is a frame time at a predetermined or dynamically determined time interval.

60. A method as in claim 40, wherein a different transformation is stored for each pixel in the display device.

61. A method as in claim 40, wherein a different transformation is stored for each different gray level that may be displayed for each separately addressable pixel in the display device.

62. A method as in claim 40, wherein the first display time is the duration of time a pixel is turned on in the display.

63. A method as in claim 40, wherein the display time is substantially any time between 8 milliseconds and 36 milliseconds.

64. A method as in claim 40, wherein the display time is substantially any time between 10 milliseconds and 20 milliseconds.

65. A method as in claim 40, wherein the portion of the frame time comprises substantially the row address time.

66. A method as in claim 40, wherein the portion of the frame time comprises a time between the row address time and the frame time.

67. A method as in claim 40, wherein the measuring of a parameter representative of an actual measured luminance of the particular pixel at the end of the first display time comprises measuring a voltage stored on a capacitor that has either been charged toward or discharged from a known voltage and the amount of charging or discharging is proportional to a photon flux emitted from the emitter within the particular pixel onto a sensor within the same particular pixel. 68. A method as in claim 40, wherein the steps of identifying, generating, measuring, determining, modifying, and using are repeated for every pixel in the display.

69. A method as in claim 40, wherein the determining of a difference between the identified target luminance and the actual measured luminance for the particular pixel is based on a reference integrated photon flux on the particular pixel sensor determined during a display calibration procedure performed during manufacture or when initially used.

70. A method as in claim 40, further comprising a display calibration procedure that determines and stores an initial transformation for every pixel and every gray level the display may be commanded to display.

71. A control system for controlling the luminance of a picture element (pixel) in a display device, the system comprising: a stored pixel gray level to display pixel drive signal transformation for each pixel and each gray level the pixel may be commanded to display, the stored transformation based on performance characteristics of the display pixels during a prior display frame time period; a display drive signal generator responsive to a control that receives a command to display a particular gray level for a particular pixel location and generates a drive signal to the particular pixel using the stored transformation during a first frame time; a luminance measurement circuit for each separate pixel in the display for measuring parameters representative of an actual measured luminances of each of the plurality of particular pixels at the end of the first display time; a comparator circuit for determining a difference between the identified target luminance and the actual measured luminance for the particular pixel; transformation update logic for modifying the stored transformation for each particular pixel based on the determined difference during the first frame time; and using the modified transformation for generating the display drive signal for the particular pixel during a frame time following the first frame time.

72. A system as in claim 71, wherein the stored transformation comprises a transformation stored in a gray level logic functional block of a display system. 73. A system as in claim 71, wherein the stored transformation comprises a transformation stored in a gamma table for a display device.

74. A system as in claim 71, wherein the luminance measurement circuit measures a parameter representative of an actual measured luminance of the particular pixel at the end of the first display time and comprises a voltage measurement corresponding to a number of electrons accumulated or released from a charge storage device separately for each pixel of the display.

75. A system as in claim 74, wherein the charge storage device comprises a capacitor.

76. A system as in claim 75, wherein the electrons are accumulated or released in proportion to a resistivity or conductivity of a sensor element having a resistivity or conductivity that changes in response to a flux of photons incident on the sensor.

77. A system as in claim 76, wherein the proportion is a direct proportion.

78. A system as in claim 71, wherein the frame time following the first frame time is the next subsequent frame time.

79. A system as in claim 71, wherein the frame time following the first frame time is any subsequent frame time.

80. A system as in claim 71, wherein the frame time following the first frame time is a next display device power on time.

81. A system as in claim 71, wherein the frame time following the first frame time is a frame time at a predetermined or dynamically determined time interval.

82. A system as in claim 71, wherein different transformation is stored for each pixel in the display device. 83. A system as in claim 71, wherein a different transformation is stored for each different gray level that may be displayed for each separately addressable pixel in the display device.

84. A system as in claim 71, wherein the first display time is the duration of time a pixel is turned on in the display.

85. A system as in claim 71, wherein the display time is substantially any time between 8 milliseconds and 36 milliseconds.

86. A system as in claim 71, wherein the display time is substantially any time between 10 milliseconds and 20 milliseconds.

87. A system as in claim 71, wherein the portion of the frame time comprises substantially the row address time.

88. A system as in claim 71, wherein the portion of the frame time comprises a time between the row address time and the frame time.

89. A system as in claim 71, wherein the measuring of a parameter representative of an actual measured luminance of the particular pixel at the end of the first display time comprises measuring a voltage stored on a capacitor that has either been charged toward or discharged from a known voltage and the amount of charging or discharging is proportional to a photon flux emitted from the emitter within the particular pixel onto a sensor within the same particular pixel.

90. A system as in claim 71, wherein the steps of identifying, generating, measuring, determining, modifying, and using are repeated for every pixel in the display.

91. A system as in claim 71, wherein the determining of a difference between the identified target luminance and the actual measured luminance for the particular pixel is based on a reference integrated photon flux on the particular pixel sensor determined during a display calibration procedure performed during manufacture or when initially used.

92. A system as in claim 71, further comprising a display calibration procedure that determines and stores an initial transformation for every pixel and every gray level the display may be commanded to display.

93. A system as in claim 71, wherein the measured parameter representative of an actual measured luminance of the particular pixel at the end of the first display time comprises a current measurement corresponding to a number of electrons accumulated or released from a charge storage device.

94. A system as in claim 71, wherein the measured parameter representative of an actual measured luminance of the particular pixel at the end of the first display time comprises a charge measurement corresponding to a number of electrons accumulated or released from a charge storage device.

95. A system as in claim 71, wherein the first display frame is any display frame designated by software programming or by the display user or by a combination of the programming and the user.

96. A system as in claim 71, wherein the frame time following the first frame is any subsequent frame time.

97. A system as in claim 71, wherein the first display frame is any display frame designated by software programming or by the display user or by a combination of the programming and the user.

98. A system as in claim 71, wherein the first display time may be either a single continuous period of time or comprised of a plurality of discontinuous periods of time, and wherein either of the continuous period of time and the discontinuous periods of time may occur during a single frame time or over multiple frame times. 99. A system as in claim 71, wherein storing and/or the using of the modified transformation for generating the display drive signal for the particular pixel is applied at any subsequent portion of a single frame or at different frames.

100. A system as in claim 71, wherein storing and/or the using of the modified transformation for generating the display drive signal for the particular pixel may be either at single continuous period of time or comprised of a plurality of discontinuous periods of time, and wherein either of the continuous period of time and the discontinuous periods of time may occur during a single frame time or over multiple frame times.

101. A system as in claim 98, wherein storing and/or the using of the modified transformation for generating the display drive signal for the particular pixel may be either at single continuous period of time or comprised of a plurality of discontinuous periods of time, and wherein either of the continuous period of time and the discontinuous periods of time may occur during a single frame time or over multiple frame times.

102. A system for operating an active-matrix OLED display device having a plurality of pixels, the system comprising: a gray level logic coupled to an external source of digital image data, the gray level logic including a transformation for transforming a first representation of an image pixel gray level value to a second representation of the same image gray level pixel value; a display controller operable to receive inputs from the gray level logic and to communicate image and control signals to display matrix row select and column drive circuits, the row select and column drivers operable to cause an image to be displayed during a frame time for a plurality of pixels; each of the plurality of pixels including a pixel photon flux emitter and a pixel photon flux receptor that integrates at least a portion of the emitted photon flux from the emitter during a portion of the pixel display frame time and generates an output signal indicative of the integrated photon flux; a calibration memory storing a calibration value for each pixel and each pixel value that may be displayed by the pixel; a comparator receiving the output signals from each of the plurality of pixels and the calibration memory and comparing the received output signals with a like plurality of corresponding signals from the calibration memory to compute a difference signal for each pixel; and a pixel deviation logic receiving difference signals from the comparator and directing a change in the gray level logic transformation for at least pixel locations and pixel gray level values that have a difference between the calibration and the measured values.

103. A system as in claim 102, wherein the pixel deviation logic includes a pixel deviation memory for storing a deviations between a calibrated pixel luminance value and a measured pixel luminance value.

104. A system as in claim 102, wherein the calibration values are voltage values and the output signals indicative of the integrated photon flux are voltages, and the comparator is a voltage comparison circuit.

105. A system as in claim 102, wherein the calibration values are voltage values and the output signals indicative of the integrated photon flux are voltages, and the comparator is a charge amp/impedance transformation circuit.

106. A system as in claim 102, wherein the calibration values are voltage values and the output signals indicative of the integrated photon flux are currents, and the comparator is a voltage comparison circuit.

107. A system as in claim 102, wherein the calibration values are voltage values and the output signals indicative of the integrated photon flux are charges, and the comparator is a voltage comparison circuit. 108. A system as in claim 102, wherein the output signal indicative of the integrated photon flux are analog signals, and the system further comprising: a sample and hold circuit for sampling an analog signal as a voltage representing a per pixel integrated photon flux during the portion of the pixel display frame time and holding that sampled signal for conversion to a digital value; an analog to digital converter converting the sampled and held analog signals to digital values; and a multiplexer coupled to the analog-to-digital converter and receiving digital values and communicating them to the comparator according to a predetermined format and order.

109. A system as in claim 102, wherein the output signal indicative of the integrated photon flux are analog signals, and the system further comprising: a sample and hold circuit for sampling an analog signal as a voltage representing a per pixel integrated photon flux during the portion of the pixel display frame time and holding that sampled signal; a multiplexer coupled to the sample and hold circuit and receiving the sampled and held analog values; and an analog to digital converter converting the sampled and held analog signals received from the multiplexer and converting the analog values to digital values and communicating them to the comparator according to a predetermined format and order.

110. A system as in claim 102, further comprising the external source of digital image data.

111. A system as in claim 110, wherein the external source of digital image data comprises either a source of digital image data, or the combination of an analog image data and a image analog-to-digital converter.

112. A system as in claim 102, wherein the portion of the frame time comprises the row address time or a shorter period of time. 1 13. A system as in claim 102, wherein the portion of the frame time comprises substantially the entire frame time.

114. A system as in claim 102, wherein the portion of the frame time comprises at least 50 percent of the entire frame time.

1 15. A system as in claim 102, wherein the portion of the frame time comprises at least between 90 percent and 100 percent of the entire frame time.

116. A system as in claim 102, wherein the portion of the frame time comprises at least 1 millisecond.

117. A method for operating an active-matrix display device having a plurality of pixels, the method comprising: storing a calibration value for each pixel and each gray level value that may be displayed by each of the pixels in a calibration memory; storing a transformation in a transformation memory for transforming first representations of an image pixel gray level values to second representations of the same image gray level pixel values for each pixel and each gray level that may be displayed by each of the pixels in the display; receiving first gray level representations of image pixel gray level values for a plurality of pixels from an external source; transforming the first gray level representations to an equivalent number of second gray level representations for each pixel in accordance with the stored transformation; generating image data and control signals for driving pixel elements in a matrix display device during a present display frame time in accordance with the second representation of the image gray level pixel value; generating an integrated photon flux signal for each of the plurality of pixels in the display indicative of the integrated photon flux on each of the plurality of pixels in the display during a portion of the present display frame time; comparing the plurality of integrated photon flux signals for a commanded gray level and with the calibration values for the same gray level for each pixel on a pixel-by-pixel basis and generating a plurality of comparison results indicating a difference between the commanded gray level and the measured gray level; and identifying any deviation for each pixel based on the comparison results and directing a change in the stored transformation to be applied during a subsequent display frame time for at least pixel locations and pixel gray level values that have a difference between the calibration and the measured values.

118. A method as in claim 117, wherein the step of identifying any deviation includes storing pixel deviations between a calibrated pixel luminance value and a measured pixel luminance value in a pixel deviation memory.

119. A method as in claim 117, wherein the calibration values are voltage values and the integrated photon flux values are voltages, and the comparison includes a comparison of voltages.

120. A method as in claim 117, wherein the calibration values are current values and the integrated photon flux values are currents, and the comparison includes a comparison of currents.

121. A method as in claim 117, wherein the calibration values are charge values and the integrated photon flux values are charges, and the comparison includes a comparison of charges.

122. A method as in claim 117, wherein the integrated photon flux values are analog signals, and the method further comprising: sampling an analog signal as a voltage representing a per pixel integrated photon flux during the portion of the pixel display frame time and holding that sampled signal for conversion to a digital value; and converting the analog sampled signal to a digital signal. 123. A method as in claim 117, wherein the integrated photon flux values are analog signals, and the method further comprising: sampling an analog signal as a charge representing a per pixel integrated photon flux during the portion of the pixel display frame time and holding that sampled signal for conversion to a digital value; and converting the analog sampled signal to a digital signal.

124. A method as in claim 117, wherein the integrated photon flux values are analog signals, and the method further comprising: sampling an analog signal as a current representing a per pixel integrated photon flux during the portion of the pixel display frame time and holding that sampled signal for conversion to a digital value; and converting the analog sampled signal to a digital signal.

125. A method as in claim 117, further comprising generating the first gray level representations of image pixel gray level values for a plurality of pixels.

126. A method as in claim 125, wherein the digital image data comprises either a digital image data, or an analog image data that is converted to a digital data by an image analog-to- digital converter.

127. A method as in claim 117, wherein the portion of the frame time comprises a time less than or equal to the row address time.

128. A method as in claim 117, wherein the portion of the frame time comprises substantially the entire frame time.

129. A method as in Claim 117, wherein the portion of the frame time comprises at least 50 percent of the entire frame time.

130. A method as in claim 117, wherein the portion of the frame time comprises at least between 90 percent and 100 percent of the entire frame time. 131. A method as in claim 117, wherein the portion of the frame time comprises at least 1 millisecond.

132. A method as in claim 117, wherein the subsequent display frame time is the next display time following the present display frame time.

133. A method as in claim 117, wherein the subsequent display frame time is any display frame time following the present display frame time.

134. A method as in claim 117, wherein the subsequent display frame time is a frame time at display initialization or power-on.

135. A method as in claim 117, wherein the image data and control signals include display matrix row and column control and drive signals operable to cause an image to be displayed during a frame time for a plurality of pixels.

136. A method as in claim 117, wherein the pixels include at least one thin film transistor constructed from amorphous silicon.

137. A method as in claim 117, wherein the pixels include at least one thin film transistor constructed from polysilicon.

138. A method as in claim 117, wherein the pixels include at least one thin film transistor constructed from cadmium selenide.

139. A method as in claim 117, wherein the pixels include at least one thin film transistor constructed from semiconductor material.

140. A method as in claim 117, wherein the portion of the present display frame time is equal to or less than the row address time. 141. A method as in claim 117, wherein the portion of the present display frame time is equal to or less than the frame time.

142. A method as in claim 117, wherein the portion of the present display frame time is equal to multiple frame times.

143. A method as in claim 117, wherein the display device is an organic light emitting diode (OLED) pixel display device.

144. A method as in claim 143, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a small molecule OLED.

145. A method as in claim 143, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a polymer OLED (PLED).

146. A method as in claim 143, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a phosphorescent OLED (PHOLED).

147. A method as in claim 143, wherein the organic light emitting diode (OLED) is constructed from any organic material in any combination of single or multiple layers of organic materials and electrodes.

148. A method as in claim 143, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a active matrix OLED.

149. A method as in claim 117, wherein the display device is an electroluminescent device.

150. A method as in claim 117, wherein the display device is an plasma emission device.

151. A method as in claim 117, wherein the display device is any controllable photon emissive device. 152. A method as in claim 148, wherein the active matrix display device is constructed from amorphous silicon.

153. A method as in claim 148, wherein the active matrix display device is constructed from poly-silicon.

154. A method as in claim 148, wherein the active matrix display device is constructed from cadmium selenide.

155. A method as in claim 148, wherein the active matrix display device is constructed from any type of semiconductor material.

156. An emissive pixel device having an integrated luminance sensor, the pixel device comprising: a light emitting device; a drive circuit generating a current to drive the light emitting device to a predetermined luminance corresponding to an image voltage and applying the drive current to the light emitting device during a frame time; a photo sensor that exhibits a change in electrical characteristic in response to a change in incident photon flux disposed near the light emitting device to intercept a measurable photon flux when the light emitting device is in an emitting state; a charge storage device coupled with the sensor for accumulating or releasing charges and exhibiting a capacitance charge and voltage proportional to the charge at a time; and a control circuit controlling the charging and discharging of the charge storage device in response to changes in the electrical characteristics of the sensor during at least a portion of the frame time.

157. An emissive pixel device as in claim 156, further comprising: a voltage reading circuit for measuring the voltage across the charge storage device at the end of the at least a portion of a display frame time, the measured voltage being an indication of a measured luminance of the pixel during the portion of the frame time. 158. An emissive pixel device as in claim 156, further comprising: a current reading circuit for measuring the current from the charge storage device at the end of the at least a portion of a display frame time, the measured current being an indication of a measured luminance of the pixel during the portion of the frame time.

159. An emissive pixel device as in claim 156, further comprising: a charge reading circuit for measuring the charge on the charge storage device at the end of the at least a portion of a display frame time, the measured charge being an indication of a measured luminance of the pixel during the portion of the frame time.

160. An emissive pixel device as in claim 157, further comprising a feedback control circuit for applying a correction to the pixel drive circuit during a subsequent frame time so that the measured luminance during the subsequent frame time will have a smaller variation from the reference luminance than during the frame time of the measurement.

161. An emissive pixel device as in claim 157, wherein the voltage across the charge storage device represents an integrated photon flux during the portion of the frame time over which the control circuit permitted charging or discharging or the charge storage device.

162. An emissive pixel device as in claim 157, wherein the voltage reading circuit further comprising a voltage comparator circuit that receives the voltage across the charge storage device and a reference voltage corresponding to a target luminance and generates a difference signal representing the difference between the target luminance and the measured luminance.

163. An emissive pixel device as in claim 158, wherein the current reading circuit further comprising a current comparator circuit that receives the current from the charge storage device and a reference current corresponding to a target luminance and generates a difference signal representing the difference between the target luminance and the measured luminance.

164. An emissive pixel device as in claim 159, wherein the charge reading circuit further comprising a charge comparator circuit that receives the charge on the charge storage device and a reference charge corresponding to a target luminance and generates a difference signal representing the difference between the target luminance and the measured luminance.

165. An emissive pixel device as in claim 157, wherein the read circuit is configured as a charge amp/transimpedance amplifier having a charge amplifier circuit.

166. An emissive pixel device as in claim 165, wherein the charge amp/transimpedance amplifier measures the charge required to re-charge the storage capacitor to the full charge voltage, and that an inverting (-) input of the charge amplifier circuit has a resistance that is at least one Gig-ohm and the output of the charge amplifier circuit has a resistance that is between about 0 ohms and 100 ohms.

167. An emissive pixel device as in claim 166, wherein the resistance of the output of the charge amplifier circuit is a resistance that is substantially between 0 ohms and 10 ohms.

168. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the control circuit comprises at least one transistor.

169. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the charge storage device comprises at least one capacitor.

170. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the charge storage device comprises multiple capacitors.

171. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the sensor device comprises a photoresistive or photoconductive device having a resistivity or conductivity that varies according to the number of photons incident on it.

172. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the light emitting device emits photons. 173. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the light emitting device comprises a light emitting diode.

174. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the light emitting device comprises an organic light emitting diode.

175. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the light emitting device comprises an inorganic light emitting diode.

176. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the light emitting device is one of a plurality of light emitting devices arranged as a two-dimensional array arranged as rows and columns.

177. An emissive pixel device as in claim 176, wherein the light emitting device comprises a light emitting diode.

178. An emissive pixel device as in claim 176, wherein the light emitting device comprises an organic light emitting diode.

179. An emissive pixel device as in claim 178, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a small molecule OLED.

180. An emissive pixel device as in claim 178, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a polymer OLED (PLED).

181. An emissive pixel device as in claim 178, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a phosphorescent OLED (PHOLED).

182. An emissive pixel device as in claim 178, wherein the organic light emitting diode (OLED) is constructed from any organic material in any combination of single or multiple layers of organic materials and electrodes. 183. An emissive pixel device as in claim 178, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a active matrix OLED.

184. An emissive pixel device as in claim 178, wherein the display device is an electroluminescent device.

185. An emissive pixel device as in claim 178, wherein the display device is an plasma emission device.

186. An emissive pixel device as in claim 178, wherein the display device is any controllable photon emissive device.

187. An emissive pixel device as in claim 178, wherein the active matrix display device is constructed from amorphous silicon.

188. An emissive pixel device as in claim 178, wherein the active matrix display device is constructed from poly-silicon.

189. An emissive pixel device as in claim 178, wherein the active matrix display device is constructed from cadmium selenide.

190. An emissive pixel device as in claim 178, wherein the active matrix display device is constructed from any type of semiconductor material.

191. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the photo sensor element includes a resistive component and the resistance changes in proportion to the photon flux incident upon it.

192. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the photo sensor element includes photodiode exhibiting a change of resistance and/or conductance in response to photon flux incident upon it. 193. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the photo sensor element includes phototransistor exhibiting a change of resistance and/or conductance in response to photon flux incident upon it.

194. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the photo sensor intercepts photons emitted by the light emitting device and converts them to charge carriers making the material of the sensor a better current conductor and thus having lower electrical resistance.

195. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the lower resistance of the photo sensor drains a charge stored on a capacitor coupled in parallel across a two-terminal resistive component of the sensor.

196. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the pixel circuit includes a photon flux count integrator comprising the sensor having a resistive component and a capacitor.

197. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the amount of drained charge is proportional to the number of photons incident on the sensor during a portion of the frame time and the voltage on the capacitor at the end of the portion of the frame time is an indicator of the photons counted or integrated during the portion of the frame time.

198. An emissive pixel device as in claim 156, wherein a particular luminance level produces a photocurrent in the sensor, and the magnitude of the photocurrent serves as an indication of the luminance (photon flux through the sensor).

199. An emissive pixel device as in claim 179, wherein the photocurrent is proportional to the luminance.

200. An emissive pixel device as in claim 180, wherein the photocurrent is directly proportional to the luminance.

201. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the photo responsive element is disposed within the same pixel as the light emitting diode. 202. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the photo responsive element is integrated with the light emitting diode so that all or substantially all the photon flux emitted by the light emitting diode is incident on the photo responsive element.

203. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the photo responsive element has a surface or layer that is physically located in contact with a semiconductor anode side of the light emitting device.

204. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the portion of the frame time comprises the row address time or less.

205. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the portion of the frame time comprises substantially the entire frame time.

206. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the portion of the frame time comprises at least 50 percent of the entire frame time.

207. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the portion of the frame time comprises at least between 90 percent and 100 percent of the entire frame time.

208. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the portion of the frame time comprises at least 1 millisecond.

209. An emissive pixel device as in claim 156, wherein the portion of the frame time is equal to or less than the row address time.

210. A method of operating an emissive pixel device having an integrated luminance sensor, the method comprising: generating a current to drive a light emitting device to a predetermined luminance corresponding to an image voltage and applying the drive current to the light emitting device during a frame time; a charge storage device coupled with the sensor for accumulating or releasing charges and exhibiting a capacitance charge and voltage proportional to the charge at a time; exposing a photo sensor that exhibits a change in electrical characteristic in response to a change in incident photon flux to photons emitted by the light emitting device during the frame time; accumulating (charging) or draining (discharging) charges to or from a charge storage device coupled with the sensor, the sensor including a component that controls the rate of accumulation or release of charges during the frame time; measuring the voltage arising from the charges present on the charge storage device at the end of a portion of the frame time, the measured voltage being an indication of an actual luminance during the portion of the frame time; comparing the luminance related measured voltage with a reference target luminance for the pixel emitter image voltage and pixel emitter drive current to generate a difference value; and applying the difference value as a feedback input to a correction circuit that modifies the image voltage and drive current for the same pixel during a subsequent frame time.

211. An method as in claim 189, wherein the light emitting device comprises an inorganic light emitting diode.

212. A method as in claim 189, wherein the light emitting device comprises an organic light emitting diode (OLED).

213. A method as in claim 212, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a small molecule OLED.

214. A method as in claim 212, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a polymer OLED (PLED).

215. A method as in claim 212, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a phosphorescent OLED (PHOLED). 216. A method as in claim 212, wherein the organic light emitting diode (OLED) is constructed from any organic material in any combination of single or multiple layers of organic materials and electrodes.

217. A method as in claim 212, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a active matrix OLED.

218. A method as in claim 210, wherein the display emissive device is an electroluminescent device.

219. A method as in claim 210, wherein the display emissive device is an plasma emission device.

220. A method as in claim 210, wherein the display emissive device is any controllable photon emissive device.

221. A method as in claim 217, wherein the active matrix is constructed from amorphous silicon.

222. A method as in claim 217, wherein the active matrix is constructed from poly silicon.

223. A method as in claim 217, wherein the active matrix is constructed from cadmium selenide.

224. A method as in claim 217, wherein the active matrix is constructed from any type of semiconductor material.

225. A method as in claim 210, wherein the photo sensor intercepts photons emitted by the light emitting device and converts them to charge carriers making the material of the sensor a better current conductor and thus having lower electrical resistance. 226. A method as in claim 210, wherein the amount of accumulated or drained charge is proportional to the number of photons incident on the sensor during a portion of the frame time and the voltage on the capacitor at the end of the portion of the frame time is an indicator of the photons counted or integrated during the portion of the frame time.

227. A method as in claim 210, wherein a particular luminance level produces a photocurrent in the sensor, and the magnitude of the photocurrent serves as an indication of the luminance (photon flux through the sensor).

228. A method as in claim 210, wherein the photo sensor element is disposed within the same pixel as the light emitting diode.

229. A method as in claim 210, wherein the portion of the frame time comprises the row address time or less.

230. A method as in claim 210, wherein the portion of the frame time comprises substantially the entire frame time.

231. A method as in claim 210, wherein the portion of the frame time comprises at least 50 percent of the entire frame time.

232. A method as in claim 210, wherein the portion of the frame time comprises at least between 90 percent and 100 percent of the entire frame time.

233. A method as in claim 210, wherein the portion of the frame time comprises at least 1 millisecond.

234. A method as in claim 210, wherein the portion of the frame time is equal to or less than the row address time.

235. A method for operating a self-calibrating pixel, the method comprising: establishing a sensor capacitor at a predetermined starting voltage; delivering a current to a photon emitting device to cause photons to be emitted at a predetermined target photon emission level; exposing a sensor device, having electrical properties that varies according to a photon flux on the sensor device, to the emitted photon emission during at least a portion of a display frame time; permitting the sensor capacitor to either charge or discharge from the predetermined starting voltage through the sensor device so that the portion of the frame time and the average resistance of the sensor during the portion of the frame time determine the amount of charge on the sensor capacitor; measuring the voltage or charge remaining on the sensor capacitor at the end of a portion of the frame time as an indication of the integrated photon flux and pixel luminance during the portion of the frame time used for measurement; and modifying the image voltage and current to be applied to the same pixel and gray level during a subsequent display frame time using the measured sensor capacitor voltage as a feedback parameter.

236. A method as in claim 235, wherein the sensor comprises a photoresistive device.

237. A method as in claim 235, wherein the sensor comprises a photoconductive device.

238. A method as in claim 235, wherein the sensor comprises at least one of a photodiode, a photoresistor, a photoconductor, and a phototransistor.

239. A method as in claim 235, wherein the sensor comprises a phototransistor.

240. A method as in claim 235, wherein the sensor comprises a photodiode.

241. A method as in claim 235, wherein the established capacitor starting voltage is established by charging the sensor capacitor to a predetermined charging voltage.

242. A method as in claim 235, wherein the established capacitor starting voltage is established at substantially zero volts. 243. A method as in claim 235, wherein the predetermined capacitor starting voltage is a non-zero voltage having a voltage magnitude.

244. A method as in claim 235, wherein for a sensor capacitor that was charged to a non¬ zero predetermined starting voltage and then permitted to discharge, the difference voltage remaining across the sensor capacitor is an indication of total photon integrated flux during the portion of the frame time.

245. A method as in claim 235, wherein for a sensor capacitor that was uncharged at substantially zero volts or charged at a different voltage and then permitted to charge during the portion of the frame integration time, the difference of the starting voltage and the ending voltage across the sensor capacitor is an indication of total photon integrated flux during the portion of the frame time.

246. A method as in claim 235, wherein the step of modifying the image voltage and current to be applied to the same pixel and gray level during a subsequent display frame further comprises comparing the measured sensor capacitor voltage with a reference calibration voltage stored in a memory and generating a correction using the difference between these voltages.

247. A method as in claim 235, wherein the method is performed substantially in parallel for each pixel of a two-dimensional active-matrix pixel array.

248. A method as in claim 235, wherein the current delivered is delivered by applying a voltage to a control device that delivers a current corresponding to that voltage to the photon emitting device to cause photons to be emitted at a predetermined target photon emission level.

249. A method as in claim 235, wherein the portion of the frame time comprises the row address time or less. 250. A method as in claim 235, wherein the portion of the frame time comprises substantially the entire frame time.

251. A method as in claim 235, wherein the portion of the frame time comprises at least 50 percent of the entire frame time.

252. A method as in claim 235, wherein the portion of the frame time comprises at least between 90 percent and 100 percent of the entire frame time.

253. A method as in claim 235, wherein the portion of the frame time comprises at least 1 millisecond.

254. A method as in claim 235, wherein the portion of the frame time is equal to or less than the row address time.

255. A method as in claim 235, wherein the method further comprising charging a sensor coupled capacitor to a first predetermined voltage through a sensor line by a transistor and capacitor charging voltage source prior to an integration frame time.

256. A method as in claim 255, wherein a capacitor charge voltage is applied over a sensor line and the sensor line only delivers current when a measurement is being made of the sensor capacitor voltage or when sensor capacitor is being recharged and the voltage is highly stable and not subject to variation.

257. An information appliance comprising: a flat panel display device comprising a plurality of active-matrix pixels arranged as a two-dimensional array, each pixel including an organic light emitting diode emitter, an emitter drive circuit receiving an input image data for each pixel and generating a pixel drive signal intended to produce a corresponding target pixel luminance during a frame time, and an emitter luminance sensor and measurement circuit that measures an electrical parameter indicative of the actual luminance of each pixel over a portion of a measurement display frame time; and a display logic subsystem coupled to the flat panel display device and receiving the pixel luminance related electrical parameter for each pixel and generating a correction to be applied during a frame time subsequent to the measurement display frame time to the input image data for each pixel based on a difference between the target pixel luminance and the measured pixel luminance.

258. An information appliance as in claim 257, wherein the information appliance further comprises at least one of: a television monitor, a television receiver, a CD player, a DVD player, a computer monitor, a computer system, an automobile instrument panel, an aircraft instrument display panel, a video game, a cellular telephone, a personal data assistant (PDA), a telephone, a graphics system, a printing system, a Scoreboard system, an entertainment system, a domestic or home appliance, a copy machine, a global positioning system navigation display, a dynamic art display device, and combinations thereof.

259. An information appliance as in claim 257, wherein each of the pixels comprises: a light emitting device; a drive circuit generating a current to drive the light emitting device to a predetermined luminance corresponding to an image voltage and applying the drive current to the light emitting device during a frame time; a photo sensor that exhibits a change in electrical characteristic in response to a change in incident photon flux disposed near the light emitting device to intercept a measurable photon flux when the light emitting device is in an emitting state; a charge storage device coupled with the sensor for accumulating or releasing charges and exhibiting a capacitance charge and voltage proportional to the charge at a time; a control circuit controlling the charging and discharging of the charge storage device in response to changes in the electrical characteristics of the sensor during at least a portion of the frame time; a voltage reading circuit for measuring the voltage across the charge storage device at the end of the at least a portion of a display frame time, the measured voltage being an indication of a measured luminance of the pixel during the portion of the frame time; and a feedback control circuit for applying a correction to the pixel drive circuit during a subsequent frame time so that the measured luminance during the subsequent frame time will have a smaller variation from the reference luminance than during the frame time of the measurement.

260. A method of operating a display device of the type having a plurality of active-matrix pixels arranged as a two-dimensional array, each pixel including a light emitting diode emitter and an emitter drive circuit receiving an input image data for each pixel and generating a pixel drive signal intended to produce a corresponding target pixel luminance during each frame display time; the method characterized in that the method further includes: measuring a voltage indicative of a photon flux intercepted by an emitter luminance measurement circuit during at least a portion of a first frame time; and comparing the measured voltage corresponding to a measured luminance with a reference voltage corresponding to a reference luminance to generate a difference signal and using the difference signal to modify the input image data for each pixel during a subsequent frame display time so that the pixel luminance during the subsequent display frame time will more nearly equal the reference luminance.

261. A method as in claim 260, wherein the portion of the frame time comprises the row address time or less.

262. A method as in claim 260, wherein the portion of the frame display time comprises substantially the entire frame time.

263. A method as in claim 260, wherein the portion of the frame display time comprises at least 50 percent of the entire frame time.

264. A method as in claim 260, wherein the portion of the frame display time comprises at least between 90 percent and 100 percent of the entire frame time.

265. A method as in claim 260, wherein the portion of the frame display time comprises at least 1 millisecond. 266. A method as in claim 260, wherein the subsequent frame display time is a frame display immediately following the first display time.

267. A method as in claim 260, wherein the portion of the frame time is equal to or less than the row address time.

268. A method as in claim 260, wherein the subsequent frame display time is a frame display a predetermined number of display frames following the first frame display time for which the luminance measurement was made, and wherein the predetermined number of frames is any integer number of frames N.

269. A method as in claim 260, wherein the subsequent frame display time is a frame display at the occurrence of a predetermined or dynamically determined event.

270. A method as in claim 269, wherein the occurrence of a predetermined or dynamically determined event is selected from a display initialization event, a display power-on event, a display time of operation event, a user initiated event, any automatic policy or rule based event, and combinations of these.

271. A method of operating a display device as in claim 260, wherein the display device comprises a flat panel display device that is a component in an overall system and wherein the system is selected from the set of systems consisting of: any information appliance, a television monitor, a CD player, a DVD player, a computer monitor, a computer system, an automobile instrument panel, an aircraft instrument display panel, a video game, a cellular telephone, a personal data assistant (PDA), a telephone, a graphics system, a printing system, a Scoreboard system, an entertainment system, a domestic or home appliance, a copy machine, a global positioning system navigation display, a dynamic art display device, and combinations thereof.

272. An information appliance as in claim 259, wherein the light emitting device comprises an organic light emitting diode (OLED). 273. An information appliance as in claim 272, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a small molecule OLED.

274. An information appliance as in claim 272, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a polymer OLED (PLED).

275. An information appliance as in claim 272, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a phosphorescent OLED (PHOLED).

276. An information appliance as in claim 272, wherein the organic light emitting diode (OLED) is constructed from any organic material in any combination of single or multiple layers of organic materials and electrodes.

277. An information appliance as in claim 272, wherein the organic light emitting diode (OLED) is a active matrix OLED.

278. An information appliance as in claim 259, wherein the light emitting device is an electroluminescent device.

279. An information appliance as in claim 259, wherein the light emitting device is a plasma emission device.

280. An information appliance as in claim 259, wherein the light emitting device is any controllable photon emissive device.

281. An information appliance as in claim 259, wherein the display device is constructed from amorphous silicon.

282. An information appliance as in claim 259, wherein the display device is constructed from poly silicon. 283. An information appliance as in claim 259, wherein the display device is constructed from cadmium selenide. 284. An information appliance as in claim 259, wherein the display device is constructed from any type of semiconductor material.

「特表2008-505366およびWO2006005033より引用」

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個々の画素の輝度の感知と制御を用いる、高性能表示装置のためのシステムと方法

【発明の詳細な説明】
【関連出願】
【0001】
この出願は、Damoder ReddyとW. Edward Naugler,Jr.を発明者とし、その全体をここに参照して組み込む「アクティブマトリックス発光性フィードバック安定フラットパネル表示のための高インピーダンスから低インピーダンス変換システム」という名称の、2004年6月29日に提出された米国仮特許出願第60/583,744号に対する特許法第119条および/または第120条による恩典と優先権を要求するものである。
【0002】
また、この出願は、ここに参照により組み込む以下の出願に対する特許法第120条による優先権の恩典に関連しそれを要求する。「高性能安定アクティブマトリックス発光表示装置を操作するフィードバック制御のシステムと方法」という名称の、2004年12月17日に提出された米国特許出願第11/015,638号、「フィードバック安定フラットパネル表示装置のためのアクティブマトリックス表示と画素構造」という名称の、2004年12月17日に提出された米国特許出願第11/016,372号、「長寿命輝度フィードバック安定表示パネルのためのシステムと方法」という名称の、2004年12月17日に提出された米国特許出願第11/016,164号、「発光性アクティブマトリックス表示デバイス中の各画素の輝度を操作して個々に制御する方法」という名称の、2004年12月17日に提出された米国特許出願第11/016,137号、「自己校正型発光画素を操作するデバイスと方法」という名称の、2004年12月17日に提出された米国特許出願第11/016,686号、コンピュータ、情報機器およびエンターテインメントシステムのための高性能発光性表示デバイス」という名称の、2004年12月17日に提出された米国特許出願第11/016,357号。
【技術分野】
【0003】
この出願は、一般的には、発光性フラットパネル表示装置に関し、より詳しくは、均一な光放射レベルと色を発光画素フラットパネル表示装置の表面上に対して、初期からその動作寿命全般にわたって提供し、また、このような表示装置の動作寿命を拡張するために、このような表示装置を製造し、校正し、操作するためのシステム、デバイスおよび方法に関する。
【背景技術】
【0004】
特にアクティブマトリックス(AM)発光性表示装置とアクティブマトリックス有機発光ダイオード(AMOLED)表示装置では、画素のマトリックスにおける輝度(発光レベル)の生成は、発光ダイオードを流れる電流のレベルに特に依存している。各画素は、直接にアドレス指定される互いに離れた発光ダイオードであり、各画素がサンプル・ホールド回路を有し、これで、フレームの持続時間にわたって連続的に有機発光ダイオード(OLED)表示ドライバに対して電圧を印加できるようにしている。
【0005】
フラットパネル表示装置の機能は、オリジナルの画像またはコンピュータソフトウエアで生成された画像を表わす電圧レベルに対応してさまざまな色調で画像を発生させることである。これらの色調は、さまざまな色つき発光画素もしくはダイオードを用いてまたは同じ色もしくは白色の画素とフィルタを用いて赤、青、緑などのさまざまな画素タイプとして描写されるとき色を形成または発生する。ときとして、一緒に用いて、そのそれぞれの光子束を加法的に組み合わせることによって色を描写する3つの画素の集合はサブ画素と呼ばれるが、以下の説明では、画素とサブ画素をほとんど区別しない。それは、サブ画素はそれ自身が画素であり、また、集合として制御される画素の集合は、単にサブ画素の協働的な集合であるからである。色を発生させるために画素または発光体の集合を操作することは技術上周知であるので、詳しくは説明しない。電圧画像データを、電流で発生されたOLED光子放射(光束)レベルに変換すると、複雑な問題がいくつか提示されるが、これには、表示装置の製造と、この分野におけるユーザや消費者による操作や使用に際しての表示装置のエージングが含まれる。
【0006】
一般的な従来型のOLED表示装置の場合、画像すなわちデータ電圧が表示画素のパワートランジスタ(電流源)のゲートに印加されると、OLED画素に電流を供給し、その分量または大きさを制御する。ゲート電圧が高いほど、電流は高速となり、したがって、画素はより明るくまたはより発光性となる。一般的には、ソース端子、ドレイン端子およびゲート端子を有する薄膜半導体トランジスタ(TFT)に供給される電圧(信号データ)を用いて、画素の放射素子に対する電流を制御して、適切な階調レベルまたは画素の画像輝度を表す。
【0007】
従来例でこれまで用いられてきた回路、制御方法、さらには材料までもが、OLED表示パネルの性能が損なわれるようにかなり制限されており、また、消費者が納得する価格を持つ大型の高性能表示装置に対するこのようなOLED技術の応用が制限されていた。
【0008】
このようなシステムとデバイスにおける主要な問題は、このようにTFTに印加される電圧画像データを用いて表示装置中で画素ごとに均一な電流を発生することが従来では不可能でないまでも極端に困難であることである。この問題は、表示装置が物理的に大型となり、画素数が増し、高い電流レベルや輝度レベルに駆動されおよび/または(エージングする)長期間にわたって連続的にもしくは間欠的に動作されるようになるにつれて特に深刻となる。この問題は少なくとも部分的に発生するが、それは、TFTが特定のゲート電圧で出力する電流は、多くのパラメータ、たとえば、TFT閾値電圧、電子の実効移動度、TFTデバイスの電流利得(これは、製造時の変動、操作時での環境露光および/操作履歴の結果としてTFTデバイスごとに変動する)によって異なるからである。これら3つのパラメータ(閾値電圧、電子の実効移動度および電流利得)自体は、たとえば、粒子間や粒子内のトラップ密度、半導体の厚さおよび半導体からゲートへの絶縁層トラップ密度によって異なる。他の要因には、ゲート絶縁層厚さ、絶縁体の誘電率、TFT形状、電子/ホール移動度などの単独の要因ならびにこれらの組み合わせがある。
【0009】
未解決の問題として、印加電圧(たとえばTFT電圧)をどのように決定するが、また、この電圧をどのようにパワーTFTに印加して、適切な電流レベルを発生し、これによって、正しい階調レベルを生成するかという問題がある。ある研究では、画素の特定の輝度を用いて、画素のパワーTFTに供給される電圧を適切化することが提案されている(たとえば、セイコー・エプソン社に譲渡された、キムラによる米国特許第6,518,962B2号や、フィリップス社に譲渡された米国特許第6,542,138B1号と第6,489,631B2号(2002年5月10日に提出された、MITでマサチューセッツ工科大学の電子工学・コンピュータ科学部の工学修士課程の必要条件を部分的に満足させるために電気工学・コンピュータ科学学部に提出されたEko T.Lisuwandiによる「有機LEDアクティブマトリックス表示ドライバのためのフィードバック回路」を参照)を参照のこと)。しかし、OLED(または実際には他のアクティブ発光性表示技術)を改善しようとするこのような従来の試みは、完全な効果がなく、いろいろと欠陥があった。
【0010】
たとえば、米国特許第6,542,138B1号(フィリップス社に譲渡)には、画素をせいぜいある程度までフレーム持続時間だけ均一化するようにさせる方法が記載されているが、1連の階調レベルに対応する正確な発光レベルが制御可能であるとは記載も示唆もされていない。たとえば、本特許に記載する本発明は、フレーム時間にわたってOLED電流を駆動するTFTのゲート電圧を維持する信号保持用のキャパシタの両端に光感応式放電デバイスを用いる。OLEDから光子が放射されると、この光感応式放電デバイスが、このキャパシタの電圧を放電して、この電流駆動用TFTをオフして、このOLEDを消灯する。この消灯速度は、光子の放射のレベルによって異なり、したがって、画素が光子を過剰に発生させると、OLEDは、画素が光子を過少発生させた場合よりも早く消灯する。このようなシステムをさらに洗練させたものとして、光感応式放電デバイスが光トランジスタとなっており、そのゲートを、OLED中を通過する電流によって制御するものがある。その回路は、OLED内電流が高いと、高いOLED電流のため光トランジスタのゲート電圧がグランドレベルに近づくため光トランジスタがオフとなるが、オフ状態では光トランジスタは、逆バイアスの光ダイオードのように動作し、したがって、キャパシタの電荷が徐々にグランドレベルにリークし、これによって、電流が減少するにつれてOLED内通過電流も減少するように設計されている。蓄積キャパシタの電圧が減衰するため、光トランジスタのゲート電圧が上昇する。電流がある点まで減少すると、光トランジスタの閾値電圧を超え、そのため、光トランジスタがオンして、蓄積キャパシタの残余の電荷が排除されて、OLEDが電源遮断される。OLEDの迅速性と、したがってその知覚輝度は、OLEDの輝度レベルによって決まる。OLEDの輝度が高いほど、OLEDの電源遮断も迅速となる。
【0011】
この方式にはいくつか欠点がある。第一に、OLEDを電源遮断するために光トランジスタをオンさせるには、光トランジスタの閾値電圧に依存しなければならない。この方式の修正すべき問題の一つは、画素回路で用いられるTFTの閾値電圧が変動することである。これは、OLEDが電源遮断される時点は画素ごとに異なり、このため、表示装置を構成する画素が異なると不均一になりやすいことを意味する。第二に、発光値が低いと、光トランジスタのゲート電圧が、フレーム時間の開始時では閾値電圧に近いことである。したがって、閾値電圧がいくらかでも変動すればそれは非常に拡大され、実際の輝度値の不確定性を良好にはまったく制御されないことになる。第三に、見る人が知覚する実際の明るさは、フレーム中の光子の総放射量に依存する。フレーム中の光子総放射量は、少なくとも部分的には、蓄積キャパシタに供給されるデータ電圧の初期値、光トランジスタのオフ時での蓄積キャパシタの放電速度(これは初期電圧によるOLEDの発光レベルによって異なる)、蓄積キャパシタに蓄積されている電圧でゲートが制御される電流制御用TFTの閾値電圧、電流制御用TFTの電流利得、電流制御用TFTの電子の実効移動度、OLED材料のエージング点、OLED材料の色スペクトルおよび光トランジスタの閾値電圧によって異なる。これら言及した制御パラメータはすべて、製造プロセスでは良好に制御されず、したがって、画素の均一性は、参照された米国特許第6,542,138B1号(フィリップス社)に記載または示唆されている構造と方法を用いても良好には制御されない。
【0012】
キムラによる米国特許第6,518,962B2号(セイコー・エプソン社に譲渡)では、電流レベルが、測定用に割り当てられた短いアドレス時間である画素に関連しているセンサーによって得られる回路が記載されている。このような測定は本質的には瞬時的な測定であり、測定時間が短すぎて、実際に容認可能な信号対雑音比を提供することが不可能であり、そのため、TFT(またはOLED画素)に供給する電圧または電流を決定するための有用な情報を測定値から抽出することは不可能である。信号対雑音比(SNR)を約0.1パーセント未満とするためのオープン回路によって実質的に終端される導線のライン長が長いため、抽出される信号は数ナノボルト(10-9ボルト)台であると予想され、雑音は数ボルト台であると予想される。さらに、また、さまざまな電磁場が局所化され、同じ画素でも時間が異なるため、表示装置の領域が異なれば雑音特性も異なると予想される。
【0013】
キムラらによる米国特許第6,518,962B2号の別の制限事項は、その記載するところによれば、システムと方法が、所定の信号を信号データラインに印加し、次に、この信号を電圧制御ユニットによって変更して、光レベルを基準値に近づけるようにしているらしいことである。したがって、この所定のデータ信号によって、基準値から変動しており、さらに、電圧調整ユニットによって変更されているため不正確な輝度となっているため、基準値に「近い」というだけの輝度が発生されるだけとなる。したがって、キムラらの特許は、基準値や他のいずれかの目標輝度に実際にマッチするとは思われない。
【0014】
一般的にまた概念的には米国特許第6,518,962B2号に類似しているLisuwandiらの論文では、フィードバック設定時間が長すぎ(150msを超える)、そのため、実用的とは言えいない。これは、特に、通常のコンピュータ画面の場合にフレームごとに変化する動的なコンテンツを持つ表示装置や、テレビや、同じような応用物の場合にそうである。
【0015】
画素の輝度を制御しようとする従来のシステムと方法では、瞬間的な光や輝度のレベルを測定しようとするが、そのレベルが小さすぎ、また、雑音が大きすぎるため、正確で精密な制御が不可能であった。したがって、効果的ではなく、また、その制限事項も、OLED表示装置のサイズと期待性能が増すに連れてさらに厳しくなる。
【0016】
このような性能上の問題は、アモルファスシリコン(a-Si)を表示装置の電子システムに用いる場合にさらに厳しいものとなりやすい。アモルファスシリコンは、液晶表示装置の業界によって用いられる半導体であって、そのインフラには数十億ドルが投資されている。したがって、表示装置の大手メーカーにとっては、アモルファスシリコンを用いるのが望ましいこととなる。OLEDのアクティブマトリックス表示装置の初期の開発段階では、高速性と良好な安定性が買われてポリシリコンを採用していた。ポリシリコンのインフラにはほとんど投資されず、アモルファスシリコンとは対照的にコストが高い。
【0017】
思えば、集積回路で従来用いられるシリコンには3つの形態がある。モノリシック集積回路(IC)で用いられる結晶性シリコンがある。このタイプのシリコンは粒子の境界がないが、それは材料が固体の結晶であるからである。このタイプのシリコン(x-Si)は、電荷を蓄積するエリアが1つしかなく、そのエリアも、ゲート絶縁層とこの絶縁層と接しているシリコン表面との界面のところにある。この界面のエリアはゲート寸法の幅と長さのみである。
【0018】
ポリシリコン(p-Si)は、多少は緊密に相互接触しているシリコンの粗い粒子からなっている。電子が粒子間を移動し、したがって、電界効果トランジスタ(FET)のp-Siチャネル中を走行するためには、あるエネルギ量を追加しかねればならない。また、粒子同士間の界面は、x-Si材料中の絶縁層とシリコン結晶の間の界面とちょうど同じように、ストレイ電荷(正(ホール)と負(電子)のストレイ電荷の双方)を収集してしまいかねないが、そのエリアが非常に拡大している。p-Si中の粒子間面積は粒子サイズに逆比例する。したがって、粒子サイズが減少するほど、界面の面積が増し、ストレイ電荷が蓄積する確率も増す。
【0019】
アモルファスシリコン(a-Si)の場合、粒子の境界面積はp-Siの場合の何乗も大きい。捕獲された電荷は通常は、a-Siデバイスの電子移動度と閾値電圧を決める決定的な特性であり、したがって、粒子境界での電荷密度が幾分変わっても、電子移動度と閾値電圧が変動して、ポリシリコン(p-Si)や結晶性シリコン(x-Si)と比較して、アモルファスシリコン(a-Si)ではこれが非常に大きな影響を持つ。
【0020】
表示サイズが増すに連れて、ポリシリコンや結晶性シリコンではなくてアモルファスシリコンを用いることに対する要求が増している。しかし、電子とホールの移動度特性、ストレイ電荷の蓄積特性、閾値電圧特性などが相違しまた変動するため、どの時点においても、また、アモルファスシリコンの表示デバイスを用いる際に、大きい表示表面上で所望のそして均一な表示輝度特性を維持することがますます困難となっている。
【0021】
発光表示装置における不均一性という問題を克服するさまざまな試みがなされてきたが、そのなかには、一部は今も用いられている回路ベースのものもある。このような試みは完全には成功せず、現行の世代と次の世代の発光表示という応用分野、特にOLED表示という応用分野の必要性と応用要件を満足していない。
【0022】
1つのスキームでは、画像電圧を用いて、OLED内電流を制御する、したがって、OLEDの画素輝度を制御するのではなくて、いわゆる「電流ミラー」を画素として用いることによって光子の放射を制御しようとしている。画像電流を用いて、OLEDに電力を供給するパワーTFT内に輝度レベルの電流を流そうとしている。
【0023】
別のスキームでは、パワーTFTの閾値電圧を決定して次にTFT閾値電圧を画像データ電圧に加算して閾値電圧を埋め合わせ、これで、TFT閾値電圧の変動や変化の結果として、OLED画素輝度のために供給される電流が変動しないようにすることによって、TFTの閾値の変動を補償しようとしている。
【0024】
このような回路ベースのスキームは、製造が複雑でコストがかかり、また、画素輝度を均一に維持するという点では完全には満足すべきものではないが、それはOLEDの材料の劣化を補償することがなく、単にTFTの変動をある程度補償するだけであるからである。
【0025】
OLEDまたは他の発光画素を用いる一部のデバイスの場合、画素のオン時間の累積値が、携帯電話や個人向け携帯型情報通信機器(PDA)デバイスなどの表示装置を担持するデバイスの寿命と比較して比較的短いが、それは、表示装置が、通常は、アクティブなコールやユーザとの対話があるときにしかオンしないからであることが理解されるであろう。比較すると、フラットパネルテレビのOLED表示装置は、一日に5時間から10時間にわたってオンとなって動的に変化する画像を表示している。かなり低レベルではあるが満足すべき輝度均一性と色精度を持つ小型携帯電話表示装置と比較して、正確で連続的な色調の画像を表示しなければならないテレビの場合には、輝度と色の均一性に対する要求もまた大きい。
【0026】
3色サブ画素集合の赤色発光体、緑色発光体、青色発光体のそれぞれ異なった材料を用いているOLED表示装置は、それぞれ異なった速度でエージングすなわち劣化し、このため、ある動作期間が過ぎると、表示装置中のこれらの画素では(修正しないと)、色のオフセットやずれが目に付くようになるが、これは、画素輝度の値によって異なるためであることが技術上周知である。また、色や輝度の変化は画素(サブ画素)個々に固有であり、また、全体的すなわち普遍的な変化は特定の色に限られるため、チャネル駆動回路は一般に、累積効果が各画素で同一でない限り効果がないことが理解されるであろう。
【0027】
別のスキームでは、画素輝度の測定値を基準輝度と比較しそれに基づいて修正することによってかなりの均一性を達成しようとしているものもある。このタイプの1つのスキームは、セイコー・エプソン社に譲渡されているキムラの米国特許第6,518,962B2号と対比してすでに検討されている。この特許に記載されているこのスキームによれば、画素の明るさを測定して基準画素の明るさと比較して、差分信号または差分値を発生する。(ここで、「明るさ」という用語が一般的に用いられているが、明るさとは主観的な尺度であり、判断には見ている人の考慮が必要であるが、輝度は客観的な尺度である。)この差分信号または差分値を次に用いて、信号電圧を変更するが、この電圧が、画素に電流を供給するTFTを駆動して、がその明るさを調整し、これで、最終的なすなわち「固定した」明るさ(実際には輝度)が基準値に「近く」なるようにしようとするものである。このスキームにはいくつか問題があり、均一性の問題を解決するものではない。このスキームには次の3つの主要な問題がある。(i)固定値に安定する以前に画素の明るさ(実際には輝度)が変動するすなわち「リンギングする」、(ii)低い信号対雑音レベルと雑音のため不正確である、(iii)画素の隔離が欠如している結果として解像度が不十分である。これらの問題は、キムラの画素構造の内の1を見直すとよりよく理解される。
【0028】
キムラら(米国特許第6518962号)は、本発明の第1の実施形態に従った、画素の回路図を含む、表示装置の全体的な配置を示すブロック図とされるものを示している(キムラの図19を参照)。このキムラの画素回路構造61を図1Aのように書き直してラベルを付け直し、これで、本発明の画素回路構造62の実施形態と適切に比較されるようになっている。ここで、キムラの光ダイオードD1は、その電圧供給用の電圧供給ラインに接続されている。この方式は、少なくとも画素輝度の安定性と再現性いう観点からすると問題があるが、それは、この電圧供給ライン上での電圧が正確であるかどうかは、その電圧用の電圧減に近いところにあるラインで用いられている電流によって異なるからであり、これはまた、このライン(列)に取り付けられている画素がすべて電流を引き込み、これでこのラインの電圧が低下するからである。この電圧降下は、どの画素がオンするか、また、画素が電流をどの程度引き込むかによって異なる。言い換えれば、キムラ画素のおのおのを駆動する電圧は、表示装置の他の画素での表示目的で提示されている画像データによって異なる。また、キムラ画素は薄膜ダイオードの分離性が欠如している。これは、列をなすすべてのセンサー光ダイオードが、同時にセンサー読み取りラインに電流を供給することを意味する。
【0029】
また、この光ダイオード構成とそれを含む画素構造とが問題であるが、それは、電流(または電荷または電圧)がどこから来るかに関して情報がないからである。キムラのオリジナルの図19を参照すると、センサー読み取りラインはすべてシフトレジスタに入っており、ラインはおのおのが、次のラインと(並列であるよりはむしろ)直列に読み取られるように思われることが示唆されている。各ラインに対する直列読取動作は、アドレス時間に実行しなければならないが、これは、読取速度が過度に早く、正確な測定をするために許される時間が非常に短いことを意味する。このような短時間測定は不正確で雑音の影響を受けやすく、信号対雑音比に対する貢献も一般に低い。
【0030】
他の従来の方式もまた、従来の制限を克服できない。特定の輝度レベルがセンサー中に光電流を発生させるが、この光電流のサイズすなわち大きさが、輝度(センサー中の光子)を示している(場合によっては比例または正比例している)。電流またはこの電流によって抵抗性素子(抵抗体など)の両端に発生した電圧を測定して、輝度を特定する。
【0031】
第一に、画素の輝度は、安定して安定輝度点に達する以前に基準値のあたりである時間にわたって「リンギングする」すなわち発振する。この安定には時間がかかるが、この時間は、たいていの表示応用分野(640x480画素からなるアレイを有するOLED表示装置など)の場合には表示フレーム時間(tf)を表示ライン数(NL)で除算した短いアドレス時間(tA)で許容される時間より長い時間であることが重要である。比較的小型の160x120画素の表示装置、たとえば、携帯コンピュータや情報機器で用いられるようなものの場合、アドレス時間は約0.13秒であり、ラップトップ型コンピュータなどの比較的大型の800x600画素の表示装置の場合、アドレス時間は約0.027秒である。比較すると、このようなフィードバックシステムを安定するための時間(tS)は、MITのEko T.Lisuwandiによって、100msを超えると計算されている(2002年5月10日に提出された、マサチューセッツ工科大学で電子工学・コンピュータ科学の工学修士課程の必要条件を部分的に満足させるために電気工学・コンピュータ科学学部に提出されたEko T.Lisuwandiによる「有機LEDアクティブマトリックス表示ドライバのためのフィードバック回路」を参照)。したがって、この設定時間は、実際のアクティブマトリックスタイプの表示装置にといっては容認できないほど長い。本書で記載する問題と制限事項は、パラメータや値を測定し、感知し、または読み取って、読取値を制御手段にフィードバックして、この手段が読取パラメータ(またはそれから誘導されたパラメータ)を変更して、この変更されたパラメータを操作目的で応用または別様に用いる従来の閉ループ式フィードバックシステムでは一般的である。この特定的な表示装置という文脈では、変化する表示内容を表示するいかなる表示装置の場合でも、ちらつきを防止するためには、フレーム速度は30フレーム/秒を超えなければならない。動画を表示するたいていの表示装置の場合、フレーム速度は60フレーム/秒(fps)である。フレーム持続時間(fpsの逆数)は約20ms未満であり、キムラが記載しているような閉ループ式フィードバック制御スキームを、テレビやコンピュータの表示装置では通常のビデオ速度である約6fpsから8fpsよりや速い速度で変化する表示内容で動作する表示装置の場合には実現することは不可能である。
【0032】
このスキームの第二の問題は、このスキームが、表示エリア(ガラスの外部)の物理的に外に置かれている電流測定回路による光センサーからの読み取りに依存していることである。この電流測定回路は、従来は、表示エリアの物理的に外に置く必要があったが、それは、高速化輝度を直接に表示ガラス上に組み込むと、歩留まりが悪化して犠牲が大きく現時点では実用に経費がかかるためであり、そのため、それをどこに置くかは単に設計上の選択であった。このような従来型のデバイスでは、センサーとして逆バイアスのPINダイオードを用いていた。センサーのインピーダンス値が高い(一般的には、約1000メガオームと1メガオームの間)ため、センサーに取り付けられているワイヤや導線が拾って次にガラス外の測定装置が拾う雑音は、画素の輝度の正確な読み取り値を深刻なほどあいまいにしてしまう。たとえば、感知された信号は数ミリボルト(mv)範囲の信号電圧であり、この信号に乗っている雑音は、測定装置に到達した時点では、一般的には約数ミリボルトと約数ボルトの間である。8ビット階調レベルの表示装置の画素の要求均一性は0.4パーセントであるため、それを超える雑音が少しでもあれば、この必要とされる均一性が妨げられる。信号電圧は数ミリボルトであるため、数ミリボルトから数ボルトという雑音レベルでは、幾分かでも正確に測定するために必要とされる信号対雑音比(1対1より悪くなりかねない)をはるかに超える。第三に、このスキームは、一般的に、また、米国特許第6,518,962B2号(キムラ)に記載されている特定の方式は、行ごとにセンサーを分離することに関して記述がなく考慮もなく、また、表示アレイの列のセンサー読み取り値はすべて、1つの電流に合成され、これがガラス外部の測定回路に伝えられるため、センサーの読み取りが分離されていない。ある列の画素はすべて、アクティブマトリックス表示装置中ではオンであり(行が一時に1つしかオンしないパッシブマトリックス表示装置とは逆)、したがって、センサーラインは表示装置中を垂直に走行しているため、ある列のセンサーはすべてこの列に対するセンサーラインに接続されており、各画素のセンサーはセンサーライン上の電流の総量に寄与するため、どの1つの画素による電流であるか特定することは不可能である。
【0033】
したがって、従来の閉ループ式制御、雑音干渉、センサー隔離を含む先行技術の上記の問題と制限を解決するシステム、デバイス、方法ならびにコンピュータプログラムおよびコンピュータプログラムプロダクトに対する必要性が残る。
【特許文献1】米国特許第6,542,138B1号
【特許文献2】米国特許第6,489,631B2号
【非特許文献1】Eko T. Lisuwandiによる「有機LEDアクティブマトリックス表示ドライバのためのフィードバック回路」(2002年5月10日、MIT、電子工学・コンピュータ科学部)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0034】
表示装置の動作寿命の初期からその全体の期間にわたって表示装置の表面上に均一な画素と、表示輝度発光レベル(ときとして明るさと呼ばれる)と、色を提供し、また、このような表示装置の動作寿命を拡張するためのフラットパネル表示装置を製造し、校正し、操作するシステム、デバイスおよび方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0035】
表示デバイス中で均一な画素輝度を維持する安定フィードバック表示システムと方法。このシステムは、おのおのが少なくとも1つの電気回路デバイスから形成される複数の発光画素を有する表示デバイスと、外部画像ソースから生の入力画像信号を受信して、修正された画像信号を表示装置に入力する表示ドライバ回路と、少なくとも1つの表示デバイス輝度値を発生する表示輝度検出器と、少なくとも1つの表示デバイス輝度値を受信して、情報を表示ドライバ回路に通信する処理ロジックユニットとを含み、この表示ドライバ回路は、この通信される情報を用いて、生の入力画像信号から修正済みの画像信号を発生するための変換を発生する。
【0036】
表示装置中の画素の輝度を制御するシステムと方法。この方法は、デジタル画像階調レベル値と、デジタル階調レベル値に対応する画素の輝度を発生する表示駆動信号の間の変換を格納するステップと、特定の画素に対する目標階調レベルを特定するステップと、特定された目標階調レベルに対応する表示駆動信号を格納済みの変換に基づいて発生して、第1の表示フレーム中に駆動信号によって特定の画素を駆動するステップと、第1の時点の後の第2の時点において特定の画素の輝度の実際の測定値を表すパラメータを測定するステップと、特定された目標輝度と実際の測定された輝度との間の差を決定するステップと、特定の画素の格納済み変換を決定された差に基づいて修正するステップと、修正された変換を記憶し、これを用いて、第1のフレーム時間に続くフレーム時間中に特定の画素に対する表示駆動信号を発生するステップとを含む。表示デバイス中の画素すなわち画素の輝度を制御する制御システムと制御回路。
【0037】
アクティブマトリックス式発光画素表示デバイスを操作するシステム、デバイスおよび方法。この方法は、画素およびメモリ中の画素で表示される階調レベルに対する校正値を記憶するステップと、階調レベル値の第1の表現を第2の表現に変換する変換をメモリに記憶するステップと、画像画素の階調レベル値の第1の階調レベル表現を受信するステップと、画素ごとに第1の表現を第2の表現に変換するステップと、現在の表示フレーム時間中に画素に対する累積された光子束信号を発生するステップと、画素ごとに複数の累積光子束信号を校正値と比較して、その差を示す複数の比較結果を発生するステップと、各画素の偏差を特定して、格納済みの変換の変更を後の時間で適応するように指示するステップを含む。このシステムは、階調レベルロジックと校正メモリと、コンパレータと、画素偏差ロジックを提供する。
【0038】
累積された輝度のセンサーを有する発光画素デバイスと、累積された輝度または光子束のセンサーを有する発光画素デバイスを操作する方法。このデバイスは、光もしくは光子を放射するデバイスと、この発光デバイスを画像電圧に対応する所定の輝度にまで駆動する電流を発生して、前記駆動電流をフレーム時間中に前記発光デバイスに入力する駆動回路と、前記発光デバイスの近傍に配置された入力光子の変化に応答して電気的特性の変化を示して、前記発光デバイスが発光状態にあるときに測定可能な光子をとらえる光センサーと、前記センサーと結合して、電荷を蓄積もしくは減少して、容量電荷およびこの電荷に比例する電圧を一時に示す電荷蓄積デバイスと、フレーム時間の少なくとも一部においてセンサーの電気的特性の変化に応答して前記電荷蓄積デバイスの充電および放電を制御する制御回路を含む。
【0039】
画素を操作するための自己校正形発光画素の回路、デバイスおよび方法。この操作方法は、センサーキャパシタを所定の開始電圧に設定するステップと、電流を光子放射デバイスに送出して、光子を所定の目標光子放射レベルで放射させて、センサー上の光子束にしたがって変動する電気的特性を有するセンサーを表示フレーム時間の少なくとも1部分の間に放射済みの光子に露出するステップと、センサーキャパシタに、センサーを介して所定の開始状態から充電もしくは放電させて、フレーム時間の1部およびフレーム時間の1部中でのセンサーの抵抗値によってセンサーキャパシタ上の電荷の量が決定されるようにするステップと、フレーム時間の1部の終了時におけるセンサーキャパシタ上の残留している電圧もしくは電荷を累積光子束と画素輝度の示度として測定するステップと、測定された電圧をフィードバックパラメータとして用いて、いずれかの後続の表示フレーム時間中に画素に印加される画像電圧および/または電流を修正するステップを含む。
【0040】
情報機器と連結している表示装置を操作する情報機器デバイスと方法。この情報機器は、各画素が光子放射体を含む2次元アレイとして配置された複数のアクティブマトリックス画素を備える表示デバイス、各画素に対する入力画像信号を受信して、フレーム時間中に対応する目標画素輝度を発生する意図を持つ画素駆動信号を発生する放射体駆動回路、ならびに、測定値表示フレーム時間の1部で各画素の実際の輝度を示す電気的パラメータを測定する放射体輝度センサーおよび測定回路と、表示装置と結合している表示ロジックであって、画素輝度関連の電気的パラメータを画素ごとに受信して、後続の時間期間において、画素ごとに入力画像データに対して適用すべき修正値を目標画素輝度と画素輝度測定値の差に基づいて発生する表示ロジックを含む。前記光子放射体は、OLEDや、エレクトロルミネセントデバイスや、プラズマや、フラットパネル表示装置中の他の発光デバイスである。表示装置と結合している表示ロジック情報機器は、テレビモニター、テレビ受信装置、CDプレーヤー、DVDプレーヤー、コンピュータのモニタ、コンピュータシステム、自動車計器パネル、航空機計器表示パネル、ビデオゲーム、携帯電話、個人向け携帯型情報通信機器(PDA)、電話、図形システム、印刷システム、スコアボードシステム、エンターテインメントシステム、電化製品、コピー機、GPSナビゲーション表示装置、動的アート表示デバイスおよび/またはこれらのデバイスやシステムを組み合わせたデバイスである。
【発明を実施するための最良の形態】
【0041】
本発明は、表示表面上に初期からその動作寿命全般にわたって均一な輝度の発光レベルと色を提供し、また、動作寿命を延長する、フラットパネル表示装置を製造し、校正し、操作するためのシステム、デバイスおよび方法に関する。
【0042】
Damoder ReddyとW. Edward Naughter, JR.を発明者とし、「画素の発光を制御する方法と装置」という名称の、2004年5月6日提出の米国特許出願第10/872,268号(弁護士事件整理番号第34133/US/2[474125-8])(その出願全体を参照により組み込む)には、有機発光ダイオード(OLED)もしくは他の発光画素の画像品質を改善し、表示装置の寿命を増大させ、製造コストを軽減するためのセンサーアレイの価値が記載され教示されている。この特許出願に記載されている技術革新は、光抵抗体および/または光ダイオードおよび光トランジスタを利用して発光測定値を発生して、電圧信号または電流信号を、表示基板から離れているデータ処理回路に送出するというものである。
【0043】
そこに記載されている回路の1つであり、図2に示され、SteadylightTM校正・安定回路40(SteadylightはNuelight社の商標である)と呼ばれる回路において、電圧ランプ55が、薄膜トランジスタTFT(T1)41のソース上に存在する。電圧コンパレータ(VC1)43の出力ピン(P3)42の電圧は高く、そのため、TFT(T1)41は電圧ランプ55をTFT(T2)46と蓄積キャパシタ(C1)47に伝える。これによって、OLEDのダイオード(D1)48は、強度が増加していく光を放射し、このため、光センサー(S1)50の抵抗値49が徐々に減少する。光センサー(S1)50の抵抗値が減少するにつれて、グランド抵抗体(R1)51の両端の電圧が徐々に減少して、電圧コンパレータ(VC1)43のピン(P1)44の電圧を上昇させる。アドレスサイクルの開始時点には、電圧コンパレータVC1のピン(P2)47は基準電圧46となっている。この基準電圧は、OLEDのダイオード(D1)48からの所望の発光値を表している。ピン(P2)47の電圧がピンP2の基準電圧と同じになると、ピン(P3)42の出力電圧は正の「オン」電圧から負の「オフ」電圧に切り替わり、TFT(T1)41がオフして、TFT(T2)46のゲートに対する電圧を一定にし、また、OLEDのダイオード(D1)48からの発光を所望の発光レベルで一定にする。1つの難点は、光センサー(S1)50の抵抗値がギガオームの範囲にあり、このため、グランド抵抗体(R1)51の両端の電圧が回路近傍のなんらかの電圧雑音のため変動しかねないことである。電圧雑音の最大の発生源の1つは、光センサーS1からのデータを処理するために用いられるデジタル処理回路である。この理由は、かなりの電圧を発生するために必要とされる電流が、高インピーダンス回路では典型的には非常に小さいことである。したがって、このインピーダンスは、好ましくは、雑音のない測定が可能となる前に画素の位置に限定されるべきである。
【0044】
ここで説明する本発明は、一般的に、従来のアクティブマトリックス表示装置、より詳しくは、いずれかの発光性表示タイプ(たとえば、エレクトロルミネセントデバイス、プラズマ発光デバイスなどのいずれかの制御可能発光デバイスを含む)、特に有機発光ダイオード(OLED)表示装置、にまつわる制限事項を克服するデバイス、システム、方法および他の手段を提供する。このため、このデバイス、システム、方法および他の手段では、画素の光子の放射や輝度(規定された期間にわたって積分された光子束)を測定し追跡し、また、いずれの劣化メカニズム(それが、アモルファスシリコンの場合のようにゲート閾値のドリフトによる画素ドライバ回路の劣化であろうと、OLED材料自身の劣化であろうと)も補償されることを確実にする情報を用いる手段を提供する。
【0045】
また、ここでの記載に照らして理解されるように、発光デバイスが有機発光ダイオード(OLED)であるときでさえ、有機発光ダイオードには、これらに限られないが、小分子OLED、ポリマーOLED(PLED)、燐光性OLED(PHOLED)および/または1以上の層の有機材料と電極の任意の組み合わせを含む複数のタイプがある。
【0046】
本発明の長所として、本発明は、ある時間(フレームの持続時間)にわたって輝度または光子束を測定し、また、この情報を記憶して、後で表示装置がそれを用いて均一性、色バランスを維持し、また、寿命を拡張するようにするシステムと方法を提供する。光子束累積装置(すなわち光子束インテグレータ)(特定の回路構成中のキャパシタC2と結合されているセンサーS1)を用いて、瞬間的な電流と電圧駆動システムに対する瞬間的なフィードバックで動作するフィードバックシステムで見受けられる雑音を減少させる。
【0047】
本発明の長所として、本発明は、画素中のOLED材料から放射される光(実際には放射された光子束)によって発生される瞬間的な光電流はあまりに少なすぎて、画素に印加される電圧制御に利用することは不可能であることを認識しており、したがって、われわれは、画素内光子束累積回路を工夫し、これで、画素から放射される瞬間的な光子束を測定しようとするのではなく、本発明は表示フレームの時間長にわたってこの束を累積するデバイスを提供する。これによって、光子束のランダムな瞬間的雑音変動がフレーム時間とともに消滅する。本発明はまた、この画素デバイス構造を利用するシステムと表示パネルを提供し、また、この表示装置を校正、制御、操作する方法を提供する。したがって、本発明は、低レベルで、雑音が大きく、変動する瞬間的な光または輝度の測定値を用いて画素輝度を制御しようとした従来のシステムや方法に付きまとう問題を克服する。また、累積された光子束の測定値は本質的に画素内のものであることによって、画素デバイスの材料および電気的特性、動作環境ならびに動作履歴が補償されることになる。
【0048】
本発明の少なくとも1つの実施形態では、輝度があるレベルになると、センサー中に光電流が発生し、この光電流のサイズすなわち大きさが、輝度(センサー内の光子束)の表示となる。本発明の少なくとも1つの実施形態では、この光電流が輝度に対して(直線的もしくはほぼ直線的に)比例し、また、本発明の少なくとも1つの実施形態では、この光電流が輝度に対して正比例し、もしくは許容可能な非線形誤差範囲内で線形に比例する。1つの実施形態では、電流または電流によって抵抗性素子(抵抗体など)の両端に発生した電圧を測定して、輝度を特定する。別の実施形態では、キャパシタなどの電荷蓄積デバイス上に蓄積された電圧を測定して、輝度を特定する。
【0049】
本発明の複数の実施形態は、表示装置の寿命にわたって、絶対的な光子束基準レベルの1つの階調レベルの中に画素の光子束を維持し、画素の間の光子束の均一性を同じ精度に維持できる(ビットレベルが上がれば精度がさらに高くなるが、これは経費の問題である)。また、本発明のこれらのシステム、デバイス、方法は、すべての画素の素子の光子束の累積レベル(したがって、画素の色と表示色バランスも)を調整して、従来のシステムや方法の場合より比較的長い期間にわたって、OLED表示装置の周知の劣化特性を克服して表示装置の寿命を延長できる。
【0050】
表示装置の寿命の定義に関連する1つの慣例は、輝度が、輝度が最大値である初期時(t0)から輝度が初期値の半分に落ちる時点である半寿命(tX)までの時間を用いることである。したがって、表示装置の寿命が10,000時間(時間tX)であれば、従来は、この時間が経過すると、この表示装置は、最初(時間t0)の値の半分に輝度が落ちる(すなわち半分の輝度を持つ)ことを意味する。
【0051】
また、本発明のこれらのシステム、デバイス、方法は、最大輝度の半分になる時間を延長することによって(半輝度になる劣化に対する補償によって)表示装置や表示システムの実用的な寿命を実際に延長できる。たとえば、本発明のこれらのシステム、デバイス、方法は、半寿命になる期間を2倍、3倍、4倍またはこれ以上(2tX、3tX、4tXまたはこれ以上)拡大する。1つの実施形態では、これは、経時劣化を制御できるように表示装置をプログラムすることによって遂行される。思い起こされるように、本発明のこれらのシステム、デバイス、方法は、輝度の劣化を実際に100%補償することが可能である(これ以下の劣化はもちろん)が、ゆっくりと劣化させることができれば表示装置もより長持ちする。100%補償するためには、追加の電圧を利用して、OLED電流駆動TFTのゲートに印加することが可能である必要がある。この利用可能電圧によってまさに、どれくらい長期にわたって劣化を完全に補償可能であるかが決定される。しかし、エージングを部分的に補償されれば、表示装置は結局は半輝度となるけれども、その時間は、補償されない表示装置より長い。
【0052】
本書で用いる均一性という用語は、通常もしくは平均的な人が、通常では、異常な画素輝度(この場合、一部の従来型システムでは特定を表すのに輝度またはより緩和して「明るさ」を用いている)、または、表示装置中の他の画素に対する累積された光子束(明細書に記載する本発明の実施形態により輝度を特徴づける1つの方法として)の差または色差を目で見て検出できないことを意味する。以下に記載する本発明の文脈では、本発明の実施形態は、どの画素も基準値から見て1階調レベルの1/2を超えないように校正を維持できる。1つの実施形態では、色データごとに8ビット/画素(256個の階調レベル)を有しており、これで、均一性を、1階調レベル±0.4%以上に維持している。これは、表示装置の校正の画素量子化レベルであり、基準輝度または累積光子束とは異なる輝度や累積光子束を有していると画素が判定されると、本システムと方法はこの画素を基準値に最も近い階調レベルまたは累積光子束になるように駆動する。本発明の他の実施形態では、より細かい校正レベルで量子化するが、通常は人間の視覚では、ビデオ表示装置では1階調レベルの1/2の差の変動さえ検出されない。
【0053】
「明るさ」は主観的な用語であることを思い起こすべきである。輝度は客観的な用語であって、これは物理的な意味と実際の物理的単位を有している。今日最も一般的な実際の物理的単位は、cd/m2(平方メートル当たりのカンデラ値)という単位(いわゆる“nit”)である。本発明のこれらのシステム、デバイス、方法では、センサーは、光子を途中で遮って、これを電荷の担体(ホールや電子)にして、自身の材料をより良好な導体にして抵抗を下げることによって動作する。本発明のある実施形態では、センサーのより低い抵抗がキャパシタ(C2)上の電荷を排出する。排出される電荷の量は、フレーム時間にセンサーに衝突する光子の数に正比例する。すなわち、光子はフレーム時間中にカウント(累積)される。この累積された光子カウント値は定量化可能である。
【0054】
数値で示す例を、、本発明のこれらのデバイスやシステムの実施形態の動作を、厳密な理論なしに例を用いてここで説明する。センサーのキャパシタ(C2)の容量はピコファラッド(pf)、すなわち1x10-12ファラッドの範囲である。このキャパシタの容量が1x10-12ファラッドであり、キャパシタC2がフレームの開始時に10ボルトという初期電圧からフレーム終了時の終了電圧すなわち4ボルトにまで放電するとすると、6x10-12クーロンの電荷がセンサーからグランドに通過したことになる。(実際には、開始電圧と終了電圧はどの値に選んでもよいが、一般的には1ボルトから10ボルト範囲の電圧値である。)これに対応する電荷は6x10-12クーロンである。これは約37,745,000個の電子に等しい。電子を伝導帯にまで上げるのにたった0.25エレクトロンボルトしか要しないため、また、光子1個は約2から3エレクトロンボルトのエネルギ(たとえば、光子の波長やエネルギによって異なる)を有するため、赤色光子は約8個の電子を伝導帯に入れる能力、また、青色光子は約12個の電子を伝導帯に入れる能力があると計算できる。これは以下のことを意味する。37,745,000個の電子ということは、約4,681,000個の赤色光子が16.7msというフレーム時間中にセンサーに衝突し、また、約3、121,000個の青色光子が同じフレーム時間中にセンサーに衝突する。これらの値と数は原理が理解されるように例として与えられたものであり、厳密な計算によって決定された正確な値として与えられたものではない。電子を実際に伝導帯に上げるには多くの要因に依存する。最も重要な要因として、量子効率があるが、これは、半導体材料を加熱することに変換された光子得ベルの量に対する電子を伝導帯に上げる光子エネルギ量のことである。
【0055】
したがって、本発明はキャパシタや、センサーや、フレーム持続累積時間に対する光子束累積装置として動作することが理解できる。光子束は単位面積(センサーの面積)を通過する光子の束であり、光子の合計カウント値は、センサー面積全体にわたって、また、フレーム全体または他の適切な部分的フレームもしくは他の累積時間にわたって累積された光子束のことである。また、本発明は、分離作用をも提供し、これにより、1つの画素から得られたパラメータの測定値が別の画素のパラメータの測定値に影響しないようにする。
【0056】
本発明は、互いに別個に用いられ、または、最適な効果を求めて組み合わせて用いてより大きい相乗効果を提供するように用いられる複数の態様を備える。その一部を以下に挙げるが、他のものは、本発明の実施形態の説明と図面から明らかであろう。
【0057】
1つの態様では、本発明は、高性能で安定化されたアクティブマトリックス発光表示のためのフィードバック制御のシステムと方法を提供する。別の態様では、本発明は、フィードバックで安定されたフラットパネル表示のためのアクティブマトリックス表示装置と画素アーキテクチャを提供する。別の態様では、本発明は、アクティブマトリックス表示装置と画素の校正方法を提供する。これら3つの態様は、本発明の画素とセンサーのアーキテクチャと回路を有する表示パネルを、オフディスプレイの集積回路(IC)などのオフディスプレイガラス(または他のディスプレイ基板)回路で動作して、均一で安定した表示システムを提供するように組み合わせると特に効果的である。
【0058】
さらに別の態様では、本発明は、フィードバックで安定されたアクティブマトリックス発光フラットパネル表示のための高インピーダンス/低インピーダンス変換システムを提供する。
【0059】
さらに別の態様では、本発明は、アクティブマトリックス表示画素とセンサーのための高インピーダンス/低インピーダンス変換システムを提供する。
【0060】
別の態様では、本発明は、高安定性累積光センサーを製造するためのフィードバック制御システムおよび方法で用いられる高安定性累積光センサーのための構造と設計方法を提供する。
【0061】
さらに別の態様では、本発明は、長寿命、高安定性のフィードバックで安定化されるアモルファスシリコン光導体ベースのOLED表示装置を提供する。
【0062】
さらに別の態様では、本発明は、有形の媒体もしくはメモリデバイスとして実現可能な、または、汎用もしくは特殊な目的のコンピュータのプロセッサおよびプロセッサと結合されたメモリを含むコンピュータまたは他のプロセッサもしくはハードウエア内で実行可能なまたはこれに記憶可能な、コンピュータプログラム、コンピュータプログラムプロダクト、データ構造ならびに他のコンピュータ構成およびマシンを提供する。
【0063】
本発明のこれらの態様および他の態様ならびに特徴は、ここに提供する説明と参照図面から明らかになるであろう。
【0064】
最初に、本発明の表示画素の実施形態と従来の画素構造を比較することに注目して、本発明の表示画素の複数の態様がその動作制御方法を説明する前に理解されるようにする。次に、本発明の表示装置と画素の構造とアーキテクチャ、さらに、他の表示装置と画素の構造のために用いられる閉ループフィードバック制御システムの態様に注目する。次に、それぞれが発光体とセンサーを有するいくつかの例示の画素構造を説明するが、これらは、本発明の制御システムで利用されるものである。次に、基準となる累積光子束レベルを設定するためにセンサーを校正する方法と、適切な容量と明抵抗と暗抵抗を用いて、本発明の校正と動作の手順と方法に対する所望の操作とサポートを提供できるセンサーを設計するためのある種の設計方法論とを説明する。次に、安定で均一な動作が維持されるような、校正される表示装置と電子システムの動作を説明する。
【0065】
画素がオン状態である割合で光子を放射していて、どの時点においても瞬間的な輝度が存在する場合を想定する。先行技術では、測定されたと述べられている「明るさ」は、瞬間的な明るさであった。背景技術の項目で示唆したように、従来のシステムと方法に伴う1つの問題は、画素中のセンサーでとらえられる光子パワーの分量が少なすぎて、ランダムおよび/または非ランダムな雑音発生源のため瞬間的な信号が圧倒されてしまうことであった。これは、画素の読取時間が小さい場合に特に問題であり、このような問題は、1つの画素からの読取信号が他の画素の読取信号と区別できない場合には悪化する。ここで、パワーとはエネルギの時間比のことであり、パワーは、本発明と比較して先行技術では問題となる。光子束と輝度は、これらがパワーの用語であるという点で多かれ少なかれ交換可能である。
【0066】
さらに図1Aを参照すると、思い起こされるように、キムラらの画素構造では、光ダイオードD1が電圧源ラインに接続されて電圧を得ており、この方式が問題となるので、この電圧源ライン上の正確な電圧は、同じ列のラインに取り付けられている他のすべての画素が引き込む電流によって異なる。電圧降下が発生するが、これは、表示列の他の画素のオン/オフ状態と階調レベル値とに依存する。また、思い起こされるように、キムラの画素は、さまざまな画素に対する光ダイオードTFTの分離が欠けている。これは、列中のすべてのセンサー光ダイオードがセンサーの読出ラインに電流を同時に送出しており、したがって、個々の画素センサーの値を測定することは不可能であることを意味する。最後に、思い起こされるように、キムラの画素と表示装置の構成では、電流測定のための時間が非常に短く(電流測定は本質的に瞬間的なものである)、また、瞬間的な測定値は、低パワー、低信号強度、高雑音レベルのため不正確である。
【0067】
比較すると、図1Bの本発明の画素の実施形態は、少なくともこれらの問題を克服している。本発明のデバイス、システム、方法は、発光ダイオードに対する電圧送出に伴う問題、センサー分離の問題、雑音と低アワーの問題を解決するものである。この画素と他の画素の構造と動作は本明細書の他の部分で詳述されている。
【0068】
光子束累積装置は、キャパシタ中のセンサーに対してOLEDから送出されたエネルギ(パワーの積分である)を蓄積するよう動作する。この意味するところは、弱い光子束を表示装置のフレーム時間の1持続時間にわたって累積することである。たとえば、光子エネルギを16.7ミリ秒(16.7ms)すなわち16700マイクロ秒(16700μs)にわたって累積する。従来のデバイスやシステムでは、このエネルギは行アドレス時間の1部分にわたって測定するが、これは一般的には約5マイクロ秒(5μs)である。これは、本発明のデバイス、システム、方法では、信号のパワーが、約3,333倍という利得因子で16.7ms/5μs倍になることを意味する。これは、利得が約35dbであることを表している。
【0069】
さらに、信号対雑音比は35dbという利得だけ大いに増大する一方、ランダム雑音は効果的に消去される。それは、平均して、この長い累積時間中、一般的に、同じ大きさの負の雑音影響度と実質的に同じほどの正の雑音影響度が存在するからである。時間経過にしたがって信号を積分することによって、雑音が消去される。瞬間的な輝度を正確に測定する必要があり従ってそのようにしようとする従来のシステムや方法と比べて、かなりの利点がある。従来のシステムや方法では正確な測定値を得ることには成功していないが、それは、検出すべき信号が常に正であったり負であったりするため、ランダム雑音とこのランダム雑音の大きさが、測定すべき信号の大きさに少なくとも匹敵するからである。加えて、画素中で用いられている光センサーが少なくともギガオーム(109)台のインピーダンスを持つと、電圧雑音がボルトレベルになりかねず、これは信号の千倍である。
【0070】
詳細な説明の他の箇所で説明されるように、本発明のデバイス、システム、方法と従来のスキームとのさらなる相違は、本発明では、画素の輝度をその画素書込時間すなわちサイクルでは制御しようとしないことである。事実、本発明の複数の実施形態では、1つの表示フレーム時間(またはその1部分)中の画素の輝度を示すものとして決定された累積光子束を用いて、後続の表示画素フレーム時間(またはその一部)の間に累積光子束を(ひいては画素輝度も)制御する。1つの実施形態では、この後続の表示時間は次のフレーム時間またはその一部であり、一方、他の実施形態では、その画素のフレーム時間の整数倍の時間や、表示装置のパワーオンなどの事象によって引き起こされる後続時間などのいずれかの未来の時間である。したがって、この制御と調整はリアルタイムであって、表示装置のユーザにとっては、リアルタイムフィードバックベースの測定と制御とは区別できないけれども(たとえば、16.7msというフレーム時間などのフレーム時間だけ遅れる)、解釈によっては、それはリアルタイムではないとも考えられる。他方、1フレーム書込サイクルで測定して、次のフレーム書込サイクルで測定値を用いて画素駆動信号を発生するようにすると両者が十分時間的に近く、そのため、このような動作はリアルタイムまたはほぼリアルタイムであるという解釈も考えられる。累積光子束の測定と測定を考慮した画素駆動信号の調整との間に数分、数時間または数日もあれば、このようなデバイス、システム、方法はリアルタイムであると特徴付けされる可能性は低くなる。
【0071】
表示装置中で用いられるOLED画素(及び他のアクティブな光子または輝度放射体)は一般的には以前の動作特性とは数十時間から数百時間経過すると変化するため、いったんある画素を調整すると、画素の駆動特性をフレームごとに更新する必要はなくなることが理解されるであろう。したがって、フレームごとに測定と調整を実行する必要は通常はない。
【0072】
1.例示の制御システムと方法の説明
1例の表示システム200を図3のフィードバック制御システムの第1の実施形態中で示す。これは、2つの主要な構成部品を含むが、それは、複数の画素すなわち画素202および光子束累積装置回路203を有する表示デバイス201と、表示デバイス201を駆動して制御する表示ドライバおよび制御電子システム(オプションとして、ソフトウエアおよび/またはハードウエアを含む)204とである。この駆動・制御電子システムは、画像データ205を画素202に対する適切な画素駆動・制御信号206に変換し、これで、画像中のその見かけ上の階調レベルすなわち累積光子束(およびカラー表示の場合にはその色)が正確なものとなるようにする責任、すなわち、指示された累積光子束と色にマッチするようにする責任を負っている。OLED材料の基底セットが適切に選ばれた場合には、正しい色基底系(たとえば赤、緑、青)の累積光子束を維持すると、画素の色バランスも維持されることが理解されるであろう。また、表示デバイス201はセンサーを含んでおり、このセンサーはキャパシタと結合していて、おのおのの個別の画素と連結している新規な光子束累積装置(1つの実施形態ではセンサーS1がキャパシタ(C2)と結合している)を形成し、これで、積分時間TPF1に累積光子束に基づいて輝度の認知特性を測定するようになっている。センサー203は、センサー出力信号207(1つの実施形態では、複数のセンサーが複数のセンサー信号を発生する)を発生するが、この信号は、表示装置駆動・制御電子システム204に通信され、この表示装置駆動・制御電子システム204で用いられて、必要に応じて画素駆動・制御信号206を修正して、個々の画素光子束レベルを達成して維持し、また、表示装置中の複数の画素間で均一性という性能を達成するようにする。1つの実施形態では、各画素202と関連してその内部もしくはこれに隣接してセンサー203があり、これで、画素の累積光子束と均一性が、表示装置全体にわたってではなく画素ごとに達成されるようにしている。
【0073】
また、本発明のこれらのデバイス、システム、方法は、画素ごとに互いに別個に累積光子束が測定でき、このような測定は、画素の行や、画素の列や、他のいずれかの画素集合の測定に限られないという利点がある。本発明の実施形態はまた、センサーの出力信号を互いに別々に提供し、これで、光子束、累積光子束または輝度を示す電流、電圧または他の示度を共通のセンスライン上で連続して感知したり測定したりする必要がない。
【0074】
この画素ごとの方式は、すべての画素の動作履歴の差を説明するためにすべての画素の調整と修正が可能であり、これで、このような履歴上の動作に創意があるにもかかわらず、同じまたはなんらかの所望の累積光子束が達成可能であれば特に利点となる。OLED表示装置画素または累積光子束と他の動作パラメータがどの時点においても個々の画素レベルにおける過去の動作履歴に大いに依存している他のタイプの表示装置の場合、これによって、表示装置のエージング、表示装置と画素の「焼き付き」問題および他の動作関連もしくはエージング関連の問題が解決される。
【0075】
本発明の別の実施形態では、図3の特徴の少なくとも一部と追加の特徴が組み込まれている。この実施形態では、画像データ205はアナログ画像発生源208から受信されたりこれによって発生されたりする。この発生源はアナログ信号を出力するが、これは、たとえば、RGB複合信号、別々となっている成分である赤(R)、緑(G)および青(B)の信号、単色すなわち白/黒信号、または他のいずれかの発生源もしくはタイプの図形、テキスト、記号、画像、映像などのデータである。このデータは、動的データ(すなわち時間と共に変化する)や静的データであったりする。このような画像データの例には、テレビ(TV)のアナログもしくはデジタル信号、コンピュータの表示信号(ハーフVGA、VGA、スーパーVGA、いずれかのデジタル表示装置インタフェースおよび類似物)、携帯電話表示データ、腕時計、機器、自動車電子システム表示データ(たとえば、自動車計器、ナビゲーション、エンターテインメントなど)、航空機アビオニクスおよび機内エンターテインメント、固定式および携帯式のゲームデバイス、広告看板および他の大型表示装置ならびに他のいずれかのタイプの表示装置およびデータがある。
【0076】
画像データが連続的または1連のフレームやセグメントのアナログデータ(従来のテレビ信号など)である場合、データ信号205(図3を参照)はシリアル/パラレル(S/P)およびアナログ/デジタル(A/D)プロセッサ回路またはロジック209によって処理して、赤色(RD)、緑色(GD)および青色(BD)のデジタル信号を発生する。単色すなわち白/黒の信号はカラー表示装置の場合、隣り合ったR、GおよびBの発光体すなわち画素(ときとして、RGBサブ画素と呼ばれる)から同じ累積光子束を提供することによって達成されることが理解されるであろう。別の例では、単色表示装置しかない場合、3つ(RGB)の信号ではなく表示画像を表すたった1つの画素信号しか必要とされない。さらに、画像データがすでにパラレルおよび/またはデジタルの形態にある場合、シリアル/パラレル変換とアナログ/デジタル変換のどちらかまたは双方が消去される。説明しやすいように、この明細書の目的に沿って、表示装置はカラー表示装置であり、デジタル画像入力データ210と便利にも呼ばれる赤色信号210-1、緑色信号210-2および青色信号210-3を用いるものと仮定するが、また、本発明は、たった1つのデジタル入力データ信号しかない単色表示装置にも適用されることが明らかである。また、本明細書は、R、G、Bまたは単にRGB信号というより通常的な述語を用いて、一般的にはカラー表示装置または画像と関連する3つの信号またはデータ集合を記述する。このような信号またはデータがアナログであるかデジタルであるかは説明の文脈から明らかである。また、RGBという述語は、色を形成する色素、蛍光体、フィルタ、材料のなんらかの集合、または、真、偽または擬似のカラー表示を発生するために使用できる他の基底系(色基礎エレメントの数によらない)を表す。
【0077】
通常の表示動作は図4のブロック、すなわち、アナログ画像データ208、画像A/Dコンバータ209、階調レベルロジックZ103(本発明の入力を受け入れるように修正されている)、表示装置コントローラZ104、列ドライバ238、行選択回路240ならびにアクティブマトリックス発光性表示装置292、293および294で実行される。オプションとして、アナログ画像データブロック208と画像A/Dコンバータ209の代わりに、デジタル画像データブロック208aを用いることがある。どちらの場合も、デジタル画像データは階調レベルロジックブロックに供給される。
【0078】
図4の実施形態のブロックの各トップレベルの記述をし、請け合っている場合には追加の説明をする。表示装置コントローラZ104は、すべてのタイミング信号を制御し、画像電圧を表示電圧データに変換する。列ドライバ238は、表示電圧を行に対してダウンロードしまたは通信する。行選択ロジック240は、行を一時に一つの列ドライバからデータを受信することを可能とする。サンプル・ホールドブロックZ101は、行選択によってアドレス指定されると各行からのセンサーデータをサンプルして保持する。アナログ/デジタル(A/D)コンバータ270は、サンプル・ホールドブロックZ101のアナログデータをデジタルデータに変換する。マルチプレクサ(MUX)270aは、A/Dコンバータのパラレルデータをシリアルデータのストリームに変換する。校正メモリ250は、表示装置が最初に製造されたときに画素と階調レベルによってとられたオリジナルの感知データを記憶する。コンパレータ260は、画素発光データと校正データ間の比較(大きさや差の算術的な比較)を実行する。デジタルまたは画素偏差メモリZ102は、各画素と階調レベルに対して校正値からの偏差を記憶する。階調レベルロジックブロックZ103は、(i)階調レベルの戦略(単純な電圧、所望の輝度を達成するための空間的および/または一時的なディザなど)を決定し、(ii)表示ドライバコントローラに対して修正値をいつ送るべきか決定し、(iii)デジタル偏差メモリに記憶されているデータを用いて表示ドライバコントローラをどのように修正すべきであるか決定もしくは特定する。アナログ画像データブロック208は、データがアナログ形態で提供されると(時代遅れだが)、この形態の画像データを供給する。デジタル画像データ208aは、デジタル形態(今日ではますます普及している形態)の画像データを供給する。画像A/Dコンバータ209はアナログ画像データをデジタルデータに変換する。
【0079】
階調レベルロジックブロックZ103は、デジタル画像データを、この画像データに正確に対応する画像を再生成するためにアクティブマトリックス発光性表示装置によって使用可能な形態に変換する。本発明の階調レベルロジックブロックの特徴の一部を有する機能ブロックは技術上周知であるとはいえ、これらは、従来のシステムと方法で用いられてきたものとは少なくとも部分的には同じではない。それは、本発明の階調レベルロジックブロックZ103が、画素偏差メモリZ102(以下に詳述する)と構造的・方法論的手段から入力を受信して、画像A/Dコンバータ209からの出力と画素偏差メモリZ102からの出力の双方を用いて新規な入力を表示装置コントローラZ104に提供する入力部を含むからである。
【0080】
階調レベル画素ロジック機能ブロックZ103は、たとえば、なんらかの回路、ロジック、デジタル関数(オプションとしてソフトウエアおよび/またはファームウエアを含む)または他のいずれかのハードウエア、ソフトウエア、もしくは、入力された画像データによって決定されたデジタル階調レベルを、指定された画素が、画像が必要とする同じ諧調で輝度を発生するように計算された電圧に変換するハイブリッドハードウエア/ソフトウエア手段である。
【0081】
適切な階調レベルと色を持つ表示画像を発生可能なように画像データを再フォーマットする多くの方法があることが、本書に記載する内容に照らし合わせれば理解されるであろう。たとえば、階調レベルロジックブロックは、画像電圧データを1つの諧調レベルから別の階調レベルに輝度を正しく変更する表示電圧データに変換するガンマー関数を含む。階調レベルロジックブロックにオプションとして含まれる別の機能は、一時的なディザーを利用して、すなわち、各フレームを2以上のサブフレームに分割して階調レベルを表すシステムである。たった1つのサブフレーム(その他は常に暗状態にとどまる)を用いてx個の階調レベルで動作すると、オン状態にある2つのサブフレームを用いて階調レベルを2倍にできる。また、階調レベルロジックブロックは、階調レベルに対して空間的ディザーを用いるように配慮する。これは、各画素がサブ画素のアレイを有するが、このアレイは階調レベルしだいでオン/オフすることを意味する。この方式のある程度制限された形態はすでに色表示で、三原色を用いて可視スペクトルですべての色を再生する目的で用いられている。また、階調レベルロジックブロックは、一時的ディザーと空間的ディザーの組み合わせを用いて、諧調機能を遂行する。諧調ロジックブロックから発生するデータは、表示装置コントローラブロックに送られる。表示装置コントローラブロックは、文字通り表示装置を操作するものである。それは、表示電圧データの列ドライバに対する出力を制御するすべてのタイミング信号を提供し、また、正しい行が、列ドライバから表示装置にダウンロード中のあるラインのデータに対して選ばれるように行選択ドライバのためにタイミングを取る。諧調ロジックブロックZ103は何ボルトがダウンロードされるかを決定し、表示装置コントローラはいつこのボルトがダウンロードされるかを決定する。列ドライバは、第1の行のフレームに対するデジタル電圧レベルを受信して、このデジタルデータをアナログデータに変換し、このデータを、一方で、表示装置コントローラの指令下で行選択ドライバによって選ばれた第1の行の画素に対してダウンロードする。これはアクティブマトリックス表示装置であるため、データ電圧は蓄積キャパシタ上と電流制御TFTのゲートに記憶され、これで、画素中のOLEDをオンする。次に、表示装置コントローラは、次の行のデータを送り、表示装置の次の行を選択する。これを、フレームのすべての行が起動するまで行う。次に、第1の行に戻り、次のフレームがはじまり表示装置コントローラによってダウンロードされる。このような表示動作の態様が技術上周知であり、ここでは詳述しない。
【0082】
本発明の態様に別々にまた組み合わせられて関連する機能ブロックと構造としては、サンプル・ホールド回路Z101、A/Dコンバータ270、マルチプレクサ(MUX)270a、コンパレータ260、校正メモリ(CalMem)250および画素偏差メモリZ102がある。また、諧調ロジックブロックZ103は、従来の諧調ロジックの修正版であるが、それは、自身がコンパレータ260の結果に基づく画素偏差メモリの出力を受け入れて利用することを可能とする構造・方法部品を含むからである。本発明のこの実施形態では、2つのメモリブロック、すなわち校正メモリ250と画素偏差メモリZ102がある。他の実施形態では、メモリブロックの数が変化する。経費節減のため、メモリは少ないほどよい。しかし、本発明の2つのメモリブロックを参照すると、本発明の原理を理解しやすい。他の実施形態では、1つのメモリをためらいなく使用する。本発明では、光子束累積装置と呼ばれる光センサーシステムが画素に追加されている。列ドライバが送ったデータによって画素が起動されると、光がOLEDから光子束という形態で放射される。この光子束の一部は光子束累積装置中の感光性材料によって途中で遮ぎられ、電子に変換されて光子束累積装置中のキャパシタによって回収される。光電子のこの回収は、フレームの全持続時間にわたって(60Hzというフレーム速度でが、これは持続時間にすれば16.7ms)続く。次のフレーム上で、光子束累積装置キャパシタ上の電荷または電圧は、表示エリア外にあるサンプル・ホールド関数によって読み取られる。1つの実施形態では、キャパシタ上の電圧が読み取られ、別の実施形態ではキャパシタ上の電荷が読み取られる。キャパシタ上の電荷、電圧は、フレーム時間中、画素の輝度に比例する、また、一部の実施形態では正比例する。
【0083】
電圧や電荷を読み取る技術上周知の方法が多くあるが、図5と図6に2つの実施形態を示す。図7と図8を参照してこれらの回路とその変形を説明する。電圧や電荷(または電流)を読み取る回路と方法は技術上周知であり、また、本書に記載する回路と方法は、さまざまな画素発光体回路、画素センサー回路および/または画素光子束累積装置回路を含むさまざまな画素回路と構造に応用されることが理解されるであろう。
【0084】
図5の実施形態は電圧感知回路である。ラインL1は電圧をパワートランジスタT2とセンサーS1の双方に供給する。センサーS1の暗抵抗は非常に高く、画素がオフのときにセンサーキャパシタC2がS1から受ける電荷はほとんどない。OLEDまたは他の発光デバイスもしくはダイオードD1(OLEDなど)がオン状態にあり、光束がS1によって受け取られるフレーム時間中、S1の導電性はかなり増し、これで、電荷はセンサーキャパシタC2に流れ、そのため、グランドに対するC2の両端に電圧が発生する。(ここで、回路のこれ以外の文脈でのセンサーS1とセンサーキャパシタC2の組み合わせは、光子束累積装置デバイスとして動作する。)この電圧は、ダイオードD1が放射した光子束レベルに比例する。C2上の電圧を読み取るため、センサーTFTトランジスタT3はラインL2に電圧を印加してオンされる(これは、行がイネーブルされると発生する)。センサーキャパシタC2上の電圧は次に、演算増幅器(op amp)OA1または等価の増幅回路のプラス端子に印加される。演算増幅器OA1の負の端子はグランドG2などの基準ノードに結合される。この電圧は、オペアンプOA1の正の入力部に結合されているラインL4に対する(電圧感知アンプ中の)抵抗体R2の比率で増幅される。たとえば、ラインL4のライン抵抗値が3Kオームであり、抵抗体R2の抵抗値が3メガオームであると、キャパシタC2上の電圧は30dB(1000倍)増幅されるが、この電圧はノードP4に出力される。増幅された電圧はサンプル・ホールド回路に送られてさらに処理される。
【0085】
図6に別の実施形態を示す。この実施形態では、たとえば10ボルトという電圧が電荷増幅器CA1のプラス端子に印加されると、ラインL4もまた迅速に10ボルトまで急上昇する。抵抗体R1は電荷アンプの負の入力端子とノードP3のその出力部との間に結合されており、キャパシタC3は抵抗体R3と並列に接続されている。ノードP3に出力される電圧は、電荷アンプCA1の特性とラインL4上のなんらかの漏れ電流によって決まるオフセット電流である。この漏れ電流は一般的には、複数行式表示装置では、各行がラインL4に取り付けられたトランジスタT3を有し、イネーブルされた行以外のすべての行のT3はオフ状態にあるとはいえ、トランジスタT3それぞれと関連するオフ状態の漏れ電流が存在するという事実から発生するものである。キャパシタC2は、トランジスタT3がオンすると電流アンプCA1のプラス端子の電圧まで充電される。キャパシタC2に流れ込む電荷の分だけキャパシタC3の両端の電荷が減り、ノードP3の電圧が上昇する。抵抗体R1は通常は大きい抵抗値を持ち、これで、キャパシタC3上の減衰した電荷を回復して次に読み取れるようにする。実際、ノードP3の読み取りは、トランジスタT3をオンする以前に実行して、オフセット電圧を測定すると利点がある。次に、トランジスタT3がオンした後で別の読み取りを実行し、第2の読み取り値から第1の読み取り値を減算して、キャパシタC2に流れ込んだ電荷量の値とする。したがって、図5の回路の実施形態の場合のように、ダイオードD1からの光子束によって、電荷がキャパシタC2からグランドに対してフレーム持続時間中に移動する。ラインL2が再度次のフレームに選ばれると、キャパシタC2上の電荷は電荷アンプ回路によって読み取られる。
【0086】
列駆動ユニット238はラインバッファ236および行選択ユニット240と協働して、表示装置の次の行のおのおのに対して画素信号を順次に選択して送る。列駆動ユニット238と行選択ユニット240の動作は一般に技術上周知であり、ここでは詳述しない。
【0087】
センサー294は画素292内または隣に位置付けまたは配置され、これで、それが光、光子または、画素292が列駆動回路によって発射レベルで駆動されると、この画素から発する他の放射線の少なくとも一部を受信できるようにする。センサー294はまた、周囲の光や放射線レベルに反応する。センサー294は、さまざまなレベルの入射光や放射線に反応して物理的または電気的特性の測定可能な変化を受ける限りいかなる対応のセンサーでもよい。
【0088】
したがって、センサー294は、フレーム測定時間期間中にセンサーに入射する光子束の尺度となるまたはこれを示す光電流という形態で電気信号を発生する。本発明の1つの実施形態では、センサーは規定されている期間にわたり累積された光子束を測定する。本発明の少なくとも1つの実施形態では、この規定された期間はフレーム周期である。ここで、たいていの表示装置は少なくとも60Hzというフレーム速度で動作し、これで、表示される内容(画像など)が人間の観察者に対してちらついて見えないようにする。60Hzというフレーム速度は実質的に16.7msというフレーム時間すなわち周期に対応する。他の表示装置には、ちらつきをさらに抑えるため、より高い周波数で動作するものもある。100Hzというフレーム速度は実質的に10msというフレーム時間すなわち周期に対応する。
【0089】
本発明はなんらかの特定のフレーム速度に限定されず、非インタレース式やインタレース式の表示装置に適用可能である。さらに、多くの説明では、光子束が正確にまたは実質的に表示フレーム時間に等しい期間にわたって累積されていると記しているが、光子束の累積には、絶対値で雑音と比較して十分な大きさの累積光子束を提供するに十分長ければよく、これでランダム雑音に対する正と負の影響が必要なマージンに及ばない程度にまで長くフレーム時間全体にまで長くしなければならないという理由はない。フレーム時間の少なくとも1/4から1フレーム時間台の光子束累積時間が容易に用いられ、また、フレーム時間の約1/10(たとえば1.67ms)という光子束累積時間を用いても、前の例で説明したような先行技術による一般的な5μsという瞬間的測定時間と比較して333倍という利得があると予測される。フレーム時間の1/100から1/10という光子束累積時間でも十分な性能が得られる。一般的に、この累積時間は1フレーム時間であり、これで、制御信号とタイミング信号の1集合を、画素書き込み動作と累積光子束センサー読み取り動作とに用いられるようにする。行アドレス時間ほどに短い時間フレームでさえ雑音消去回路では実用的であると予測される。
【0090】
ここで、たいていの表示装置は少なくとも60Hzというフレーム速度で動作し、これで、表示される内容(画像など)が人間の観察者に対してちらついて見えないようにする。60Hzというフレーム速度は実質的に16.7msというフレーム時間すなわち周期に対応する。他の表示装置には、ちらつきをさらに抑えるため、より高い周波数で動作するものもある。100Hzというフレーム速度は実質的に10msというフレーム時間すなわち周期に対応する。本発明はなんらかの特定のフレーム速度に限定されず、非インタレース式やインタレース式の表示装置に適用可能である。
【0091】
光子束を、光子数/秒/平方メートルという単位で測定すると、センサーはこの時間期間中にセンサーエリアにわたってとらえられた光子の数を累積またはカウントし、これで、センサーが光子カウンタとして動作し、光子、電子または他のエネルギーもしくは粒子の瞬間的検出器として動作しないようにする。表示装置の画素や表示装置の画素を駆動する電子システムに電荷が存在しないと仮定すると、時間にわたってこのように累積することによって、存在する瞬間的な雑音を克服するに十分な大きさの信号および、フレームが代わっても比較的安定である信号が獲得できる。
【0092】
各表示装置の行内の各画素(実際には、三色RGBカラー表示装置として実現される各サブ画素)は関連するセンサー294と連結しており、また、各センサー294はセンサー出力信号207をオフ表示装置ガラス電子システムに発生して通信することが理解されるであろう。1つの実施形態では、このセンサー出力信号は電圧(Vs)であるが、他の実施形態では電流(Is)である。追加の信号処理構造または回路は、画素もしくはサブ画素、表示装置またはオフ表示装置ガラス処理回路に提供されて、1つの信号タイプから別のタイプに変換したりおよび/またはさまざまな信号を行センサ信号から誘導したりする。解説を単純化するため、この解説を、1つの特定のセンサーからのセンサー信号207が駆動・制御電子システム204によって処理されて所望の動作と表示の均一性を達成する方法に限る。実際上、各画素(とサブ画素)はセンサーがついており、これがセンサー出力信号207を発生してオフ表示装置電子システムに通信し、これで、画素ごと(とサブ画素ごと)の測定とフィードバックに基づいて修正が実行できるようにする。この説明の別の部分では、校正手順と動作手順は、画度センサーデータを用いて表示の均一性を修正する方法を記述している。
【0093】
センサー出力信号207(表示装置中の列ごとに1つ)をサンプル・ホールド回路Z101で同時に捕獲し、アナログ/デジタル(A/D)コンバータ270とMUX270aで処理して、通常はパラレルアナログ信号207をシリアルデジタル信号または値Vs276に変換する。このデジタルセンサー信号276は信号比較ユニット260で受信されるが、このユニットは、測定された画素の累積された光子束(センサー出力信号276で示される)を、校正メモリ250に記憶されている階調レベル期待値に対応する基準画素累積光子束値251と比較する責任がある。信号レベルは拡大縮小または別様に処理され、これで、比較ユニット260が同じスケールや範囲を持つ信号を比較して、精密で正確な差が計算可能となるようにすることが理解されるであろう。基準値と特定の画素の感知された値との差は差分スケールまたは階調レベルスケールΔGS量と呼ばれて画素偏差メモリZ102に送られる。
【0094】
校正メモリ250に記憶されている基準電圧を発生する方法はいくらでもある。1つの実施形態では、校正メモリ250中に置かれる値は、アクティブマトリックス背部平面が、OLED材料がこの背部平面上に展開される以前に完了される製造ポイントで発生する。この時点では、アクティブマトリックスは周辺輝度に完全にさらされる。したがって、表示装置は、校正済みの階調レベルに対して順次暴露され、各センサーは通常動作であるようにスキャンされ、測定されたセンサー値は電子的に記憶されて後で校正メモリ250に導入される。別の実施形態では、表示装置の製造が完了した手順を用いるが、これは、階調レベルロジックブロックZ103を調整して所望の色混合と輝度の均一性を業界で公知の慣行を用いて発生させるステップを含む。表示装置は、最初にブートアップまたはオンされると、校正モードとなり、このモードでは、表示装置はエージング履歴をまったく持たないので第1のセンサー値は正しいものと仮定される。これら第1の値は校正メモリに記憶され、次に表示装置の初期状態を維持するために用いられる。
【0095】
画素偏差メモリZ102は、すべての画素の状態を初期状態、すなわち製造の際の初期構成値と参照して含んでいる。階調レベルロジック機能ブロックZ103の目的は、表示装置上に画像データを誠実に再現する正確なデジタル電圧を発生することである。これを達成する手順は表示装置業界では公知であり、したがって、ここでは詳述しない。
【0096】
本発明の実施形態では、階調レベルロジック関数による判定は画素偏差メモリに記憶されているデータで修正される。1つの実施形態では、たとえば、画素偏差メモリ中のデータが、その画素が2階調レベルだけ劣化していることを示せば、階調レベルロジック関数は2階調レベルを、画像データに対して決定された通常のデジタル電圧レベルに対して加算する。別の実施形態では、他のすべての画素から2階調レベル減算して色バランスを維持するが、表示装置のダイナミック範囲は減少する。別の実施形態で用いる方式では、劣化した画素のオン時間を増して、その知覚輝度を2階調レベルだけ増す。他の実施形態では、業界で公知の技法を用いて空間的および/または一時的ディザーが発生する。
【0097】
本発明の実施形態は、ある規則、方針またはスケジュールに従ってまたはユーザが主導でいつでも校正を実行することを可能とする。自動的校正が好ましい。2つの特定的なスキームがあって、フレームごとや、時間間隔が任意の数値となるフレームのある整数倍ごとに、パワーオン時に、パワーダウン時に、ある時間経過間隔ごとに(たとえば1時間ごとに)または他のいずれかのスキームにしたがって校正する。ユーザは校正が発生中であることを意識せず、また、いったん校正実行の構造がしかるべき状態になれば、校正に伴う損失やオーバヘッドは実質的にないことが理解されるであろう。メモリへの追加の書込動作および/または追加の切り替えやロジック動作などの動作は、追加のアクティビティしか表さないが、他の発生動作と比較すれば取るに足らない。
【0098】
本書に記載する上記の回路および他の回路は、表示装置と同じ基板(たとえば表示装置グラス)上または表示装置とは分離した別個の基板上に集積回路として実現される。一般に、制御システム素子は、表示装置基板とは離れて提供すると利点がある。本発明の特定の実施形態では、制御システムと制御回路は、サンプル・ホールド回路Z101、アナログ/デジタルコンバータ回路270、マルチプレクサ270a、コンパレータ回路260、校正メモリ250ならびに画素偏差ロジックZ102aおよび画素偏差メモリZ102bとなっている。表示装置コントローラZ104,階調レベルロジックZ103および画像A/Dコンバータ209もまた、表示装置基板から離れた1つ以上の集積回路として実現すると利点がある。以降に詳述する画素回路の実施形態は、表示装置ガラスまたは基板上の画素ごとに構造として実現される。
【0099】
2.画素デバイスの構造と回路の例
本発明の1つの態様は、高インピーダンスから低インピーダンスへの変換である。この変換は少なくとも部分的には、センサーキャパシタの構造、構成および/または動作が原因で発生する。センサーキャパシタC2を充電したり放電したりするセンサー動作は高インピーダンス動作であるが、それは、センサーの抵抗値がギガオーム台であるからである。この充放電時間中、センサーラインはセンサートランジスタT3によって高インピーダンスから隔離されている。読み出し時間中、センサートランジスタT3は開放されており、これで、センサーキャパシタC2(センサーラインL4から隔離されていた)がセンサーラインL4に接続される。
【0100】
センサーキャパシタC2とセンサーラインL4の間のインピーダンスはセンサーラインの抵抗だけであり、これは通常は一般的な実現例ではたったの約3キロオームである。したがって、インピーダンスの差は106:1台である。雑音による干渉のため、ナノアンペア台の電流が流れるが、これはギガオーム台のインピーダンスを持つシステムでは、数ボルト台の雑音ともなるが、キロオーム台のインピーダンスを持つシステムではマイクロボルト台である。一般的な表示装置実現例では雑音干渉を拾うのは長いセンサーラインL4であるため、センサーラインが高インピーダンスシステムと接続している場合には測定しないのが好ましい。センサーS1がTFTのT3によって隔離されている場合、センサーS1に影響するいかなる雑音も画素回路の極端に短いラインによって拾われるはずであるので、したがって、たとえあったとしても非常に少ない雑音でもセンサーキャパシタの充放電に影響する。これらの切り替え特性やインピーダンス特性は、画素とセンサーの回路の動作が成功するために寄与する。
【0101】
本発明の表示装置、表示装置制御システムおよび方法ならびにセンサー読取回路および方法で用いられるセンサー回路付きの例示の画素を次に2つ説明する。特定の画素発光体、センサーおよび回路のトポロジーをこれら2つの実施形態を参照して説明するが、本発明はこれらの特定の回路やデバイス構造にだけ制限されるわけではなく、また、制御デバイスのタイプを特定のトランジスタ、TFT、ダイオードまたは類似物に変更し、また、いずれかの2端子または3端子制御手段やスイッチング手段を導入したりすることによって設計や特定の電気回路デバイスが変更されたり修正されたりすることが理解されるであろう。トランジスタはTFTタイプのトランジスタとして示されているが、本発明はTFTタイプのトランジスタにだけ限られるものではない。さらに、本発明の精神と範囲から逸脱することなく、さらなる回路の追加などの画素回路トポロジーを別様に変更してもよい。発光デバイスのタイプもまた、OLED発光体以外のものに修正したりしてもよく、また、たとえば、これに限られないが、無機光子放射デバイスは、構造を含むいずれかのアクティブ発光体を用いてもよいし、センサーの特性を修正し、これで、光抵抗性または光伝導性のデバイスに加えて、入射光子束に反応して変化するなんらかのセンサーデバイスを導入してもよい。
【0102】
図7と図8の実施形態に関連して説明される2つの回路の利点の1つは、これらが、OLED表示装置などのアクティブマトリックス発光性フィードバック安定フラットパネル表示装置に対する高インピーダンス/低インピーダンス変換システムとなることである。図7と図8の回路は、オフ表示ガラスまたは基板回路(電圧コンパレータアンプVC1とスイッチングトランジスタTFTのT4など)を、フレーム時間中に発生する光子束累積動作中の画素内のセンサーS1の高インピーダンスから隔離することによってこれを実施する。これら回路の設計によって、センサーラインL4が高インピーダンス発生源に接続されるとその結果発生するセンサーラインL4に雑音が発生することを防止する。
【0103】
この点で、高インピーダンスに接続された伝導ラインが環境から電磁干渉を拾ってしまうことが公知である。これは、プラスとマイナスのリード線を空中で開放状態してある電圧計の動きを観察することによって容易に示される。電圧は、無線干渉とTVの干渉のため、プラス数ボルトからマイナス数ボルトに連続して移動する。センサーS1はギガオーム範囲またはそれ以上の抵抗であるため、センサーキャパシタC2の恩典なしでL4がセンサーS1に直接接続されると、センサーラインL4に対して開放回路のように動作する。光子束の累積時間中、センサーTFTのT3はオンする。電源ラインL1はこの画素回路構成中のセンサーS1から隔離されていないが、電源ラインL1上の雑音は画素や表示装置の動作に影響しないが、それは、パワーTFTのT2が飽和モードで動作しており、したがって、雑音によるパワーTFTのT2の両端の電圧の変動(たとえ数ボルト台であったとしても)がT2を流れる電流を変化させず、したがって、表示装置中のすべての画素に対する画素ダイオード発光体D1からの光子の放射は安定のままとどまる。
【0104】
さらに、電源ラインL1が拾ったなんらかの雑音は、センサーキャパシタC2がセンサーS1を介して充電中はゼロボルト(すなわち、正と負の変動が実質的に等しいため平均で約ゼロボルトとなる)前後で変動し、したがって、雑音は解消され、フレーム時間後のセンサーキャパシタC2上で電圧が発生する原因は、光子をとらえるセンサーの放電速度だけである。ライン選択電圧ラインL2上の電圧が高レベルとなって駆動TFTのT1とセンサーTFTのT3がオンする行アドレス時間中、センサーキャパシタC2上の電圧が電圧比較アンプVC1によってセンサー入力部P1で読み取られる。センサー入力部P1のところにあるこのセンサー入力部はその他方の入力部のP2の基準電圧と比較されて、出力部P3で差分電圧すなわち誤差電圧を発生する。雑音はセンサーキャパシタC2上の電圧を読み取り中は干渉しないが、それは、雑音が誘導する電流はナノアンペア台であり、せいぜい、キャパシタC2上の電荷が少し変化するだけであるが、高インピーダンス中では実質的に電流は何も流れないため、低レベルの雑音干渉から電圧は何も発生しない。
【0105】
図7と図8の実施形態の回路の間の主要な差の1つは、図7の回路実施形態では、フレームの開始時でのセンサーキャパシタC2上の電圧がゼロボルトであり、行アドレス時間中に読み取り時間の終了時にTFTT4を接地することによって提供されることである。センサーキャパシタC2の他方の側の電圧はラインL1の電圧と同じであるが、これは、パワートランジスタT2に対する電源電圧であり、たとえば+10ボルトである。センサーS1はセンサーキャパシタC2と組み合わされてフレーム時間中にOLEDのダイオードD1からの光子束を累積するにつれて、キャパシタC2とトランジスタT3の間のポイントP5での電圧はL1上の電源電圧(たとえばプラス10ボルト)に向かって上昇する。センサーS1がより多くの光子を受けとってセンサーS1とセンサーキャパシタC2の組み合わせによって累積されるほど、センサーキャパシタC2とセンサートランジスタT3の間の電圧はラインL1上の電源電圧に近づく。この回路は従来の回路や方法にない多くの利点を有するが、実際の実現例の回路のこの特定の実施形態の考えられる欠点は、ラインL2上の電源電圧が、画素の数とL1から電源供給されている各画素からのOLED発光レベルとのために少し変動しかねないことである。これは画素と放射レベルの組み合わせでありえるため、センサーキャパシタC2上の電圧読み取り値は理論的にはいくぶんあいまいさを有するが、このあいまいさは一般的に小さく、性能はそれでも従来の回路や方法から見れば改善されている。
【0106】
他方、図8に示す回路380は、グランドとVcap355の電圧とを基準値としているが、この電圧は、アドレス時間中にセンサーTFTのT3 330とTFTのT4 340トランジスタを介してセンサーキャパシタC2 327に対して供給または通信される。
【0107】
上述の2つの回路は幾分異なった構造と動作を有するとはいえ、これらはある特徴を共有している。これらの回路では、それぞれ、グランドに結合されている発光デバイス(OLEDデバイスなど)は、制御された電流源(TFTトランジスタT2など)で駆動される。電圧という形態を持つ画素データ値は、制御端子(TFTゲート)に印加され、これで、画素の発光物(光子の数)がその意図する累積光子束に関連するようにする。思い起こされるように、センサーS1の324とキャパシタC2の327は、画素発光性素子(OLEDデバイス)と一緒になって光子束累積装置デバイス339(支持回路とともに)として結合され、これで、発光体から放射された表示可能で測定可能な数の光子がセンサーに入射し、また、センサーとキャパシタの組み合わせで光子のカウント値を発生するようにする。センサーS1とキャパシタC2の組み合わせによって、規定された期間(1つの実施形態では16.7msという表示フレーム時間)中に収集された光子の総数を累積またはカウントする。この累積された光子束は有用な尺度となるが、それは、これがいかなる瞬間的な尺度よりも大いに再現性があり、また、雑音から免れており、信号の増幅度が大きく、また、光子束の累積性によって、比較的遅い反応と人間の視覚系の待ち時間のおかげで人間の観察者が知覚する累積光子束をよりよく表しやすいからである。
【0108】
基準となる累積光子束が設定され、次に、センサー信号が制御システムに通信されて、基準値と一緒に用いられて、次の校正期間(次のフレームなど)中に制御デバイスに印加されるデータ信号を調整し、これで、実際の画素累積光子束(実質的にはOLEDダイオードまたは他の発光体から放射された光子)が所望の累積光子束(校正中に特定された光子の数)と合うようにする。
【0109】
以上で画素回路構造とその動作の共通の態様の内の一部を説明したので、次に、図7と図8に示す2つの実施形態のより詳細な説明に注意を払うことにする。
【0110】
図7を参照して、発光体、センサー、光子束累積部品および制御部品を持つアクティブマトリックス表示画素の実施形態を以下に説明する。画素ダイオード駆動トランジスタT1の310は画像電圧ラインL3 301のドレイン(DT1)端子311、すなわち、蓄積キャパシタC1 314の第1の端子315、パワー制御トランジスタTFT T2 320のソース(ST1)端子312のゲート端子(GT2)とライン選択電圧ラインL2 302のゲート(GT1)すなわち制御端子313に結合されている。パワーTFTトランジスタT2 320は、電源電圧ラインL1301のドレイン端子321に結合されており、このドレイン端子はまた、共通のノードにある、センサーS1324の第1の端子325とセンサーキャパシタC2の327の第1の端子328に結合されている。蓄積キャパシタC1324の第2の端子316は、パワーTFTのT2320のソース端子322と発光体(OLEDダイオード)336の入力端子337に結合されている。OLED発光体336の出力端子337はグランド305に結合されている。センサーS1の324の第2の端子326はセンサーキャパシタC2の327の第2の端子329に結合されている。校正読み取り電圧(Vcal)は、以下に説明するように326でのセンサーS1の出力部とセンサーキャパシタ端子329との接続によって規定されるノードP5の334で測定されるか読み取られる。このノードP5はまた、センサーTFTのT3 330のソース端子331に結合されている。センサーTFT T3330もまた、そのソース端子332が、電圧コンパレータVC1 350の入力ポートP1 351に入力信号を出力するセンサーラインL4304に結合されている。電圧コンパレータ350は第2の入力ポート352で基準電圧を受け取って、P1 351入力とP2352入力の間の差として計算された差動信号または誤差信号P3 353を発生する。この実施形態では、また、入力として電圧コンパレータVC1350に印加されるセンサー出力は、接地用TFT T4 340のドレイン端子341の入力として共通ノード351に印加される。TFT T4340のソース端子342はグランド306に結合され、そのゲート端子343で制御信号344を受信する。これらのトランジスタによってスイッチされて、ときとして画素素子に接続したり、同時にまたは別々の時点で他の画素を隔離したりして、少ない値の電圧、電流、電荷および/または光子カウント値の厳密な管理、制御および/または測定が精密にそして正確に遂行されるようにする。ここで、TFTのソース端子とドレイン端子の感知レベルは、TFTトランジスタに用いられる材料がn型であるかp型であるかによって逆になる。
【0111】
ここに記載する回路のある種の素子は協働して画素発光体、画素光子束累積装置ならびに測定および校正の動作に貢献する。本発明の態様を読者が理解しやすいようにするある種の近似的なカテゴリが展開されるが、このようなカテゴリ化は、本発明の範囲を制限するように適用すべきではないが、それは、本書に記載する回路の素子が、本明細書に詳述するようにある場合には2つ以上のカテゴリに寄与するがそれ以外の場合にはまったく寄与しないからである。これを念頭において、駆動TFT T1、蓄積キャパシタC1、パワー制御TFTT2およびダイオードD1は主として、OLEDダイオード発光体の動作に寄与し、センサーS1、センサーキャパシタC2およびセンサーTFTT3は主として累積光子束の測定値を決定または発生する動作に寄与し、本実施形態の電圧コンパレータVC1と接地用TFTT4は主として、累積された光子束測定値の読み取りおよび測定値と基準値間の差を決定し、これで特定された累積光子束が示すように画素発光体の輝度を調整する目的で修正がなされるようにするのに寄与する。
【0112】
図7の回路素子の一般的なトポロジーと接続性を説明したので、本発明のさらなる態様と利点がより理解されるように次にその動作に注目して説明する。電源電圧(VPS)は一般的に10~15ボルト範囲にあってラインL1 301に印加されるが、このラインはOLED ダイオードD1 336とセンサーキャパシタC2327の充電用電源の双方として動作する。本発明はなんらかの特定の範囲には制限されず、これより高い電圧または低い電圧を用いても、デバイスの特性と矛盾しない。同時に、ライン選択電圧(VLS)はラインL2 302に印加され、これで、データ駆動TFT T1 301がオンする。また同時に、表示され、また、画像電圧と呼ばれる画像を表す画像電圧(VIM)はライン L3 303に印加され、また、データ駆動TFT T1 301がオン(すなわち導電状態にある)ため、この画像電圧(VIM)はTFT T1によってパワー制御TFT T2 320のゲートGT2 323と蓄積キャパシタC1 314に出力される。これによって、デバイス電流(ID1)がTFT T2 320によってOLEDのダイオードD1 336に出力され、また、画像が必要とする適切な発光(ECALC)となるように計算された特定の発光レベルがOLEDのダイオードD1336から放射される。表示装置が新しく製造業者によって新たに調整されていれば、画像電圧は正しい画素/OLED発光レベルを発生する。1つの実施形態では、センサーS1 324は、光結合が最適となるようにOLEDのダイオードD1336の半導体の陽極側と物理的に接触するように置かれ、これで、センサーS1が、発光中にOLEDが放射した光の少なくとも一部分、望ましくは、累積光子のカウント値と信号強度を改善するためできる限り多くの放射光子を収集または捕獲できるようにする。輝度という点では、この実施形態では、センサーS1はOLED画素が発するのと同じもしくは実質的に同じ輝度を受けとるが、それは、画素(画素のセンサー部分)に衝突する光束の密度が、全体として画素(画素の発光体部分)が発する光束密度と同じであるが、それはこれらの部分が(必ずしもではないが)接触しているのが好ましいからである。(他の実施形態では、センサーS1はOLEDの近くに物理的に置かれ、これで、役に立つセンサー信号を出力するに十分な光を収集または捕獲しながらも、OLEDのダイオードD1の陽極側と接触しないようにしている。)1つの実施形態では、センサーS1は光抵抗性(または光伝導性)のセンサーであって、これは、OLED発光体の発する光子束密度が増すにつれて抵抗値が減少する(または伝導度が増す)。
【0113】
毎秒60フレーム(fps)では16.7msとなるフレーム持続時間(TFR)において、OLEDのダイオードD1 336が発する光はセンサーS1 324に衝突し、これで、センサーS1 324の抵抗(RS1)347の成分は、光(光子)放射の強度に比例して減少する。表示フレーム時間中、センサーキャパシタC2 327はセンサーS1 324を通じて放電中である。センサーS1のフレーム持続時間とこのフレーム時間中の平均抵抗(Rave)348によって、センサーキャパシタC2が放電する電荷量が決まる。センサーキャパシタC2が放電する電荷量は重要なパラメータであるが、それは、これによって、センサーキャパシタC2とセンサーTFT T3の間に接続されたノードP5の電圧(VCAL)が制御または決定されるからである。この読取校正電圧は読取値として回路や他のロジックに送られて、通常動作中の表示の均一性と色バランスを校正して維持するために用いられる修正値が決定する。(本発明の実施形態が異なれば、本明細書中のどこかで説明される読取回路も異なる。)重要な注意事項として、センサーキャパシタC2とセンサーTFTT3の間のノードP5で測定された電圧が高いほど、センサーS1で検出され、すなわち、とらえられる光子束量(画素輝度)も増すことである。これが起こるのは、センサーS1の抵抗が低いほど、センサーキャパシタC2とセンサーTFTT3の間のノードP5での電圧がラインL1上の電源電圧に近づくからである。
【0114】
図8を参照すると、本発明の第2の実施形態が示されている。本明細書中、違いが記載されていない限り、同様の番号は同じまたは類似の動作を示す。2つの回路の多くの類似性ならびに素子の全体のトポロジーおよび接続はここでは繰り返さない。本実施形態では、センサーキャパシタC2の327は最初に、図7の第1の実施形態の場合と同じように、電源ラインを用いて所定の電圧にまで充電されるが、本実施形態では、センサーキャパシタC2 327は、TFTT4340とキャパシタ充電用電圧源(Vcap)355によってセンサーラインを介して、たとえば、+10ボルト(または他のいずれかの電圧値)にまで充電される。(思い起こされるように、図7の実施形態では、このようにはキャパシタ充電用電圧Vcapを利用せず、P1入力部とグランド306の間ではなくトランジスタTFT T4が電圧コンパレータ350のP1入力部とVcap355の間で相互作用するように動作することに注意のこと。)
【0115】
フレーム時間(たとえば、60フレーム/秒(fps)システムでは約16.7msというフレーム時間)中では、OLEDのダイオードD1からの光または光子によって、センサーS1 324の抵抗は減少して、センサーキャパシタC2 327のグランドへの放電が加速される。図7の実施形態と比較して、この図8の実施形態では、センサーキャパシタC2 336上の電圧は、図7の実施形態でのように正の電源電圧にではなくG1305のグランド電圧(または他の電圧)に向かって移動する。したがって、OLEDのダイオードD1からの光子束の放射が大きいほど、センサーS1の抵抗は低下し、フレーム時間放電中の電流が増し、センサーキャパシタC2を読み取り時間中に測定した場合のセンサーキャパシタC2上の残留電圧が低下する。この図8の実施形態はしたがって、図7の実施形態にない利点があるが、それは、電荷電圧は電源電圧ラインL1上でよりセンサーラインL4上で制御したほうがよいからであるが、これら実施形態はともに有用であり、また、従来の回路と方法にない重要な利点を有している。一般に、実際の実施形態の場合、電源電圧ラインL1上の電圧は、ラインL1と測定中の行が発している電流の分量にしたがって変動する。多くの表示装置のアーキテクチャの場合、行番号が高いほど、ラインL1の電源から行が離れ、また、ラインから行にいたる際の電圧降下すなわち電流と抵抗の積(I*R)が大きい。比較すると、この実施形態ではセンサーラインL4は、読み取りや測定が行われているときしか、または、センサーキャパシタC2が再充電中しか電流を送出しないため、電流は高度に安定で、電源電圧ラインが変動してもあまり変動しない。
【0116】
ここに記載する上記のおよび他の回路は、表示装置と同じ基板(たとえば表示装置ガラス)または表示装置から離れた別個の基板上に集積回路として実現される。
【0117】
3.センサーと回路の構成の実施形態
センサーは、表示装置が製造中で完成以前(製造前校正)または製造完了後(またはこれら2つの時点間の選択された段階)に校正される。校正の第1の実施形態は、製造中の校正である。図9は、製造前校正の場合の校正のフローチャートの実施形態を示す。この校正は、アクティブマトリックスとセンサーの回路が完了した後で、しかも、OLED構造がアクティブマトリックスの背面パネル上に置かれる以前の時点で発生する。この時点では、完成されたアクティブマトリックスの背面パネルが、L1電源電圧以外のすべての表示装置入力を、表示装置として完全に動作中に場合と同じようにアクティブマトリックス背面を駆動する表示装置制御盤に接続するテスト固定具に挿入される。ラインL1には接続する必要はないが、それは背面にはいまだOLEDのダイオードD1は組み込まれていないからである。この校正処理を、図8を参照して図示、解説される画素回路の第2の実施形態を参照して説明する。ここで、キャパシタC2はセンサーラインとVcapを介して充電される。
【0118】
第1ステップ(ステップ801):アクティブマトリックス背面パネル(背面)を、たとえば、図4に示す制御システムなどの表示装置制御システムに接続されているテスト固定具に搭載する。
【0119】
第2ステップ(ステップ802):背面を、階調レベル輝度1に等しい輝度で校正済みの実験室用均一光源で均一に照明する。(このステップの実行に際しては、背面を均一に光源で照明するが、その際の輝度は別のレベルの階調、たとえば、そのレベルが周知である限り、また、校正手順でそのレベルを考慮している限り別の低いレベルの照度、でもよいが、この方式は好ましくない。)
【0120】
第3ステップ(ステップ803):表示装置コントローラZ104は、選択行1を行選択回路240に送って、表示装置の行1中のすべてのT3トランジスタをオンする。
【0121】
第4ステップ(ステップ804):第3ステップ(ステップ803)で行1中のすべてのT3トランジスタをオンしているため、センサーラインL4から電荷がキャパシタC2に流入して、それを、たとえば10ボルトにまで充電する。
【0122】
第5ステップ(ステップ805):キャパシタC2が充電すると、電流が演算増幅器によって感知されて、電圧VC1を発生して、この値が行1中の画素ごとにZ101によってサンプルされて保持される。
【0123】
第6ステップ(ステップ806):このサンプルされ保持された電圧は、A/Dコンバータ207とMUX207aによってデジタル化され多重化(MUX)されて、シリアルデータストリームになる。このD/A変換とMUXの順序は交換しても性能にはなんら影響ない。
【0124】
第7ステップ(ステップ807):表示装置コントローラZ104はこのシリアルデータストリームを校正メモリ(CalMem)250に対してゼロラインとして記憶するように指示する。これがゼロラインと呼ばれるのは、このデータが階調レベルを光束で累積する完全な1フレーム時間を持たなかったセンサー上にあるからである。
【0125】
第8ステップ(ステップ808):ステップ803~807を表示装置中のすべての校正対象の行(通常はすべての行)に対して繰り返して、フレーム中のすべての行がサンプルされるようにする。この時点で、第1の行に対する第1の発光階調レベルは、完全な1フレーム時間の間にS1とC2によって累積されている。
【0126】
階調レベル1の値に対してすべての行が校正されると、次のステップ(ステップ809)は、校正されるべき次の階調レベル、通常は好ましい実施形態では階調レベル2、に対してステップ803~807を繰り返す。ステップ806で決定されたサンプルされ保持された値は第1の階調レベルにとっては適切な値であって、ステップ807で階調レベル1に対する第1行の値に記憶される。
【0127】
最終ステップ(ステップ810)では、最初の9のステップ(ステップ801~809)のおのおのを、すべての階調レベルがサンプルされ保持されて校正メモリ(CalMem)205に記憶されるまで繰り返す。ここで、1つの実施形態では、最後すなわち最高の階調レベル(たとえば8ビットシステムでは階調レベル256)が2つのフレームで存在しまたは実行されるが、それは、256番目のフレームの開始時に記録された階調レベル値は255番目の階調レベルの階調レベル値であり、これによって、最終値が校正メモリ250に確実に記憶される。
【0128】
第2の実施形態の校正(製造前校正)では、たとえば表示装置が最初にパワーオンされたとき、または、初期化されたり、最初に使用したりするときなどに、製造が完了した表示装置を校正する。この校正システムでは、製造業者が、表示装置のユーザに対して販売目的で出荷したことまたは別のデバイスのOEM製造に先立って通常の仕方で表示装置を調整したことを前提としている。したがって、表示装置を操作するために用いられる電圧は、業界では通常の慣行として、ガンマテーブルまたは他のルックアップテーブルに記載されている。これは、第1のセンサー測定値が自動的に校正されることを意味する。この実施形態では、製造業者が校正することを利用している。この製造後校正の詳細を、図10に示す実施形態を参照して説明する。
【0129】
第1ステップ(ステップ831):アナログ画像データ機能ロジックブロック208は、第1の行(行1)中の第1の画素(画素1)の第1階調レベル1の画像電圧を画像A/Dコンバータに送り、ここでアナログ電圧を階調レベル1のデジタル値にデジタル化する。(階調レベル1の画像値がすでにデジタル形態である場合には、このアナログ/デジタル変換は不必要である。)
【0130】
第2ステップ(ステップ832):このデジタル化された階調レベル1の電圧値は階調レベルロジック機能ブロックZ103に送られまたは通信される。
【0131】
第3ステップ(ステップ833):階調レベルロジック機能ブロックZ103は、(i)製造者の所有する(または生成されまたは利用可能である)ガンマテーブルZ103bと、(ii)画素偏差ロジックブロック内の画素偏差メモリZ102からの情報とを合成する。画素偏差メモリには何も値が記憶されていないため、または、デフォルト値しか記憶されていないため、ガンマテーブルで決定される製造者の値にはなんら変更はない。(画素偏差ロジックブロックと画素偏差メモリおよびその格納済みの値を以下に詳述する。)
【0132】
第4ステップ(ステップ834):デジタル階調レベル1の電圧が表示装置コントローラ機能ロジックブロックZ104に送られる。
【0133】
第5ステップ(ステップ835):表示装置コントローラ機能ロジックブロックZ104はデジタル階調レベル1の電圧値を機能ロジックブロック238中の表示装置の第1列ドライバ(列ドライバ1)に中継する。
【0134】
第6ステップ(ステップ836):第1行のすべての画素が列ドライバ238中のラインバッファにロードされるまで、ステップ831~835を第1行中のすべての画素に対して繰り返す。
【0135】
第7ステップ(ステップ837):表示装置コントローラZ104からのコマンドに基づいて、第1行の画素データが、おのおのの列の先頭にある1連のデジタル/アナログコンバータ(DAC)にダウンロードされ、ここで、おのおののデジタル画素電圧を、画素の列ごとにアナログ電圧に変換してラインL3にロードする。
【0136】
第8ステップ(ステップ838):表示装置コントローラZ104は、列ラインL3上のアナログ電圧が安定するのを待って、行1選択信号を行選択機能ロジックブロック240に送る。
【0137】
第9ステップ(ステップ839):行選択機能ロジックブロック240は、ラインL2を高電圧として、第1行中のすべてのトランジスタT1にいたるすべてのゲートをオンし、これで、ラインL3上の表示電圧をキャパシタC1に流し込み、ここで、ラインL2の電圧が低レベルになると保持され、同時にトランジスタT3がオンされて、電荷がセンサーラインL4からキャパシタC2に流れ込む。
【0138】
第10ステップ(ステップ840):電荷がキャパシタC2の中に移動すると、電圧がサンプルされて機能ロジックブロックZ101に保持され、行中の個々のセンサーS1に対する値が読み取られる。
【0139】
第11ステップ(ステップ841):サンプルされ保持された電圧は、A/Dコンバータ207とマルチプレクサ(MUX)207aによってデジタル化され、多重化されて(または多重化され次にデジタル化されて)シリアルデータストリームになる。
【0140】
第12ステップ(ステップ842):表示装置コントローラZ104はこのシリアルデータストリームを階調レベル0について校正メモリ(Cal Mem)250の第1行に記憶するように指示する。
【0141】
第13ステップ(ステップ843):ステップ836~843を、フレーム中のすべての行がサンプルされて階調レベル0に対して記憶されるまで繰り返す。
【0142】
第14ステップ(ステップ844):ステップ831~843を階調レベル2に対して繰り返す。このフレーム上で読み取られたセンサー値は前の階調レベル1に対するものであり、第1階調レベルすなわち諧調レベル1に対する値として校正メモリ(Cal Mem250)に記憶される。
【0143】
第15ステップ(ステップ845):ステップ831~844を、すべての階調レベルがサンプルされて校正メモリCalMem250に格納されるまで繰り返す。ここで、製造前校正手順の場合と同様に、最後の階調レベルは2つのフレームの間に実行されて、最終値が校正メモリCal Mem250に記憶されるようにする。
【0144】
画素偏差メモリは、上記の校正手順で参照されている。1つの実施形態では、画素偏差メモリは、表示の動作や校正に関連する変化、相違、履歴、エージングまたは他のデータもしくは情報を示すデータまたは他の情報を記憶する。画素偏差メモリZ102に記憶されるエージングデータなどのデータを用いる方法が多く存在する。
【0145】
1つの実施形態では、たとえば、輝度が減少しているエージングした画素に対して電圧を上昇させて、それが正しい輝度を回復できるようにしている。一部の実施形態における1つの考えられる欠点は、このタイプの修正や補償を完全に利用するためには電圧ヘッドの場所を列ドライバ238中の列ドライバに組み込まなければならないということである。別の実施形態では、画素偏差メモリ中のデータを用いる別の方法を実施して、あまりエージングしていない(すなわちあまり劣化していない)画素に対する階調レベルの数を減少させている。さらに別の方法では、公称で8ビットのシステム中で9ビットの階調レベルを用いて、最高の階調レベルが階調レベル256を越えるようにし、これで、エージングシタ画素を効果的にレベル257(または他の必要とされる階調レベル)にまで駆動して、階調レベル256に対して指定されている輝度レベルで輝度を放射するようにする。したがって、その画素に対するすべての画像階調レベルは、1つ(または適切な数)だけ階調レベルを上げる。別の方法では、公知の階調レベル方法である空間的ディザーを用いて、ロジック内のビット数を増すことなく階調レベルの実効数を増すようにしている。別の例では、従来の表示装置では周知である一時的ディザーを用いてもよいし、または空間的ディザーと一時的ディザーを組み合わせることも可能である。これらさまざまな方法またはこのような方法と関連する技法と構造は単独で用いてもよいし、互いにまたは他の技法と組み合わせて用いてもよい。
【0146】
4.センサー読取回路と方法の実施形態
図5に電圧感知増幅器読取回路の1例の実施形態を示す。1つの行が行選択回路240によって選択されると、ラインL2上の電圧が上昇してトランジスタT3がオンして、キャパシタC2の電圧が演算増幅器OA1のプラス端子に転送される。この電圧は、ラインL4の抵抗(RL4)に対する抵抗R2の比率にしたがって増幅される。一般的には、ラインL4の抵抗RL4は、数キロオーム(≒103オーム)台である。したがって、抵抗R2が数メガオーム(≒106オーム)であると、増幅係数は30dBすなわち1000対1となる。したがって、キャパシタC2上で1ミリボルトという読取値はピンすなわちノードP4上では1ボルトとなり、これがサンプル・ホールド機能ブロックZ101に送られる。この回路の1つの考えられる欠点は、ラインL4上のなんらかの寄生容量によって読取時間中のキャパシタC2上の電圧が減少することである。したがって、この回路は、行の数が少ない、したがって、比較的低い解像度の表示装置に使用されるのがベストであるが、いずれにせよ、この制限事項があるとはいえ、従来の回路や方法に比べて性能は改善されており、この潜在的な規制は、第2の実施形態の長所が完全に理解されるように指摘されているだけである。
【0147】
図6に読取回路の第2の実施形態を示し、これを電荷増幅/トランスインピーダンス増幅器と呼ぶ。この名称は、キャパシタC2をフル電圧まで再充電するために必要とされる電荷がこの回路で測定され、また、回路の入力部(電荷増幅器CA1の負の入力部)がギガオーム以上の範囲にあり、ピンすなわちノードP3の出力がほとんどゼロオームであるという事実に由来する。事実、ノードP3はときたま仮想グランドとみなされる。
【0148】
この回路のこの実施形態の動作をここで、図6を参照して説明する。たとえば10ボルト(または他の設定値)を、第1の電荷増幅器CA1のプラス入力ピンに印加する。初めにはマイナスの入力ピンに対する印加電圧はないため、10ボルトは即座にピンP3に出力されてC3の負の入力ピンに転送される。次に、負の入力ピン上のこの10ボルトを第1の電荷増幅器CA1のプラス入力ピン上の10ボルトから減算すると、ピンP3の電圧はゼロ(または実質的にゼロ)となるが、マイナスのピンではこの10ボルトが残るが、それは、マイナスの入力ピン上の電圧がある電圧だけ(たとえば1ボルト)減衰すると、この電圧差(1ボルト)がピンP3に現れて、マイナスの入力ピン上の電圧を10ボルト(または他の設定値)にまで押し上げる。これは電荷ポンプの働きと似ている。
【0149】
回路が落ち着くと、電解増幅器CA1の2つの入力ピンには10ボルト(または他の設定値)、ピンP3にはゼロボルトが存在している。ノードすなわちピンP3は、いくつかの理由によって、ほとんど決して正確に0ボルトにはならない。第一に、電荷増幅器CA1が属する演算増幅器のファミリは一般的にはオフセット電圧を有する。演算増幅器を形成する1対の内部トランジスタは常に特性または性能どおりであるとは限らず、その差がオフセット電圧となる。ピンP3の電圧がゼロではないという別の理由は、ラインL4が列中のすべてのT3トランジスタに接続されていることである。これは、たとえば、1000の行を持つ高解像度表示装置では1千個ものトランジスタ数となり、より大型および/または高解像度の表示装置ではさらに多くなる。これらのトランジスタT3はおのおのが一般的には、数ピコアンペア(10-12アンペア)台の漏れ電流があり、このため、電荷増幅器CA1の負の入力ピンの電圧が下がる傾向があって、上記のオフセット電圧に対してさらにピンP3に電圧が出力されることになる。動作中、ピンP3の電圧は、ラインL2の電圧が高レベルになる前にサンプルされて、L4上のオフセット電圧と漏れ電流による電圧が測定される。ピンP3は、ラインL2の電圧が高レベルとなって2つの電圧を減算して差分電圧を発生する前に、再度サンプルするのが望ましい。この2つの読み取り値間の差は、キャパシタC2中に移動して、ラインL4とキャパシタC2を、例で用いられたように10ボルト(または他の設定値)にまで上昇させる電荷の尺度となる。
【0150】
この実施形態の1つの利点は、ピンP3上の電圧による電荷の読み取り値は、ラインL4上の容量とは無関係(またはほとんど無関係)であることである。第1の電荷増幅器CA1は、ラインL4をそのプラス(+)入力ピン上の電圧にまで充電する。1つの電子がラインL4から除去されると、1つの電子がキャパシタC3から出て行ってそれと入れ替わるが、キャパシタC2から電子が幾分かでも移動すれば、電荷増幅器CA1のマイナスの入力ピンの電圧が減少し、これに応じてピンP3の電圧も変化する。1つの実施形態では、キャパシタC3の容量の値は、キャパシタC2のそれと同じオーダーとなるように選択されるため、キャパシタC2の容量が約1ピコファラッドであれば、キャパシタC3も約1ピコファラッドの容量を持つように選択されるが、同じ値となる必要はない。この電荷増幅器は、業界で用いられるような一般的な演算増幅器である。この電荷増幅器のサイズは(電力定格)は、ラインL4上の漏れ電流を考慮して決定される。たとえば、1千個のT3トランジスタの漏れ電流が数ナノアンペアであれば、電荷増幅器CA1は好ましくは数ナノアンペアを供給可能であり、この量にいくぶんか安全マージンが付けば好ましい。本発明の実施形態では、漏れ電流の2~3倍の安全マージンを提供しているが、これ以上でもこれ以下でもよい。
【0151】
上記の検討は本発明のセンサー回路とその動作に焦点を合わせた。たとえばアモルファスシリコン、ポリシリコン、セレン化カドミウム、または、技術上周知である、または、将来開発される他の光伝導性もしくは光抵抗性の材料のいずれかを含むなんらかの光伝導性(または光抵抗性)材料をセンサーに対して使用できることが理解されるであろう。ポリシリコンベースのセンサーは、アモルファスシリコンベースのセンサーより本来より安定した動作となり、ポリシリコンを表示装置に使用するとまた本来製造コストがかさむが、それは、フラットパネル表示装置製造インフラストラクチャがアモルファスシリコンに対しては良好に確立されているが、数十億ドルものコストをかけてポリシリコン用に再構築する必要はないからである。したがって、その校正およびフィードバック安定ならびに制御機能によってアモルファスシリコン材料の使用を可能とする本発明のこれらのシステム、構造、方法は、際立った利点を提供する。結晶性シリコン(x-Si)とポリシリコン(p-Si)とアモルファスシリコン(a-Si)間の相違と関連する問題点は本明細書の別のところで説明する。
【0152】
5.表示デバイスと表示システムの方法と動作の実施形態
本発明のシステムとデバイスおよびこれらと関連する校正方法と技法の多くの特徴を説明したので、次に表示装置の動作の態様に注目する。図6の実施形態の読取回路と、図6の電荷増幅器CA1をVC1とトランジスタT4の代わりに用いている図8の実施形態の画素回路を用いる実施形態に注目する。当業者はこの記述に照らし合わせて、既述したさまざまな実施形態を組み合わせて表示デバイスや表示システムに利用されることを理解されるであろう。
【0153】
次に、図11のフローチャートを参照して、表示装置や表示システムを操作するシステムと方法の実施形態を説明する。オプションのステップを含むこのステップのシーケンスは例示であり、ステップの順序をいくぶんか再編成したり、他のステップを並行に実行したりしても、本発明の精神と範囲から逸脱することがないことは明らかである。
【0154】
第1ステップ(ステップ851):アナログ画像データ機能ロジックブロック208は、第1行中の第1画素(画素1、行1)の画像電圧を画像A/Dコンバータ209に送り、ここで、画像アナログ電圧は、8ビット階調レベルシステムでは0と255の間の数である画像階調レベルを表すデジタル数値に変換される。別のビット数の画素階調レベルデータをサポートしている階調レベルシステムの場合、可能なすべてのレベルを実際に利用しなければ、このデジタル数値はこの範囲またはそれ以下の範囲に対応する。色チャネルごとに256レベルを持つ8ビット階調レベルシステムをこの説明で仮定するが、本発明を制限するものではまったくない。(ここで、第1行の第1画素から始まるこの手順または他のいずれかの手順を実行し、次に第1行の次の画素を、という具合に他のすべての行を実行していくことは論理的に意味があるが、この手順もこの開始点又はシーケンスを必要とせず、現実には、記述したように各画素を校正および/操作するようにロジックが設計されている限り、どのような順序を用いてもよい。)
【0155】
第2ステップ(ステップ852):0と255の間のこの画像階調レベルを階調レベルロジック機能ブロックZ103に送る。
【0156】
第3ステップ(ステップ853):階調レベルロジック機能ブロックZ103は、第1行中の第1画素(画素1、行1)の階調レベルの数値をデジタル電圧に変換し、この電圧が画素に印加されて、OLEDのダイオードD1が、第1のステップで表示システムに入力された画像階調レベルに等しい輝度レベルで光子束を放射する。この電圧は、製造者のガンマテーブル中の情報と画素偏差メモリZ102からの情報を用いて決定される。表示装置が新品である初期状態では、画素偏差メモリ中にはなんら偏差データがなく、ここに記憶されている値はデフォルト値であって、これらの値は実際には製造者のガンマテーブルの値を変更しないが、表示装置がエージングするに連れて、偏差値が画素偏差メモリZ102に蓄積される。
【0157】
第4ステップ(ステップ854):第1の行中の第1の画素(画素1、行1)に対するデジタル電圧が表示装置コントローラZ104に送られる。
【0158】
第5ステップ(ステップ855):表示装置コントローラZ104は、第1行中の第1画素(画素1、行1)のデジタル電圧を列ドライバ238に中継する。表示装置用のラインバッファは技術上周知であり、ここでは詳述しない。第1行中の第1画素(画素1、行1)の画素電圧は、第1列の位置(列位置1)のラインバッファ中にロードされる。
【0159】
第6ステップ(ステップ856):この行中のすべての画素が列ドライバ238中のラインバッファにロードされるまで、ステップ851~855をこの行中のすべての画素に対して繰り返す。
【0160】
第7ステップ(ステップ857):表示装置コントローラZ104からのコマンドに基づいて、第1行(行1)の画素データが、1連のパラレルDAC(表示装置において各列に1つ)にダウンロードされ、これが、デジタル画素電圧をアナログ電圧に変換してすべてのラインL3(列1つに付き1つ)に印加する。
【0161】
第8ステップ(ステップ858):表示装置コントローラZ104は、ラインL3上のアナログ電圧が十分安定するのを待って、行1選択信号を行選択機能ロジックブロック240に送る。
【0162】
第9ステップ(ステップ859):行選択機能ロジックブロック240は、行1に対するラインL2に高電圧を印加する、すなわち、第1行の中のすべてのT1トランジスタをオンし、これで、ラインL3上の印加電圧を第1行中のすべての画素中のキャパシタC1に転送する。すると、パワーTFTトランジスタT2が電流を第1の行中のダイオードD1のOLEDダイオードに供給する。同時にまたは実質的に同時に、すべてのセンサーTFTのトランジスタT3がオンし、これで、キャパシタC2が再充電電圧、たとえば、前の例で記載した例示の電圧である10ボルトになるまで電荷をキャパシタC2に流し込む。
【0163】
第10ステップ(ステップ860):電荷がキャパシタC2の中に移動すると、この行中の各画素に対して電圧がサンプルされて機能ロジックブロックZ101に保持される。第11ステップ(ステップ861):サンプルされ保持された電圧は、A/Dコンバータ207とマルチプレクサMUX207aによってデジタル化され多重化されて、シリアルデータストリームになる(デジタル化と多重化の順序を逆転させても性能が失われることはない。)
【0164】
第12ステップ(ステップ862):表示装置コントローラZ104は、このシリアルセンサーデータと校正メモリ(CalMem)250からの校正データのストリームを、コンパレータ260に送り、この画素に対するシリアルセンサーデータと校正データの比較を発生させる。
【0165】
第13ステップ(ステップ863):コンパレータ250は、校正データからセンサーデータを減算(またはこれら間の差を発生)して、その結果を画素偏差メモリZ102(行1)に送る。ここで、データは画素番号と行(または他のいずれかのスキーム)にしたがって、画像階調レベルを表すデジタル数値である第1のステップ(ステップ851)での画素に対して設定された階調レベルで記憶される。
【0166】
第14ステップ(ステップ864):フレーム中のすべての行がダウンロードされ、偏差(もしあれば)が測定されて画素偏差メモリに記憶されるまで、ステップ856~863を繰り返す。
【0167】
第15ステップ(ステップ865):ステップ851~864を、おのおののフレーム(または設定された動作プランにしたがっていずれかの指定済みのフレーム)に対して繰り返す。1つの実施形態ではこの手順をおのおののフレームに対して実行するが、これは不必要であり、それは、画素は必ずしもこの速度でエージングしたりまたは変化したりするわけではないからである。別の例では、デバイスがパワーオンすると、クロックで決定された動作時間期間ごとに、自動的または手動で発生された信号に反応して、または他の事象が発生すると、この手順をなんらかの所定数のフレームごとに繰り返す。1つの実施形態では、この手順をフレームごとに繰り返すが、それは、いったん回路と方法が確立されると、すべてのフレームに対して手順を実行してもコストがかからないからである。
【0168】
6.表示システムの実施形態
図12は、本発明の態様による表示システムの実施形態を示す。アレイ状に配列され既述のタイプを持つ複数の発光画素603を有する表示画面602をモニターフレーム、キャビネットまたは他のデバイスなどのハウジング604内に保持または搭載して、画像605または他の2次元図形を表示する。(ここで、1次元表示装置もまた本発明の特徴を用いて製造されるが、可能ではあるが興味が薄い。)
【0169】
表示装置の基板(しばしばガラスやポリマー材料)上に形成された回路やデバイスはオンガラス回路やデバイスと呼ばれ、一方、表示装置の基板上には形成されていない回路やデバイスはオフガラス回路やデバイスと呼ばれる。表示画素のおのおのの内部に形成されている画素発光体D1、センサーS1、センサーキャパシタC2および他の素子を含む画素はオンガラスで形成される。他の素子は従来の表示装置設計原則にしたがってオフガラスで形成される。オンガラス回路やデバイスは、表示装置ドライブや制御電子システム606などのオフガラス回路やデバイスに対して、インタフェース608を介して接続される。これらの表示装置ドライブや制御電子システム606はモニターハウジング604の内部に外部に搭載されるが、通常は、内部に収納され、これで、ユーザが1つ以上の(アナログまたはデジタル式の)ビデオや画像の発生源(たとえば、DVDプレーヤー610、コンピュータ612、ビデオもしくはデジタルカメラ614またはメモリカード616など)にプラグインして、画像やビデオを表示させる。こうする代わりにまたはこれに加えて、表示システム600は、TVチューナや受信機618または他の内部ジェネレータなどのシステム内の画像発生装置を含む。もちろん、表示用のデータをシステム600に送出するためのさまざまな他の有線式または無線式のインタフェースがある。スイッチングデバイスSW620は、どの発生源を表示するかを手動または自動的に選択するが、複数の発生源を、画像内画像技術を用いたりして同時に表示してもよい。本システムはまた、さまざまな形態の画像処理や強化をサポートする。
【0170】
上記は単に、撮像応用分野に対する表示技術の1応用例であり、本技術の主要な応用分野がフラットパネル表示装置ではあるが、この本発明の技術は、湾曲表面を持つ表示装置にも応用されることが理解されるであろう。この本発明の技術が適用される表示分野には限界がない。われわれが例としてリストアップすれば、情報機器、テレビモニター、CDプレーヤー、DVDプレーヤー、コンピュータモニター、コンピュータシステム、自動車計器パネル、航空機計器表示パネル、ビデオゲーム、携帯電話、個人向け携帯型情報通信機器(PDA)、電話、図形システム、印刷システム、スコアボードシステム、文書・画像スキャナ、エンターテインメントシステム、家庭用電化製品、コピー機や、GPSナビゲーション表示装置、動的アート表示デバイス、デジタルもしくはビデオカメラ、およびこれらの組み合わせがある。
【0171】
7.特徴の特定の組み合わせを持つ例の実施形態
さまざまな構造、デバイス、システム、アーキテクチャ、方法、手順およびコンピュータプログラムを本明細書中で説明し図面で解説した。本発明が、別個にまたはさまざまに組み合わせて利用可能な多くのさまざまな特徴や要素を提供することが本発明の説明に照らし合わせて理解されるであろう。この明細書のこのセクションでは、本発明の特徴と要素の特定の組み合わせを有するまたは必要とする一部の特定の実施形態を記載する。ここに記載するこれらの組み合わせは単に例示であり、このセクションや本明細書全体で説明する特徴や要素はどれでも別個にまたは組み合わせて使用される。また、詳細な説明で記載したセクションの見出しまたは小見出しは単に、読者に対する案内を意図するものであり、本発明のさまざまな態様、特徴および要素が本明細書全体にわたって記載されていることが理解されるであろう。
【0172】
1つの態様では、本発明は、長寿命の輝度フォードバック安定表示パネルのためのシステムと方法を提供する。第1の実施形態では、本発明は少なくとも1つの電子回路デバイスからおのおのが形成される複数の発光画素を有する表示デバイスと、外部画像発生源から生の入力画像信号を受信して、修正された画像信号を表示装置に入力する表示ドライバ回路と、少なくとも1つの表示デバイス輝度値を発生する表示輝度検出器と、少なくとも1つの表示デバイス輝度値を受信して、情報を表示ドライバ回路に通信する処理ロジックユニットであり、この表示ドライバ回路はこの通信される情報を用いて、生の入力画像信号から修正済みの画像信号を発生するための変換を発生する、前記処理ロジックユニットと、を備える安定フィードバック表示システムを提供する。
【0173】
本システムの第2の特定の実施形態では、おのおのの画素が、サンプル・ホールド回路と、サンプル・ホールド回路によって制御される電流発生源と、電流発生源から電流供給される光子放射デバイスと、光子放射デバイスからある分離距離内に配置され、光子放射デバイスが放射した光子を検出する輝度検出デバイスとを備える。
【0174】
第3の実施形態では、画素はおのおのが光子放射体と、画素内に配置された光子束累積装置とを備える。光子束累積装置は、指定時間中に光子放射体から光子の束をとらえ、とらえられた光子に反応して電気的特性が変化し、この時間中に途中で遮ぎられた光子を累積しまたはその数をカウントし、この指定時間中の累積光子束の全体を示す信号を発生する。第4の実施形態では、光子束累積装置は、光子束の変化や変動に反応して特定が変化したり変動したりする光デバイスから形成されたセンサーと、電荷を蓄積または減少するように適用された電荷蓄積デバイスと、センサーの抵抗率や伝導度の変化に反応して電荷蓄積デバイスに電荷を出力したりこれから電荷を除去したりする制御回路とを備える。第5の実施形態では、電荷蓄積デバイスはキャパシタである。第6の実施形態では、制御回路はトランジスタを備える。第7の実施形態では、光デバイスは、自身の表面に衝突する光子束が変化すると抵抗率や伝導度が変化する感光性抵抗体を備える。第8の実施形態では、光デバイスは、自身の表面に衝突する光子束の変動に応じて漏れ電流が増減する光ダイオードを備える。第9の実施形態では、この光ダイオードの漏れは、漏れ電圧、漏れ電流および漏れ電荷のなかの少なくとも1つを含む。第10の実施形態では、光デバイスは、光トランジスタの表面に衝突する光子束の変動に応じて電流が増減するこの光トランジスタを備える。
【0175】
本システムの別の実施形態では、輝度検出器は光子束累積装置を備えている。本システムの別の実施形態では、画素は、光子束累積装置と同じ画素内で光子放射デバイスが放射した光子束を累積する特定の光子束累積装置を備える。本システムの別の実施形態では、おのおのの光子束累積装置は、第1の回路ノードを第2の回路ノードから隔離し、また、出力ポート(ノード)を有する隔離スイッチングデバイスと、隔離スイッチングデバイスの出力ポート(ノード)に結合された入力部と電圧基準ノードに接続された出力部とを有する感光性ユニットと、隔離スイッチの第1のポートと結合された第1の電極と電圧基準ノードと結合された第2の電極とを有する電荷蓄積デバイスとを備える。本システムの別の実施形態では、電荷蓄積デバイスはキャパシタを備える。本システムの別の実施形態では、隔離スイッチはトランジスタを備える。本システムの別の実施形態では、隔離スイッチは、薄膜トランジスタ(TFT)として基板上に形成される。本システムの別の実施形態では、薄膜トランジスタはアモルファスシリコンから形成されている。本システムの別の実施形態では、薄膜トランジスタはポリシリコンから形成されている。本システムの別の実施形態では、薄膜トランジスタはセレン化カドミウムから形成されている。本システムの別の実施形態では、薄膜トランジスタはいずれかの半導体材料から形成されている。
【0176】
本システムの別の実施形態では、薄膜トランジスタはある材料で区画されたチャネルを含むが、この材料は、アモルファスシリコンチャネル、ポリシリコンチャネル、セレン化カドミウムチャネル、ガリウム砒素チャネルおよび他のいずれかの半導体材料で形成もしくは区画されたチャネルからなる材料の集合から選択される。
【0177】
本システムの別の実施形態では、表示デバイスは平面アレイ状に配置された複数の画素を含む。本システムの別の実施形態では、複数の個々の画素が行と列によってアドレス指定される。本システムの別の実施形態では、指定時間は行アドレス時間以下である。本システムの別の実施形態では、指定時間は行アドレス時間の0.01(1%)と行アドレス時間の間である。本システムの別の実施形態では、指定時間は行アドレス時間の0.1(10%)と行アドレス時間の間である。本システムの別の実施形態では、指定時間はフレーム時間以下である。本システムの別の実施形態では、指定時間は行アドレス時間の0.01より大きく、フレーム時間以下である。本システムの別の実施形態では、複数のフレーム時間に等しい。
【0178】
本システムの別の実施形態では、表示装置発光デバイスは有機発光ダイオード(OLED)である。本システムの別の実施形態では、有機発光ダイオード(OLED)は小分子OLEDである。本システムの別の実施形態では、有機発光ダイオード(OLED)はポリマーOLED(PLED)である。有機発光ダイオード(OLED)はフォスフォレセントOLED(PHOLED)である。本システムの別の実施形態では、有機発光ダイオード(OLED)は、単一または複数の層を成す有機材料および電極の何らかの組み合わせのなかのいずれかの材料から形成される。本システムの別の実施形態では、有機発光ダイオード(OLED)はアクティブマトリックスOLEDである。本システムの別の実施形態では、表示装置発光デバイスはエレクトロルミネセントデバイスである。本システムの別の実施形態では、表示装置発光デバイスはプラズマ発光デバイスである。本システムの別の実施形態では、表示装置発光デバイスは、いずれかの制御式光子放射デバイスである。本システムの別の実施形態では、アクティブマトリックスはアモルファスシリコンから形成されている。本システムの別の実施形態では、アクティブマトリックスはポリシリコンから形成されている。本システムの別の実施形態では、アクティブマトリックスはセレン化カドミウムから形成されている。本システムの別の実施形態では、アクティブマトリックスはいずれかのタイプの半導体材料から形成されている。
【0179】
別の態様では、本発明は、表示システムを安定させる方法を提供する。この方法は、少なくとも1つの電子回路デバイスからおのおのが形成される複数の発光画素を有する表示デバイスを提供するステップと、外部画像発生源から表示ドライバ回路によって生の入力画像信号を受信して、修正された画像信号を表示装置に入力するステップと、表示輝度を検出して、少なくとも1つの表示デバイス輝度値を発生するステップと、少なくとも1つの表示デバイス輝度値を処理ロジックユニットによって受信して、情報を表示ドライバ回路に通信し、この通信される情報を用いて、生の入力画像信号から修正済みの画像信号を発生するための変換を発生するステップとを含む。
【0180】
別の態様では、本発明は、発光性アクティブマトリックス表示デバイス中の各画素の輝度を個々に操作して制御する方法を提供する。本方法の1つの実施形態では、本発明は表示デバイス中の画素輝度を制御する方法を提供する。この方法は、デジタル画像階調レベル値と、デジタル階調レベル値に対応する画素の輝度を発生する表示駆動信号間の変換を記憶するステップと、特定の画素に対する目標階調レベルを特定するステップと、前記目標階調レベルに対応する表示駆動信号を格納済みの前記変換に基づいて発生して、第1の表示フレーム中に駆動信号によって前記特定の画素を駆動するステップと、第1の表示時間の終了時において前記特定の画素の輝度の実際の測定値を表すパラメータを測定するステップと、前記特定の画素に対して特定された目標輝度と実際の測定された輝度との間の差を決定するステップと、前記特定の画素の格納済み変換を決定された差に基づいて修正するステップと、修正された前記変換を記憶し、これを用いて、第1のフレーム時間に続くフレーム時間中に特定の画素に対する表示駆動信号を発生するステップとを含む。
【0181】
本方法の別の実施形態では、第1の表示フレームは、ソフトウエアプログラミングもしくは表示装置のユーザまたはこれらの組み合わせによって指定されたいずれかの表示フレームである。本方法の別の実施形態では、第1のフレームに続くフレーム時間は、いずれかの後続のフレーム時間である。本方法の別の実施形態では、第1の表示フレームは、ソフトウエアプログラミングもしくは表示装置のユーザまたはこれらの組み合わせによって指定されたいずれかの表示フレームである。本方法の別の実施形態では、第1の表示フレームは、1つの連続の期間または複数の不連続の期間からなっており、ここで、連続の期間または不連続の期間のどちらかが1つのフレーム時間または複数のフレーム時間にわたって発生する。本方法の別の実施形態では、修正された変換を記憶および/または使用して、特定の画素に対する表示駆動信号を発生するステップが、1つのフレームまたはさまざまなフレームのいずれかの後続の部分で発生する。本方法の別の実施形態では、修正された変換を記憶および/または使用して、特定の画素に対する表示駆動信号を発生するステップが、この1つの連続期間または複数の不連続期間のどちらかがで発生し、また、この連続期間または不連続期間のどちらかが、1つのフレーム時間または複数のフレーム時間にわたって発生する。本方法の別の実施形態では、修正された変換を記憶および/または使用して、特定の画素に対する表示駆動信号を発生するステップが、1つの連続期間または複数の不連続期間のどちらかがで発生し、また、この連続期間または不連続期間のどちらかが、1つのフレーム時間または複数のフレーム時間にわたって発生する。
【0182】
本方法の別の実施形態では、この記憶された変換は、表示システムの階調レベルロジック機能ブロックに記憶されている変換を含む。本方法の別の実施形態では、この記憶された変換は、表示デバイスのガンマテーブルに記憶されている変換を含む。本方法の別の実施形態では、第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表す測定されたパラメータは、電荷蓄積デバイスに累積または減少された電子の数に対応した電圧測定値を含む。本方法の別の実施形態では、第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表す測定されたパラメータは、電荷蓄積デバイスに累積または減少された電子の数に対応した電流測定値を含む。本方法の別の実施形態では、第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表す測定されたパラメータは、電荷蓄積デバイスに累積されまたは減少される電子の数に対応した電荷測定値を含む。本方法の別の実施形態では、電荷蓄積デバイスはキャパシタである。本方法の別の実施形態では、電子は、センサーに入射する光子の束に反応して変化する抵抗やコンダクタンスを有するセンサー素子の抵抗やコンダクタンスに比例して蓄積または流出される。本方法の別の実施形態では、この比例は正比例である。
【0183】
本方法の別の実施形態では、第1のフレーム時間に続くフレーム時間は次の後続フレーム時間である。本方法の別の実施形態では、第1のフレーム時間に続くフレーム時間はいずれかの後続フレーム時間である。本方法の別の実施形態では、第1のフレーム時間に続くフレーム時間は次の表示デバイスパワーオン時間である。本方法の別の実施形態では、第1のフレーム時間に続くフレーム時間は、所定のまたは動的に決定された時間間隔におけるフレーム時間である。本方法の別の実施形態では、表示デバイス中の各画素に対して異なった変換が記憶される。本方法の別の実施形態では、表示デバイス中の別個にアドレス指定可能な各画素に対して表示されるおのおのの異なった階調レベルに対して異なった変換が記憶される。本方法の別の実施形態では、第1の表示時間は、表示装置中で画素がオンである持続時間である。本方法の別の実施形態では、表示時間は、8ミリ秒と36ミリ秒の間の実質的に任意の時間である。本方法の別の実施形態では、表示時間は、10ミリ秒と20ミリ秒の間の実質的に任意の時間である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の一部は実質的に行アドレス時間を含む。本方法の別の実施形態では、指定された時間は行アドレス時間以下である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の一部は、行アドレス時間の0.01(1%)と行アドレス時間の間である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の一部は、行アドレス時間の0.1(10%)と行アドレス時間の間である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の一部はフレーム時間以下である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の一部は、行アドレス時間の0.01より大きくフレーム時間以下である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の一部は、フレーム時間の複数倍に等しい。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の一部は、行アドレス時間とフレームアドレス時間の間の時間を含む。
【0184】
本方法の別の実施形態では、第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表すパラメータを測定するステップは、周知の電圧に充電されたまたはこれから放電されたキャパシタ上に蓄積された電圧を測定するステップを含み、充電または放電の量は、特定の画素内の発光体から同じ特定の画素内のセンサーに放射された光子束に比例する。
【0185】
本方法の別の実施形態では、さらに、特定する前記ステップ、発生する前記ステップ、測定する前記ステップ、決定する前記ステップ、修正する前記ステップおよび使用する前記ステップは表示装置中のすべての画素に対して繰り返される。本方法の別の実施形態では、特定の画素に対する特定された目標輝度と実際の輝度測定値間の差の決定は、製造中または最初に用いられる際に実行される表示装置校正手順で決定される特定の画素センサー上の基準累積光子束に基づいている。本方法の別の実施形態では、本方法は、表示装置が表示するように指令されるすべての画素とすべての階調レベルに対して初期変換を決定して記憶する表示装置校正手順を含む。
【0186】
別の態様では、本発明は、表示デバイス中の画素の輝度を制御する制御システムを提供する。この制御システムは、
画素が表示することを指令される各画素と各階調レベルについての格納済み画素階調レベルから表示画素駆動信号への変換であって、前の表示フレーム期間中での表示装置画素の性能特性に基づいている変換と、
命令を受け取る制御部に応答して、特定の画素位置について特定の階調レベルを表示して、第1のフレーム時間中に前記格納済みの変換を用いて前記特定の画素に対して駆動信号を生成する表示駆動信号発生器と、
表示装置中の各々の別個の画素について、第1の表示時間の終了時に複数の特定の画素の各々の実際の輝度測定値を表すパラメータを測定する輝度測定回路と、
前記特定の画素に対する前記特定の目標輝度と実際の測定輝度の間の差を決定するコンパレータ回路と、
各々の特定の画素に対する前記格納済み変換を、決定された前記差に基づいて第1のフレーム時間の一部の間に修正する変換更新ロジックとを含み、
修正された変換を用いて、第1のフレーム時間に続く第2のフレーム時間の一部の間に前記特定の画素に対する前記表示駆動信号を発生する。
【0187】
この制御システムの別の実施形態では、格納済みの前記変換は、表示システムの階調レベルロジック機能ブロックに記憶されている変換を含む。本制御システムの別の実施形態では、この記憶された前記変換は、表示デバイスのガンマテーブルに記憶されている変換を含む。本制御システムの別の実施形態では、前記輝度測定回路は、第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表し、また、表示装置の各画素に対して別々に電荷蓄積デバイスに累積または減少された電子の数に対応した電流測定値を含むパラメータを測定する。本制御システムの別の実施形態では、前記電荷蓄積デバイスはキャパシタを含む。本制御システムの別の実施形態では、前記電子は、センサーに入射する光子の束に反応して変化する抵抗率や伝導率を有するセンサー素子の抵抗率や伝導率に比例して蓄積または減少される。本制御システムの別の実施形態では、この比例は正比例である。本制御システムの別の実施形態では、第1のフレーム時間の一部に続く第2のフレーム時間は、任意のまたは複数の後続フレーム時間の時間の一部である。本制御システムの別の実施形態では、第1のフレーム時間に続くフレーム時間は、次の表示デバイスパワーオン時間である。本制御システムの別の実施形態では、第1のフレーム時間に続くフレーム時間は、所定のまたは動的に決定された時間間隔におけるフレーム時間である。本制御システムの別の実施形態では、表示デバイス中の各画素に対して異なった変換が記憶される。本制御システムの別の実施形態では、表示デバイス中の別個にアドレス指定可能な各画素に対して表示されるおのおのの異なった階調レベルに対して異なった変換が記憶される。本制御システムの別の実施形態では、第1の表示時間は、表示装置中で画素がオンである持続時間である。
【0188】
本制御システムの別の実施形態では、表示時間は、8ミリ秒と36ミリ秒の間の実質的に任意の時間である。本制御システムの別の実施形態では、表示時間は、10ミリ秒と20ミリ秒の間の実質的に任意の時間である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の一部は実質的に行アドレス時間を含む。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の一部は、行アドレス時間とフレームアドレス時間の間の時間を含む。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の一部は、実質的に行アドレス時間を含む。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の一部は、行アドレス時間以下である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の一部は、行アドレス時間の0.01(1%)と行アドレス時間の間である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の一部は、行アドレス時間の0.1(10%)と行アドレス時間の間である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の一部はフレーム時間以下である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の一部は、行アドレス時間の0.01より大きくフレーム時間以下である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の一部は、フレーム時間の複数倍に等しい。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の一部は、行アドレス時間の0.01とフレーム時間の間の時間を含む。
【0189】
本制御システムの別の実施形態では、第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表すパラメータを測定するステップは、周知の電圧に充電されまたはこれから放電されたキャパシタ上に蓄積された電圧を測定するステップを含み、充電または放電の量は、特定の画素内の発光体から同じ特定の画素内のセンサーに放射された光子束に比例する。
【0190】
本制御システムの別の実施形態では、特定する前記ステップ、発生する前記ステップ、測定する前記ステップ、決定する前記ステップ、修正する前記ステップおよび使用する前記ステップは、表示装置中のすべての画素に対して繰り返される。本制御システムの別の実施形態では、特定の画素に対する特定された目標輝度と実際の輝度測定値間の差の決定は、製造中または最初に用いられる際に実行される表示装置校正手順で決定される特定の画素センサー上の基準累積光子束に基づいている。本制御システムの別の実施形態では、本制御システムは、表示装置が表示するように指令されるすべての画素とすべての階調レベルに対して初期変換を決定して記憶する表示装置校正手順をさらに含む。本制御システムの別の実施形態では、第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表す測定されたパラメータは、電荷蓄積デバイスに累積または減少された電子の数に対応した電流測定値を含む。本制御システムの別の実施形態では、第1の表示時間の終了時での特定の画素の実際の測定輝度を表す測定されたパラメータは、電荷蓄積デバイスに累積または減少された電子の数に対応した電荷測定値を含む。本制御システムの別の実施形態では、第1の表示フレームは、ソフトウエアプログラミングもしくは表示装置のユーザまたはこれらの組み合わせによって指定されたいずれかの表示フレームである。本制御システムの別の実施形態では、第1の表示フレームは、ソフトウエアプログラミングもしくは表示装置のユーザまたはこれらの組み合わせによって指定されたいずれかの表示フレームである。本制御システムの別の実施形態では、第1の表示フレームは、1つの連続の期間または複数の不連続の期間からなっており、ここで、連続の期間または不連続の期間のどちらかが1つのフレーム時間または複数のフレーム時間にわたって発生する。
【0191】
本制御システムの別の実施形態では、修正された変換を記憶および/または使用して、特定の画素に対する表示駆動信号を発生する前記ステップが、1つの連続の期間または複数の不連続の期間のいずれかの後続部分で適用される。本制御システムの別の実施形態では、修正された変換を記憶および/または使用して、特定の画素に対する表示駆動信号を発生する前記ステップが、1つの連続の期間または複数の不連続の期間のどちらかがで発生し、また、この連続の期間または不連続の期間のどちらかが、1つのフレーム時間または複数のフレーム時間にわたって発生する。本制御システムの別の実施形態では、修正された変換を記憶および/または使用して、特定の画素に対する表示駆動信号を発生する前記ステップが、1つの連続の期間または複数の不連続の期間のいずれかで発生し、また、この連続の期間または不連続の期間のどちらかが、1つのフレーム時間または複数のフレーム時間にわたって発生する。
【0192】
別の態様では、本発明は高性能安定アクティブマトリックス式発光表示装置を操作するフィードバック制御するシステムと方法を提供する。本方法の1つの実施形態では、本発明は複数の画素を有するアクティブマトリックスOLED表示デバイスまたは他の発光性表示デバイスを操作するシステムを提供する。このシステムは、
デジタル画像データの外部発生源に結合された階調レベルロジックであり、画像画素階調レベル値の第1の表現を同じ画像画素値の第2の表現に変換する変換を含む、階調レベルロジックと、
前記階調レベルロジックから入力を受信して、画像信号と制御信号を表示マトリックスの行選択ドライバ回路と列ドライバ回路に通信するように動作する表示装置コントローラであり、前記行選択ドライバ回路と前記列ドライバ回路は、複数の画素に対してフレーム時間中に画像が表示させ、前記複数の画素のおのおのが、画素光子束放射体と、画素表示フレーム時間の一部で前記放射体からの放射済み光子束の少なくとも一部を累積して、累積された光子束を示す出力信号を発生する画素光子束レセプタとを含む、前記表示装置コントローラと、
前記複数の画素のおのおのに対する校正値と、画素によって表示される各画素値とを格納する校正メモリと、
前記複数の画素のおのおのと前記校正メモリとから出力信号を受信して、受信した出力信号を前記校正メモリからのこれらに対応する複数の信号と比較して、画素ごとに差分信号を計算するコンパレータと、
前記コンパレータから差分信号を受信して、少なくとも校正値と測定値が異なる画素位置と画素階調レベル値とについて前記諧調レベルロジックの前記変換の変更を指示する画素偏差ロジックと
を備える。
【0193】
本システムの別の実施形態では、画素偏差ロジックは、画素輝度の校正値と画素輝度の測定値間の偏差を記憶する画素偏差メモリを含む。本システムの別の実施形態では、前記偏差値は電圧値であり、累積された光子束を示す前記出力信号は電圧であり、前記コンパレータは電圧比較回路である。本システムの別の実施形態では、前記校正値は電流値であり、累積された光子束を示す前記出力信号は電流であり、前記コンパレータは電流ベースの電荷アンプ/インピーダンス変換回路である。本システムの別の実施形態では、前記校正値は電荷値であり、累積された光子束を示す前記出力信号は電荷であり、前記コンパレータは電荷ベースの比較回路である。本システムの別の実施形態では、前記校正値は電圧値であり、累積された光子束を示す前記出力信号は電荷であり、前記コンパレータは電圧比較回路である。
【0194】
本システムの別の実施形態では、累積された光子束を示す前記出力信号はアナログ信号であり、本システムは、さらに、画素表示フレーム時間の一部中でアナログ信号を画素ごとの累積光子束を表す電圧としてサンプルして、このサンプルされた信号をデジタル値に変換されるように保持するサンプル・ホールド回路と、サンプルし保持された前記アナログ信号をデジタル値に変換するアナログ/デジタルコンバータと、アナログ/デジタルコンバータに結合されており、前記デジタル値を受信してこれを前記コンパレータに対して所定のフォーマットと順序で通信するマルチプレクサとを備える。
【0195】
本システムの別の実施形態では、さらに、累積された光子束を示す出力信号はアナログ信号であり、本システムは、画素表示フレーム時間の一部中でアナログ信号を画素ごとの累積光子束を表す電圧としてサンプルして、このサンプルされた信号を保持するサンプル・ホールド回路と、前記サンプル・ホールド回路に結合されており、サンプルされ保持されたアナログ信号値を受信するマルチプレクサと、前記マルチプレクサから受信したサンプルされ保持されたアナログ信号を変換し、アナログ値をデジタル値に変換して、これをコンパレータに対して所定のフォーマットと順序で通信するアナログ/デジタルコンバータを備える。
【0196】
本システムの別の実施形態では、本システムは、さらに、デジタル画像データの外部発生源を備える。本システムの別の実施形態では、前記外部発生源は、デジタル画像データまたはアナログデータとの組み合わせの発生源と画像アナログ/デジタルコンバータを備える。
【0197】
本システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は行アドレス時間以下の時間期間を含む。本システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、実質的にフレーム時間全体を含む。本システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部はフレーム時間全体の少なくとも50%を含む。本システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部はフレーム時間全体の少なくとも90%から100%を含む。本システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は少なくとも1ミリ秒を含む。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、実質的に行アドレス時間を含む。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間とフレーム時間の間の時間を含む。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、実質的に行アドレス時間を含む。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、実質的に行アドレス時間以下の時間を含む。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01(1%)と行アドレス時間の間である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.1(10%)と行アドレス時間の間である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間以下である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01より大きくフレーム時間以下である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間の複数倍である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01と行アドレス時間の間である。
【0198】
別の実施形態では、本発明は複数の画素を有するアクティブマトリックス表示デバイスを操作する方法を提供する。この方法は、
各画素の校正値とこの画素の各々によって表示される各々の階調レベル値とを校正メモリに記憶するステップと、
表示装置中の画素ごとに、また、この画素の各々で表示される階調レベルごとに画像階調レベル値の第1の表現を同じ画像階調レベル画素値の第2の表現に変換する変換を変換メモリに格納するステップと、
外部発生源からの複数の画素に対する画像画素階調レベル値の第1の階調レベル表現を受信するステップと、
格納されている変換にしたがって画素ごとに第1の階調レベル表現を等しい数の第2の階調レベル表現に変換するステップと、
画像階調レベル画素値の第2の表現にしたがって現在の表示フレーム時間中にマトリックス表示デバイス中の画素素子を駆動するための画像データ信号と制御信号を発生するステップと、
現在の表示フレーム時間の一部中で表示装置中の複数の画素のおのおの上の累積光子束を示す表示装置中の複数の画素のおのおのに対する累積光子束信号を発生するステップと、
画素1つずつ、画素ごとに指令された階調レベルに対する複数の累積光子束信号を同じ階調レベルの校正値と比較して、指令された階調レベルと測定された階調レベル間の差を示す複数の比較結果を発生するステップと、
画素ごとになんらかの偏差を比較結果に基づいて特定して、少なくとも画素位置と校正値と測定値に差があるような画素階調レベル値に対して後続の表示フレーム時間中に適用される格納済み変換の変化を出力するステップと、を含む。
【0199】
本方法の1つの実施形態では、前記偏差特定ステップは、校正された画素輝度値と測定された画素輝度値の画素偏差を画素偏差メモリに記憶するステップを含む。
【0200】
本方法の1つの実施形態では、前記校正値は電圧値であり、前記累積光子束値は電圧であり、また、この比較は電圧比較である。本方法の1つの実施形態では、前記校正値は電流値であり、前記累積光子束値は電流であり、また、この比較は電流比較を含む。本方法の1つの実施形態では、前記校正値は電荷値であり、前記累積光子束値は電荷であり、また、この比較は電荷比較を含む。
【0201】
本方法の1つの実施形態では、前記累積光子束値はアナログ信号であり、本方法は、さらに、画素表示フレーム時間の一部中で画素1つ当たりの累積光子束を表す電圧としてアナログ信号をサンプルして、このサンプルされた信号をデジタル信号に変換するために保持するステップと、サンプルされたアナログ信号をデジタル信号に変換するステップと、を含む。
【0202】
本方法の1つの実施形態では、前記累積光子束値はアナログ信号であり、本方法は、さらに、画素表示フレーム時間の一部中で画素1つ当たりの累積光子束を表す電荷としてアナログ信号をサンプルして、このサンプルされた信号をデジタル信号に変換するために保持するステップと、サンプルされたアナログ信号をデジタル信号に変換するステップとを含む。
【0203】
本方法の1つの実施形態では、前記累積光子束値はアナログ信号であり、本方法は、さらに、画素表示フレーム時間の一部中で画素1つ当たりの累積光子束を表す電流としてアナログ信号をサンプルして、このサンプルされた信号をデジタル信号に変換するために保持するステップと、サンプルされたアナログ信号をデジタル信号に変換するステップとを含む。
【0204】
本方法の1つの実施形態では、本方法は、さらに、複数の画素に対して画像画素階調レベル値の第1の階調レベル表現を発生するステップを含む。本方法の1つの実施形態では、前記デジタル画像データは、デジタル画像データまたはアナログ/デジタルコンバータによってデジタルデータに変換されるアナログ画像データを含む。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は行アドレス時間以下の時間を含む。
【0205】
本システムの1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は、実質的にフレーム時間全体を含む。本システムの1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部はフレーム時間全体の少なくとも50%を含む。本システムの1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部はフレーム時間全体の少なくとも90%から100%を含む。本システムの1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は少なくとも1ミリ秒を含む。本制御システムの別の実施形態では、行アドレス時間とフレーム時間の間の時間を含む。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、実質的に行アドレス時間を含む。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間以下の時間を含む。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01(1%)と行アドレス時間の間である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.1(10%)と行アドレス時間の間である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間以下である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01より大きくフレーム時間以下である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間の複数倍である。本制御システムの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01と行アドレス時間の間である。
【0206】
本方法の別の実施形態では、後続の表示フレーム時間は、現在の表示フレーム時間に続く次の表示時間である。本方法の別の実施形態では、後続の表示フレーム時間は、現在の表示フレーム時間に続くいずれかの表示フレーム時間である。本方法の別の実施形態では、後続の表示フレーム時間は、表示装置の初期化時またはパワーオン時でのフレーム時間である。本方法の別の実施形態では、画像データ信号と制御信号は表示マトリックスの行と列を含み、また、制御信号と駆動信号は、複数の画素に対するフレーム時間中に画像を表示させるように動作する。
【0207】
本方法の別の実施形態では、前記画素はアモルファスシリコンから形成された少なくとも1つの薄膜トランジスタを含む。本方法の別の実施形態では、前記画素はポリシリコンから形成された少なくとも1つの薄膜トランジスタを含む。本方法の別の実施形態では、前記画素はセレン化カドミウムから形成された少なくとも1つの薄膜トランジスタを含む。本方法の別の実施形態では、前記画素は半導体材料から形成された少なくとも1つの薄膜トランジスタを含む。
【0208】
本方法の別の実施形態では、現在の表示フレーム時間の前記一部は行アドレス時間以下である。本方法の別の実施形態では、現在の表示フレーム時間の前記一部は、フレーム時間以下である。本方法の別の実施形態では、現在の表示フレーム時間の前記一部は、フレーム時間の複数倍に等しい。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は、実質的にフレーム時間全体を含む。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間全体の少なくとも50%を含む。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間全体の少なくとも90%から100%を含む。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は、少なくとも1ミリ秒を含む。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間とフレーム時間の間の時間を含む。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、実質的に行アドレス時間を含む。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間以下である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01(1%)と行アドレス時間の間である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.1(10%)と行アドレス時間の間である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間以下である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01より大きくフレーム時間以下である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間の複数倍である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01と行アドレス時間の間である。
【0209】
本方法の別の実施形態では、前記表示デバイスは有機発光ダイオード(OLED)画素表示デバイスである。本方法の別の実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、小分子OLEDである。本方法の別の実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、ポリマーOLED(PLED)である。本方法の別の実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、燐光性OLED(PHOLED)である。本方法の別の実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、単一または複数層の有機材料と電極とのいずれかの組み合わせという形態のいずれかの有機材料から形成される。本方法の別の実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、アクティブマトリックスOLEDである。本方法の別の実施形態では、前記表示デバイスは、エレクトロルミネセントデバイスである。本方法の別の実施形態では、前記表示デバイスは、プラズマ発光デバイスである。本方法の別の実施形態では、前記表示デバイスは、いずれかの制御可能光子放射デバイスである。本方法の別の実施形態では、前記アクティブマトリックス表示デバイスは、アモルファスシリコンから形成されている。本方法の別の実施形態では、前記アクティブマトリックス表示デバイスは、ポリシリコンから形成されている。本方法の別の実施形態では、前記アクティブマトリックス表示デバイスは、セレン化カドミウムから形成されている。本方法の別の実施形態では、前記アクティブマトリックス表示デバイスは、いずれかのタイプの半導体材料から形成されている。
【0210】
別の態様では、本発明は、フィードバックで安定化されたフラットパネル表示のためのアクティブマトリックス表示装置と画素構造を提供する。1つの実施形態では、本発明は累積輝度センサーを有する発光画素デバイスを提供する。この画素デバイスは、発光デバイスと、この発光デバイスを画像電圧に対応する所定の輝度にまで駆動する電流を発生して、駆動電流をフレーム時間中に前記発光デバイスに入力する駆動回路と、前記発光デバイスの近傍に配置された入射光子束の変化に反応して電気的特性の変化を示して、前記発光デバイスが発光状態にあるときに測定可能な光子をとらえる光センサーと、この光センサーと結合しており、電荷を蓄積もしくは減少して、容量電荷およびこの電荷に比例する電圧を一時に示す電荷蓄積デバイスと、フレーム時間の少なくとも一部において前記センサーの電気的特性の変化に反応して前記電荷蓄積デバイスの充電および放電を制御する制御回路または他の制御手段とを備える。
【0211】
本デバイスの1つの実施形態では、本デバイスは、さらに、表示フレーム時間の少なくとも一部の終了時で前記電荷蓄積デバイスの両端の電圧を測定する電圧読取回路を備え、この測定された電圧はこのフレーム時間の一部の間での画素の測定輝度を示す。
【0212】
本デバイスの別の実施形態では、本デバイスは、さらに、表示フレーム時間の少なくとも一部の終了時で前記電荷蓄積デバイスからの電流を測定する電流読取回路を備え、この測定された電流はこのフレーム時間の一部の間での画素の測定輝度を示す。
【0213】
本デバイスの別の実施形態では、本デバイスは、さらに、表示フレーム時間の少なくとも一部の終了時で前記電荷蓄積デバイス上の電荷を測定する電荷読取回路を備え、この測定された電荷はこのフレーム時間の一部の間での画素の測定輝度を示す。
【0214】
本デバイスの別の実施形態では、本デバイスは、さらに、後続のフレーム時間中に画素駆動回路に修正値を入力し、これで、この後続フレーム時間中の測定輝度がフレーム測定時間中の場合より基準輝度からの変動が小さくなるようにするフィードバック制御回路を備える。
【0215】
本デバイスの1つの実施形態では、前記電荷蓄積デバイスの両端の電圧は、制御回路が前記電荷蓄積デバイスの充電または放電をすることが許容されているフレーム時間の一部の間における累積された光子束を表している。
【0216】
本デバイスの別の実施形態では、前記電圧読取回路は、さらに、前記電荷蓄積デバイスの両端の電圧と目標輝度に対応する基準電圧とを受け取って、目標輝度と測定輝度間の差を表す差分信号を発生する電圧コンパレータ回路を備える。本デバイスの別の実施形態では、前記電流読取回路は、さらに、前記電荷蓄積デバイスからの電流と目標輝度に対応する基準電流とを受け取って、目標輝度と測定輝度間の差を表す差分信号を発生する電流コンパレータ回路を備える。本デバイスの別の実施形態では、前記電荷読取回路は、さらに、前記電荷蓄積デバイス上の電荷と目標輝度に対応する基準電荷とを受け取って、目標輝度と測定輝度間の差を表す差分信号を発生する電荷コンパレータ回路を備える。本デバイスの別の実施形態では、前記読取回路は、電荷増幅回路を有する電荷アンプ/トランスインピーダンス増幅器として構成されている。本デバイスの別の実施形態では、前記電荷アンプ/トランスインピーダンス増幅器は、蓄積キャパシタを完全充電電圧にまで再充電するために必要とされる電荷を測定し、電荷増幅回路の反転(-)入力部は少なくとも1ギガオームという抵抗値を有し、電荷増幅回路の出力部は約0~100オームという抵抗値を有する。本デバイスの別の実施形態では、前記電荷増幅回路の出力の抵抗は、実質的に0~10オームのである。本デバイスの別の実施形態では、前記制御回路は少なくとも1つのトランジスタを備える。本デバイスの別の実施形態では、前記電荷蓄積デバイスは少なくとも1つのキャパシタを備える。本デバイスの別の実施形態では、前記電荷蓄積デバイスは複数のキャパシタを備える。本デバイスの別の実施形態では、前記センサーデバイスは、自身に入射する光子の数にしたがって抵抗またはコンダクタンスが変動する光抵抗性デバイスまたは光伝導性デバイスを備える。本デバイスの別の実施形態では、前記発光デバイスは光子を放射する。本デバイスの別の実施形態では、前記発光デバイスは発光ダイオードを備える。本デバイスの別の実施形態では、前記発光デバイスは有機発光ダイオードを備える。本デバイスの別の実施形態では、前記発光デバイスは無機発光ダイオードを備える。本デバイスの別の実施形態では、前記発光デバイスは、行と列として配置された2次元アレイとして配置された複数の発光デバイスのうちの1つである。本デバイスの別の実施形態では、前記発光デバイスは発光ダイオードを備える。
【0217】
本デバイスの別の実施形態では、前記発光デバイスは、有機発光ダイオードを備える。本デバイスの別の実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、小分子OLEDである。本デバイスの別の実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、ポリマーOLED(PLED)である。本デバイスの別の実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、燐光性OLED(PHOLED)である。本デバイスの別の実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、単一または複数層の有機材料と電極とのいずれかの組み合わせという形態のいずれかの有機材料から形成される。本デバイスの別の実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、アクティブマトリックスOLEDである。本デバイスの別の実施形態では、前記表示デバイスは、エレクトロルミネセントデバイスである。本デバイスの別の実施形態では、前記表示デバイスは、プラズマ発光デバイスである。本デバイスの別の実施形態では、前記表示デバイスは、いずれかの制御可能光子放射デバイスである。
【0218】
本デバイスの別の実施形態では、前記アクティブマトリックス表示デバイスは、アモルファスシリコンから形成されている。本デバイスの別の実施形態では、前記アクティブマトリックス表示デバイスは、ポリシリコンから形成されている。本デバイスの別の実施形態では、前記アクティブマトリックス表示デバイスは、セレン化カドミウムから形成されている。本デバイスの別の実施形態では、前記アクティブマトリックス表示デバイスは、いずれかのタイプの半導体材料から形成されている。
【0219】
本デバイスの別の実施形態では、前記光センサー素子は抵抗部品を含むが、抵抗は入射する光子束に比例して変化する。本デバイスの別の実施形態では、前記光センサー素子は、入射する光子束に反応して抵抗および/またはコンダクタンスが変化する光ダイオードを含む。本デバイスの別の実施形態では、前記光センサーは、入射する光子束に反応して抵抗および/またはコンダクタンスが変化する光トランジスタを含む。本デバイスの別の実施形態では、前記光センサーは、発光デバイスが放射した光子をとらえて、これを電荷担体に変換して、前記センサーの材料をより良好な電流伝導体とし、これで、抵抗を下げている。本デバイスの別の実施形態では、前記光センサーの抵抗が低いため、センサーの2端子抵抗部品と並列に結合されているキャパシタ上に蓄積された電荷を排出する。本デバイスの別の実施形態では、前記画素回路は、抵抗部品とキャパシタを有するセンサーを備える光子束カウントインテグレータを含む。本デバイスの別の実施形態では、排出される電荷の量は、フレーム時間中に前記センサーに入射する光子の数に比例し、また、フレーム時間の一部の終了時での前記キャパシタ上の電圧は、フレーム時間の一部中にカウントもしくは累積された光子の示度である。
【0220】
本デバイスの別の実施形態では、特定の輝度レベルは前記センサー中に光電流を発生させ、この光電流の大きさが輝度(センサー中の光子束)を示す。本デバイスの別の実施形態では、前記光電流は輝度に比例する。本デバイスの別の実施形態では、前記光電流は輝度に正比例する。本デバイスの別の実施形態では、前記感光性素子が発光ダイオードと同じ画素中に配置される。本デバイスの別の実施形態では、前記感光性素子は発光ダイオードと一体化され、これで、発光ダイオードが放射したすべてまたは実質的にすべての光子束が感光性素子に入射するようにする。本デバイスの別の実施形態では、前記感光性素子は、前記発光デバイスの陽極側の半導体と物理的に接触して置かれる表面または層を有する。
【0221】
本デバイスの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間以下を含む。本デバイスの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、実質的にフレーム時間全体を含む。本デバイスの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部はフレーム時間全体の少なくとも50%を含む。本デバイスの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部はフレーム時間全体の少なくとも90%から100%を含む。本デバイスの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は少なくとも1ミリ秒を含む。本デバイスの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間以下を含む。本デバイスの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間とフレーム時間の間の時間を含む。本デバイスの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、実質的に行アドレス時間を含む。本デバイスの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間以下の時間を含む。本デバイスの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01(1%)と行アドレス時間の間である。本デバイスの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.1(10%)と行アドレス時間の間である。本デバイスの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間以下である。本デバイスの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01より大きくフレーム時間以下である。本デバイスの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間の複数倍である。本デバイスの別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01と行アドレス時間の間である。
【0222】
別の態様では、本発明は累積輝度センサーを有する発光画素デバイスを操作する方法を提供する。本方法は、前記発光デバイスを画像電圧に対応する所定の輝度にまで駆動する電流を発生して、駆動電流をフレーム時間中に発光デバイスに印加するステップと、
前記センサーと結合しており、電荷を蓄積もしくは減少して、容量電荷およびこの電荷に比例する電圧を一時に示す電荷蓄積デバイスと、入射光子束の変化に反応して電気的特性が変化する光センサーを発光ダイオードが放射した光子に対してフレーム時間中に暴露するステップと、センサーと結合している電荷蓄積デバイスに電荷を蓄積(充電)したりこれから排出(放電)したりするステップであって、このセンサーはフレーム時間中での電荷の蓄積や減少の速度を制御する部品を含むステップと、フレーム時間の一部の終了時に前記電荷蓄積デバイス上に存在する電荷によって生じる電圧を測定するステップであって、測定された電圧がフレーム時間の前記一部の間での実際の輝度を示すステップと、この輝度と関連する測定電圧を画素発光体画像電圧と画素発光体駆動電流に対する基準目標輝度と比較して、差分値を発生するステップと、この差分値をフィードバック入力として修正回路に印加し、この修正回路が、同じ画素に対する画像電圧と駆動電流を後続のフレーム時間中に修正するステップとを含む。
【0223】
本方法の1つの実施形態では、発光デバイスは無機発光ダイオードを含む。本方法の1つの実施形態では、前記発光デバイスは有機発光ダイオード(OLED)を含む。本方法の1つの実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は小分子OLEDである。本方法の1つの実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)はポリマーOLED(PLED)である。本方法の1つの実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)はフォスフォレセントOLED(PHOLED)である。本方法の1つの実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、単一または複数の層を成す有機材料および電極の何らかの組み合わせ中のいずれかの材料から形成される。本方法の1つの実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)はアクティブマトリックスOLEDである。本方法の1つの実施形態では、前記表示発光デバイスはエレクトロルミネセントデバイスである。本方法の1つの実施形態では、前記表示発光デバイスはプラズマ発光デバイスである。本方法の1つの実施形態では、前記表示発光デバイスは、いずれかの制御式光子放射デバイスである。
【0224】
本方法の1つの実施形態では、前記アクティブマトリックスはアモルファスシリコンから形成されている。本方法の1つの実施形態では、前記アクティブマトリックスはポリシリコンから形成されている。本方法の1つの実施形態では、前記アクティブマトリックスはセレン化カドミウムから形成されている。本方法の1つの実施形態では、前記アクティブマトリックスはいずれかのタイプの半導体材料から形成されている。
【0225】
本方法の1つの実施形態では、前記光センサーは、前記発光デバイスが放射した光子を途中で遮って、これを電荷担体に変換して、前記センサーの材料をより良好な電流伝導体とし、これで、抵抗を下げている。本方法の1つの実施形態では、蓄積または排出される電荷の量は、フレーム時間の一部中に前記センサーに入射する光子の数に比例し、また、フレーム時間の前記一部の終了時での前記キャパシタ上の電圧は、フレーム時間の一部中にカウントもしくは累積された光子の示度である。本方法の1つの実施形態では、特定の輝度レベルはセンサー中に光電流を発生させ、この光電流の大きさが輝度(センサー中の光子束)を示す。本方法の1つの実施形態では、前記光センサー素子は発光ダイオードと同じ画素中に配置される。
【0226】
本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間以下を含む。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は、実質的にフレーム時間全体を含む。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部はフレーム時間全体の少なくとも50%を含む。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部はフレーム時間全体の少なくとも90%から100%を含む。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は少なくとも1ミリ秒を含む。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間以下を含む。
【0227】
本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間とフレーム時間の間の時間を含む。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、実質的に行アドレス時間を含む。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間以下の時間を含む。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01(1%)と行アドレス時間の間である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.1(10%)と行アドレス時間の間である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間以下である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01より大きくフレーム時間以下である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間の複数倍である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01と行アドレス時間の間である。
【0228】
別の態様では、本発明は自己校正形発光画素を操作するデバイスと方法を提供する。1つの実施形態で、本発明は自己校正形画素を操作する発光画素デバイスと方法を提供する。この方法は、センサーキャパシタを所定の開始電圧に設定するステップと、電流を光子放射デバイスに送出して、光子を所定の目標光子放射レベルで放射させるステップと、センサー上の光子束にしたがって変動する電気的特性を有するセンサーを表示フレーム時間の少なくとも1部分の間に放射済みの光子に露光するステップと、センサーキャパシタに、センサーを介して所定の開始状態から充電もしくは放電させて、フレーム時間の1部およびフレーム時間の1部中でのセンサーの抵抗値によってセンサーキャパシタ上の電荷の量が決定されるようにするステップと、フレーム時間の1部の終了時におけるセンサーキャパシタ上の残留している電圧もしくは電荷を累積光子束と画素の輝度の表示として測定するステップと、測定された電圧をフィードバックパラメータとして用いて、いずれかの後続の表示フレーム時間中に画素に印加される画像電圧および/または電流を修正するステップと、を含む。
【0229】
本方法の1つの実施形態では、前記センサーは光抵抗性デバイスを備える。本方法の1つの実施形態では、前記センサーは光伝導性デバイスを備える。本方法の1つの実施形態では、前記センサーは、光ダイオード、光抵抗体、光伝導体および光トランジスタの内の少なくとも1つを備える。本方法の1つの実施形態では、前記センサーは光トランジスタを備える。本方法の1つの実施形態では、前記センサーは光ダイオードを備える。本方法の1つの実施形態では、キャパシタ開始電圧設定値は、前記センサーキャパシタを所定の充電電圧に充電することによって設定される。本方法の1つの実施形態では、前記キャパシタ開始電圧設定値は、実質的にゼロボルトに設定される。本方法の1つの実施形態では、所定のキャパシタ開始電圧は、ある電圧の値を有する非ゼロ電圧である。本方法の1つの実施形態では、所定の非ゼロ開始電圧に充電され次に放電されたセンサーキャパシタの場合、センサーキャパシタの両端に残っている差分電圧は、フレーム時間中の累積光子束の全体量を示す。
【0230】
本方法の1実施形態では、実質的にゼロボルトで放電されたまたは別の電圧で充電され次にフレーム累積時間の一部中に充電されたセンサーキャパシタの場合、センサーキャパシタ上の開始電圧と終了電圧間の差はフレーム時間の前記一部中の光子累積束の総量を示す。
【0231】
本方法の1実施形態では、さらに、後続の表示フレーム時間中に同じ画素と階調レベルに印加される画像電圧と電流を修正するステップは、測定されたセンサーキャパシタ電圧をメモリに記憶されている基準校正電圧と比較してこれらの電圧間の差を用いて修正値を発生するステップを含む。
【0232】
本方法の1実施形態では、本方法は、2次元アクティブマトリックス画素アレイの各画素に対して実質的に並列に実行される。
【0233】
本方法の1実施形態では、送出電流は、電圧を制御デバイスに印加し、このデバイスがこの電圧に対応する電流を光子放射デバイスに送出して、光子を所定の目標光子放射レベルで放射させることによって送出される。
【0234】
本方法の1実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間以下を含む。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は、実質的にフレーム時間全体を含む。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部はフレーム時間全体の少なくとも50%を含む。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部はフレーム時間全体の少なくとも90%から100%を含む。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は少なくとも1ミリ秒を含む。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間以下である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01(1%)と行アドレス時間の間である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.1(10%)と行アドレス時間の間である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間以下である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01より大きくフレーム時間以下である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間の複数倍である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01とフレーム時間の間の時間を含む。
【0235】
本方法の1つの実施形態では、本方法は、さらに、センサーと結合しているキャパシタを、トランジスタとキャパシタ充電電圧源によってセンサーラインを介して累積フレーム時間に先立って第1の所定の電圧に充電するステップを含む。本方法の1つの実施形態では、前記キャパシタ充電電圧はセンサーライン上で印加され、するとこのセンサーラインは、センサーキャパシタ電圧が測定されているときまたはセンサーキャパシタが再充電されていて、電圧が高度に安定しており変動していないときに電流を流すだけである。
【0236】
別の態様では、本発明は、コンピュータ、情報機器およびエンターテインメントシステム用の高性能発光表示デバイスを提供する。1つの実施形態では、本発明は各画素が有機発光ダイオード発光体を含む2次元アレイとして配置された複数のアクティブマトリックス画素を備えるフラットパネルまたは表示デバイスと、各画素に対する入力画像データを受信して、フレーム時間中に、対応する目標画素輝度を発生する意図を持つ画素駆動信号を発生する発光体駆動回路と、測定値表示フレーム時間の1部で、各画素の実際の輝度を示す電気的パラメータを測定する発光体輝度センサーおよび測定回路と、画素輝度関連の電気的パラメータを画素ごとに受信して、測定表示フレーム時間に続くフレーム時間に画素ごとの入力画像データに対して適用される修正値を目標画素輝度と画素輝度測定値の差に基づいて発生する、表示装置と結合している表示ロジックと、を備える情報機器を提供する。
【0237】
1つの実施形態では、この情報機器は、テレビモニター、テレビ受信装置、CDプレーヤー、DVDプレーヤー、コンピュータモニターもしくは表示装置、コンピュータシステム、自動車計器パネル、航空機計器表示パネル、ビデオゲーム、携帯電話、個人向け携帯型情報通信機器(PDA)、電話、図形システム、印刷システム、スコアボードシステム、エンターテインメントシステム、家庭内もしくは電化製品、コピー機、GPSナビゲーション表示装置、動的アート表示デバイス、カメラ、およびこれらの組み合わせの内の少なくとも1つをさらに備える。
【0238】
この情報機器の1つの実施形態では、画素のおのおのが発光デバイスと、前記発光デバイスを画像電圧に対応する所定の輝度にまで駆動する電流を発生して、駆動電流をフレーム時間中に前記発光デバイスに印加する駆動回路と、前記発光デバイスの近傍に配置された入射光子束の変化に反応して電気的特性の変化を示して、前記発光デバイスが発光状態にあるときに測定可能な光子束を途中で遮ぎる光センサーと、前記センサーと結合して、電荷を蓄積もしくは減少して、容量電荷およびこの電荷に比例する電圧を一時に示す電荷蓄積デバイスと、フレーム時間の少なくとも一部において前記センサーの電気的特性の変化に反応して前記電荷蓄積デバイスの充電および放電を制御する制御回路と、表示フレーム時間の少なくとも一部の終了時に前記電荷蓄積デバイスの両端の電圧を測定し、測定された電圧がフレーム時間の前記一部の間での測定輝度を示す、電圧読取回路と、後続のフレーム時間中に前記画素駆動回路に修正値を入力し、これで、この後続フレーム時間中の測定輝度がフレーム測定時間中の場合より基準輝度からの変動が小さくなるようにするフィードバック制御回路とを備える。
【0239】
別の実施形態では、本発明は、各画素が発光ダイオード発光体と画素ごとの入力画像データを受信して、おのおののフレーム表示時間中に対応する目標画素輝度を発生する意図を持つ画素駆動信号を発生する発光体駆動回路とを含む、2次元アレイとして配置された複数のアクティブマトリックス画素を有するタイプの表示デバイスを操作する方法を提供する。この方法は、さらに、第1のフレーム時間の少なくとも一部中に発光体輝度測定回路によってとらえられた光子束を示す電圧を測定するステップと、測定輝度に対応する測定電圧を基準輝度に対応する基準電圧と比較して、差分信号を発生し、この差分信号を用いて、後続のフレーム表示時間中に画素ごとに入力画像データを修正し、これで、後続のフレーム表示時間中の画素輝度が基準輝度とほとんど等しくなるようにするステップと、を含むことを特徴とする。
【0240】
本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は行アドレス時間以下である。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は、実質的にフレーム時間全体である。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部はフレーム時間全体の少なくとも50%である。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部はフレーム時間全体の少なくとも90%から100%である。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は少なくとも1ミリ秒である。本方法の1つの実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間以下である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01(1%)と行アドレス時間の間である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.1(10%)と行アドレス時間の間である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間以下である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01より大きくフレーム時間以下である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、フレーム時間の複数倍である。本方法の別の実施形態では、フレーム時間の前記一部は、行アドレス時間の0.01と行アドレス時間の間である。
【0241】
本方法の1つの実施形態では、後続のフレーム表示時間は、第1の表示時間の直後のフレーム表示である。本方法の1つの実施形態では、後続のフレーム表示時間は、輝度が測定される第1のフレーム表示の後に所定数の表示フレームだけ続くフレーム表示である。ここで、所定数のフレームとはいずれかの整数(N)個のフレームのことである。本方法の1つの実施形態では、後続のフレーム表示時間は、所定のまたは動的に決定された事象の発生時のフレーム表示である。
【0242】
本方法の1つの実施形態では、所定のまたは動的に決定された事象の発生は、表示初期化事象、表示パワーオン事象、動作事象の表示時間、ユーザ初期化事象、いずれかの自動的ポリシーもしくはルールに基づいた事象およびこれらの組み合わせから選択される。
【0243】
本方法の1つの実施形態では、前記表示デバイスは、全体的なシステム中の1部品であるフラットパネル表示デバイスを備える。このシステムは、いずれかの情報機器、テレビモニター、CDプレーヤー、DVDプレーヤー、コンピュータモニター、コンピュータシステム、自動車計器パネル、航空機計器表示パネル、ビデオゲーム、携帯電話、個人向け携帯型情報通信機器(PDA)、電話、図形システム、印刷システム、スコアボードシステム、エンターテインメントシステム、家庭内もしくは電化製品、コピー機、GPSナビゲーション表示装置、動的アート表示デバイス、カメラ、およびこれらの組み合わせを含む複数のシステムの集合から選択される。
【0244】
本機器と方法の1つの実施形態では、前記発光デバイスは有機発光ダイオード(OLED)を備える。本機器と方法の1つの実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、小分子OLEDである。本機器と方法の1つの実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、ポリマーOLED(PLED)である。本機器と方法の1つの実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、燐光性OLED(PHOLED)である。本機器と方法の1つの実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、単一または複数層の有機材料と電極とのいずれかの組み合わせという形態のいずれかの有機材料から形成される。本機器と方法の1つの実施形態では、前記有機発光ダイオード(OLED)は、アクティブマトリックスOLEDである。本機器と方法の1つの実施形態では、前記発光デバイスは、エレクトロルミネセントデバイスである。本機器と方法の1つの実施形態では、前記発光デバイスは、プラズマ発光デバイスである。本機器と方法の1つの実施形態では、前記発光デバイスは、いずれかの制御可能光子放射デバイスである。
【0245】
本機器と方法の1つの実施形態では、前記表示デバイスは、アモルファスシリコンから形成されている。本機器と方法の1つの実施形態では、前記表示デバイスは、ポリシリコンから形成されている。本機器と方法の1つの実施形態では、前記表示デバイスは、セレン化カドミウムから形成されている。本機器と方法の1つの実施形態では、前記表示デバイスは、いずれかのタイプの半導体材料から形成されている。
【0246】
別の態様では、本発明は集積回路を提供する。1つの実施形態では、この集積回路は、累積された光子束と輝度の測定値を複数の表示画素から受信するサンプル・ホールド回路と、サンプルされ保持されたアナログ信号値を受信してこのアナログ信号をデジタル信号に変換するアナログ/デジタルコンバータと、画素ごとに、また、画素が表示することを必要とされる階調レベルの値ごとに基準値を記憶する校正値メモリと、特定の測定された画素輝度を示す変換されたデジタル信号値と、同じ画素に対する基準輝度を示す少なくとも1つの基準信号値の内の少なくとも一方を受信して、基準画素輝度からの測定画素輝度の偏差を示す基準信号を発生する少なくとも1つのコンパレータと、画素の偏差の指示を記憶する画素偏差メモリを含む画素偏差ロジックと、を備える。この集積回路の別の実施形態では、画素偏差メモリと校正値メモリは、共通の物理的メモリ内に論理的に区画されている。本集積回路の別の実施形態では、画素偏差メモリと校正値メモリは、互いに異なった物理的メモリ内に区画されている。
【0247】
いくつかの方法をかなり詳細に説明したが、これらの記述には、オプションとしてのデバイス、装置、システムおよび方法のステップ(特徴)が含まれ、これらを組み合わせることにより、引用される数より少ない特徴を実現して同じもしくは実質的に同じ結果が得られることが理解されるであろう。また、方法クレーム中のステップの順序を多くの例で修正すれば、同じもしくは実質的に同じ結果が得られること、また、回路やデバイスの接続性を、本発明の性能を達成しながらもしばしば修正できることが理解されるであろう。
本明細書に発明の具体的な実施形態を解説の目的で上述しているが、本発明の精神と範囲から逸脱することなく本発明はさまざまな修正がされ得ることが理解されるであろう。

SYSTEM AND METHOD FOR A HIGH-PERFORMANCE DISPLAY DEVICE HAVING INDIVIDUAL PIXEL LUMINANCE SENSING AND CONTROL

Related Applications
This application claims the benefit of priority under 35 U.S. C. 119 and/or 35 U.S.C. 120 to U.S. Provisional Patent Application Serial No. 60/583,744 filed on June 29, 2004, naming as inventors Damoder Reddy and W. Edward Naugler, Jr., and entitled High-Impedance to Low-Impedance Conversion System for Active Matrix Emission Feedback Stabilized Flat Panel Display, which application is incorporated by reference in its entirety. This application is also related to and claims the benefit of priority under 35 U.S.C. 120 to the following applications, each of which is hereby incorporated by reference: U.S. Utility Application No. 11/015,638 filed on December 17, 2004, and entitled Feedback Control System and Method for Operating a High-Performance Stabilized Active-Matrix Emissive Display; U.S. Utility Application No. 11/016,372 filed on December 17, 2004, and entitled Active-Matrix Display And Pixel Structure For Feedback Stabilized Flat Panel Display; U.S. Utility Application No. 11/016,164 filed on December 17, 2004 and entitled System And Method For A Long-Life Luminance Feedback Stabilized Display Panel; U.S. Utility Application No. 11/016,137 filed on December 17, 2004, and entitled Method For Operating And Individually Controlling The Luminance Of Each Pixel In An Emissive Active-Matrix Display Device; U.S. Utility Application No. 11/016,686 filed on December 17, 2004, and entitled Device And Method For Operating A Self-Calibrating Emissive Pixel, and U.S. Utility Application No. 11/016,357 filed on December 17, 2004, and entitled High-Performance Emissive Display Device For Computers, Information Appliances, And Entertainment Systems; each of which applications is hereby incorporated by reference.

FIELD OF THE INVENTION

This application pertains generally to emissive flat panel displays and more particularly to systems, devices and methods for making, calibrating, and operating emissive pixel flat panel displays to provide uniform light emission level and color over the surface of the display initially and throughout its operational life and to extend the operational life of such displays.

BACKGROUND Active matrix (AM) emissive displays and active matrix organic light emitting diode (AMOLED) displays in particular rely on current levels in the light emitting diode to produce luminance levels (light emission level) in a matrix of pixels (picture elements). Each pixel is a separate light emitting diode that is directly addressed and wherein each pixel has a sample and hold circuit so that a voltage can be applied to the Organic Light Emitting Diode (OLED) display driver continuously over the duration of the frame. The function of a flat panel display is to produce an image in various shades of light and dark in correspondence to voltage levels representing the original image, or an image created by computer software. These light and dark shades may form or generate colors when they are rendered as different pixel types such as in red, blue, and green through the use of different colored emissive pixels or diodes or through the use of same colored or white pixels and filters. Sometimes the set of three pixels used together to render a color by additive combination of their respective photon flux are referred to as subpixels, but in the description to follow, little distinction is made between pixels and subpixels as the subpixels are pixels in their own right and sets of pixels that are controlled as a set are merely cooperative sets of subpixels. Operation of sets of pixels or emitters to generate color are known in the art and not described in greater detail. The translation of the voltage image data into current generated OLED photon emission (flux) levels presents several complex issues involving the manufacture of the display and the aging of the display during operation and use by a user or consumer in the field. In the case of a typical conventional OLED display, an image or data voltage is placed on the gate of a power transistor (current source) in the display pixel, which feeds and controls the amount or magnitude of current to the OLED pixel. The higher the gate voltage is, the higher will be the current and therefore the brighter or more emissive will be the pixel. Typically voltages (the signal data) supplied to thin-film semiconductor transistors (TFTs) having source, drain, and gate terminals are used to control the current to the pixel emitter elements to render an appropriate gray level or pixel image luminance. The circuits, methods of control, and even materials heretofore used in conventional implementations have significant limitations so that OLED display panel performance has suffered and has limited the application of such OLED technology for larger high- performance displays at consumer acceptable price. A primary problem in such systems and devices is that it is conventionally extremely difficult if not impossible to produce uniform current from pixel-to-pixel in a display using voltage image data applied to TFTs in this manner. This problem becomes particularly acute as the displays become physically larger, have larger numbers of pixels, are driven to high current and luminance levels, and/or are operated either continuously or intermittently for longer periods of time (they age). This problem arises at least in part because the current delivered by a TFT at a particular gate voltage depends on many parameters, such as for example the TFT threshold voltage, the effective electron mobility, and current gain of the TFT device (which may vary from TFT device to TFT device as a result of manufacturing variations, environmental exposure during operation, and/or operational history. These three parameters (threshold voltage, effective electron mobility, and current gain) may in turn depend, for example, on inter-grain and intra-grain trap densities, semiconductor thickness, and semiconductor-to-gate dielectric trap densities. Other factors include: gate dielectric thickness, dielectric constant of the insulators, the TFT geometry, electron/hole mobilities, and other factors alone and in combination. Among the problems at issue are how voltages (e.g. TFT voltages) to be applied are determined and how that voltage is placed on the power TFT to give the right current level to produce the correct gray level. Some studies have suggested a particular way or ways to use a particular luminance of a pixel to correct the voltage supplied to the pixel power TFT (See for example, U.S. Patent No. 6,518,962 B2 by Kimura and assigned Seiko-Epson; U.S. Patent Nos. 6,542,138Bl and 6,489,631B2 assigned to Philips, and the paper by Eko T. Lisuwandi at MIT (See "Feedback Circuit for Organic LED Active-Matrix Display Drivers, by Eko T. Lisuwandi submitted to the Department of Electrical and Computer Science in Partial Fulfillment of the Requirements for Degrees of Master of Engineering in Electrical Engineering and Computer Science at the Massachusetts Institute of Technology, May 10, - A - 2002). However, these conventional attempts to improve OLED (or indeed other active emission display technologies) have not been entirely effective and are in one way or another flawed. For example, US 6,542,138 Bl (assigned to Philips) describes a method that at most attempts to make pixels tend to be uniform to some extent over a frame duration but does not describe or suggest that exact emission levels corresponding to a series of gray levels can be controlled. This invention described in this patent for example, uses a light sensitive discharge device across the signal hold capacitor that maintains the gate voltage on the OLED current driving TFT during the frame time. The photon emission from the OLED causes the ' light sensitive discharge device to discharge the voltage on the holding capacitor thus turning off the current driving TFT and thus extinguishing the OLED. The rate of extinguishment is dependent on the level of photon emission; therefore if the pixel over-produces photon emission the OLED will be extinguished faster than were the pixel to under-produce photon emission. As a further refinement of such a system, the photosensitive discharge device is a photo-transistor, the gate of which is controlled by the current passing through the OLED. The circuit is designed so that at high current through the OLED the photo-transistor is in the off condition because the voltage to the gate of the photo-transistor is close to ground due to the high OLED current, but the photo-transistor while in the off condition acts like a reverse biased photo-diode and the charge on the holding capacitor is slowly leaked to ground, causing the current through the OLED to be reduced as the current is reduced. Due to the declining voltage on the storage capacitor the voltage rises on the gate of the photo-transistor. When the current decrease to a certain point the threshold voltage of the photo-transistor is exceeded causing the photo-transistor to turn on and dump the remaining charge in the storage capacitor and thus shut off the OLED. The rapidity, and thus, the perceived luminance of the OLED is determined by the luminance level of the OLED. The higher the luminance of the OLED the faster is the OLED shut off. There are several objections to this approach. Firstly, the turning on of the photo- transistor to shut off the OLED depends on the threshold voltage of the photo-transistor. One of the problems that this approach is supposed to correct is the variable threshold voltages of the TFTs used in the pixel circuitry. This means that the time when the OLED is shut off will vary from pixel to pixel and thus actually contribute to the non-uniformity between different pixels of the display. Secondly, at low emission values the voltage applied to the gate of the photo-transistor will be close to the threshold voltage at the beginning of the frame time. Any variations in threshold voltage are therefore greatly magnified and the uncertainty of the actual luminance values is not well controlled at all. Thirdly, the actual brightness perceived by the viewer depends on the total photon emission during the frame. The total photon emission during the frame depends at least in part on the initial value of the data voltage supplied to the storage capacitor, the rate of discharge of the storage capacitor during the off time of the photo-transistor (which is dependent on the emission level of the OLED caused by the initial voltage), the threshold voltage of the current controlling TFT whose gate is controlled by the voltage stored on the storage capacitor, current gain of the current controlling TFT, the effective electron mobility of the current controlling TFT, the age point of the OLED materials, the color spectrum of the OLED materials and the threshold voltage of the photo-transistor. All these mentioned controlling parameters are not well controlled in the manufacturing process and therefore the pixel uniformity is not well controlled using the structures and methods of described or inferred by the 6,542,138 Bl (Philips) reference. U.S. 6,518,962 B2 by Kimura (assigned to Seiko-Epson) describes circuits in which current levels are obtained by certain pixel associated sensors in the short address time allocated for making a measurement. These are essentially instantaneous measurements and the measurement time is too short to give a practically acceptable signal-to-noise ratio so that useful information for determining the voltage or current to be supplied to the TFT (or OLED pixel) can be extracted from the measurement. The signal extracted is expected to be on the order of a few nano-volts (10~9 volts) and the noise is expected to be on the order of several volts due to the long conductor line terminated essentially by an open circuit for a signal-to- noise ration (SNR) of less than about 0.1 percent Furthermore, it is also expected that different noise characteristics may arise for different regions of a display owing to the different localized electromagnetic fields and to the same pixels at different times. Another limitation of Kimura et al (US 6,518,962 B2) is that the system and method as described appears to apply a predetermined signal to the signal data line and it then alters this signal by the voltage control unit to make the light level come close to the reference value. The predetermined data signal therefore appears to cause a luminance that is an incorrect luminance because it varies from the reference and is subsequently altered by the voltage-adjusting unit to produce luminance that is only "close" to the reference. Kimura therefore does not appear to actually match the reference or any other target luminance. The work of Lisuwandi et al., which is genetically and conceptually similar to US U.S. 6,518,962 B2 has too long a feedback settling time (greater than 150 ms) and thus, is not practical, especially for displays that have dynamic content that changes from frame to frame for normal computer screen, television, and similar applications. Conventional systems and methods that have attempted to control pixel luminance, have by-and-large attempted to measure instantaneous light or luminance levels that have been too small and too noisy to accurately and precisely provide such control. They have therefore been ineffective and their limitations will be even more severe as the size and performance expectations of OLED displays increases. These performance problems may likely be even more severe when amorphous silicon (a-Si) is used for the display electronics. Amorphous silicon is the semiconductor used by the LCD industry and has billions of dollars invested in the infrastructure. It is, therefore, desirable for the major display manufacturers to use amorphous silicon. Early development of OLED active-matrix displays has employed the use of poly-silicon due to its higher speed and better stability. There is very little investment in poly-silicon infrastructure and the costs are high as opposed to amorphous silicon. Recall that there are three forms of silicon conventionally used in electrical integrated circuits. Crystalline silicon used in monolithic integrated circuits (ICs). This type of silicon has no grain boundaries since the material is a solid crystal. This type of silicon (x-Si) has only one area for electrical charge to accumulate, and that area is at the interface between the gate dielectric and the silicon surface contacted by the dielectric. The area of this interface is just the width and length of the gate dimensions. Poly-silicon (p-Si) is made up of course grains of silicon having more or less intimate contact with each other. In order for electrons to go from grain to grain and thus, travel through a p-Si channel in a field effect transistor (FET), a certain amount of energy must be added. Also, the interface between grains can collect stray charges (both positive (holes) and negative (electrons) stray charges) just like the interface between the dielectric and the silicon crystal in the x-Si material, but now the area has greatly expanded. The intergranular area in the p-Si is inversely proportional to the grain size. Therefore, the smaller the grain size, the greater the interfacing area will be and the greater the chance for stray charges to build up. In the case of amorphous silicon (a-Si) the grain boundary area is magnitudes greater than for p-Si. Trapped charge is normally the dominant characteristic that determines electron mobility and threshold voltage for a-Si devices and therefore any changes in the charge density at the inter-grain boundaries causes fluctuation in the electron mobility and threshold voltage with much greater effect in the amorphous silicon (a-Si) as compared to the poly-Silicon (p-Si) or crystalline silicon (x-Si). As display size increases, there is great desirability to use amorphous silicon rather than poly-silicon or crystalline silicon. However, due to the differences and fluctuations in electron and hole mobility characteristics, stray electrical charge accumulation characteristics, and threshold voltage characteristics, it is increasingly difficult to maintain a desired and uniform display luminance characteristics over a large display surface at any single moment in time and as the display device is used with amorphous silicon. Various attempts have been made to overcome the uniformity problem in emissive displays, including some that have involved circuit-based, some of which are still in use today. These attempts have not been entirely successful and do not meet the needs and application requirements of the current and next generation of emissive display applications, particularly OLED display applications. One scheme attempts to control photon emission by using a so called "current mirror" at the pixel, rather than using image voltages to drive or control the current through the OLED and hence control the OLED pixel luminance. Image currents are used in an attempt to force a luminance level current through the power TFT that feeds the OLED. Another scheme compensates for TFT threshold variation by providing a circuit that determines the power TFT threshold voltage and then adds the TFT threshold voltage to the image data voltage thus compensating for the threshold voltage so that variations or changes in the TFT threshold voltage do not result in variation of the current supplied to the OLED pixel luminance These circuit based schemes are complex and expensive to produce and have not been entirely satisfactory in maintaining pixel luminance uniformity, because they do not compensate for the OLED material degradation, but only certain limited variations in the TFT. It may be appreciated that for some devices in which OLED or other emissive pixels are employed, the cumulative pixel on-time may be relatively short as compared to the age of the device carrying the display, such as cell phones and personal data assistant (PDA) devices, because the display is normally on only when there is an active call or user interaction. By comparison, an OLED display for a flat panel television may be on and displaying a dynamically changing image for five to ten hours a day. The requirements for luminance and color uniformity are also greater for the television which must render accurate continuous tone images as compared to a small cell phone display which may acceptably provide luminance uniformity and color accuracy at considerably lower levels. It is known in the art that OLED displays that use different materials for the red emitter, green emitter, blue emitter of a three color subpixel set, will age or degrade at different rates so that after a period of operation such pixels in the displays (without correction) will have an observable color offset or shift that may depend on pixel luminance value. It may also be appreciated that as the color and luminance change will be specific to the individual pixel (subpixel) and overall or global change to a particular color channel drive circuit will generally be ineffective unless the cumulative effect on each pixel is the same. Other schemes attempt to achieve a measure of uniformity by making a correction based on a comparison of a measured pixel luminance to a reference luminance. One scheme of this type has already be discussed relative to U.S. Patent No. 6,518,962 B2 by Kimura and assigned to Seiko-Epson. According to this scheme as described in the patent, the brightness of the pixel is measured and compared with the brightness of a reference pixel brightness to generate a difference signal or value. (It is noted that although the term "brightness" is commonly used, brightness is a subjective measure and may require the consideration of a human viewer to be interpreted, whereas luminance is an objective measure.) The difference signal or value is then used to alter the signal voltage that drives the TFT supplying current to the pixel with the intention of adjusting the pixel brightness in order that the final or "settled" brightness (really luminance) comes "close" to the reference value. This scheme has several problems and does not solve the uniformity problem. Three problems are paramount with this scheme: (i) pixel brightness (really luminance) variation or "ringing" before stabilizing at a settled value, (ii) inaccuracy due to a low signal-to-noise level and noise, and (iii) insufficient resolution as a result of lack of pixel isolation. These problems better understood by reviewing the structure of one of the Kimura pixel structures. Kimura et al. (US 6518962) shows (See Kimura Figure 19) what is described as a block diagram showing an entire arrangement of a display apparatus according to a twelfth embodiment his invention and including a circuit diagram of a pixel. This Kimura pixel circuit structure 61 has been redrawn and relabeled as presented in FIG. IA so that an appropriate comparison may subsequently be made with an embodiment of the pixel circuit structure 62 of the present invention. It is noted that the photodiode Dl of Kimura is connected to the voltage supply line for its voltage. This approach is problematic from at least the standpoint of pixel luminance stability and repeatability because the exact voltage on that voltage supply line depends on the current being used by the lines nearer the voltage supply for that voltage, because all the pixels attached to the line (in the column) are drawing current which drops the voltage on the line. This voltage drop depends on what pixels are turned on and to what level of current draw they are experiencing. In other words, the voltage that drives each of the Kimura pixels are dependent on the image data presented for display at other pixels of the display. It will also be noted that the Kimura pixel lacks any isolation of the thin film diode. This means that all the sensor photodiodes in the column are contributing current to the sensor read line at the same time. Again, this photodiode configuration and the pixel structure that contains it is problematic because there is no information as to where the current (or charge, or voltage) originates from. Reference to the original Figure 19 of Kimura suggests that all the sensor read lines go into a shift register, and each line appears to be read in series (rather than in parallel) with the next one. Performing a serial read operation for each line would have to done during the address time which implies an exceedingly fast read rate and would permit only a very short time to make the current measurement. Such short measurements are susceptible to imprecision and the effects of noise and may generally support only a very small signal to noise ratio. Other conventional approaches also fail to overcome conventional limitations. A particular luminance level produces a photocurrent in the sensor, and the size or magnitude of the photocurrent is an indication (in some instances is proportional or directly proportional to) of the luminance (photon flux through the sensor). Either the current or a voltage created across a resistive element (such as a resistor) by the current that is measured to identify the luminance. First, the pixel luminance will "ring" or oscillate for a time around the reference value before stabilizing and reaching a stable luminance point. This stabilization takes time, time is important, and more time than allowed by the short address time (tA) which for most display applications (such as OLED displays having an array in the range of 640 x 480 pixels) is the display frame time (tf) divided by the display number of lines (NL). For a relatively small 160 x 120 pixel display such as may be used in a hand-held computer or information appliance, the address time is about 0.13 ms and for relatively larger 800 x 600 pixel display such as may be used in a Lap-top computer the address time is about 0.027 ms. By comparison, the time to stabilize (ts) such a feedback system has been calculated by Eko T. Lisuwandi at MIT (See "Feedback Circuit for Organic LED Active-Matrix Display Drivers, by Eko T. Lisuwandi submitted to the Department of Electrical and Computer Science in Partial Fulfillment of the Requirements for Degrees of Master of Engineering in Electrical Engineering and Computer Science at the Massachusetts Institute of Technology, May 10, 2002) to exceed 100 ms. This settling time is therefore unacceptably long for practical active-matrix type displays. The problems and limitations described here are typical of conventional closed-loop feedback systems and methods, where a parameter or value is measured, sensed, or read and the reading fed-back to a control means that changes the read parameter (or a parameter derived from it), and applies or otherwise uses the changed parameter for operation. In this particular display context, since for any display that displays changing display content, the frame rate must exceed 30 frames per second to prevent flickering. For most displays that display moving images the frame rate is 60 frames per second (fps). The frame duration (reciprocal of fps) will be less than about 20 ms, a closed- loop feedback control scheme such as described by Kimura cannot be realized for displays operating with display content that changes at rates faster than about 6 to 8 fps, as do normal video speeds for television, computer displays. A second problem with this scheme is that the scheme relies on a direct reading from the light sensors in the pixels by a current measurement circuit physically located outside the display area (or off glass). The current measurement circuit conventionally needs to be physically located outside the display area because integrating high speed circuitry directly on the display glass has been to costly in yield loss and added expense to be practical at this time; so it has not been merely a design choice as to where it is located. These conventional devices have used a reverse biased PIN diode as the sensor. Due to the high impedance value of the sensor (typically between about 1000 MegOhms and 1 MegOhm), noise picked up by the wires or conductors attached to the sensor and subsequently to the measuring equipment off the glass will seriously obscure accurate reading of the pixel luminance. For example, the sensed signal may be a signal voltage in the range of a few millivolts (mv) and the noise on this signal when it reaches the measuring equipment may typically be in the range between about a few millivolts and about several volts. Since the pixel uniformity requirement for a 8-bit grayscale display may be 0.4 percent, any noise greater than that will prevent achieving the required uniformity. Since, the signal voltage is a few millivolts a noise level of millivolts to volts far exceeds the signal to noise ratio (which can be no worse that 1 to 1) required to make a measurement with any accuracy at all. Third, this scheme generally, and the particular approach described in U.S. Patent No. 6,518,962 B2 (Kimura), does not describe and gives no consideration for isolating the sensors for individual rows thus, also failing to isolate the reading of the sensors since all sensor readings in display array column appear to be combined into one current that is conducted to the measurement circuit off the glass. All the pixels in a column are on in an active-matrix display (as opposed to a passive-matrix display where the rows are on only one at a time); therefore, since the sensor line travels vertically up the display all the sensors in a column are connected to the sensor line for that column and each pixel's sensor will contribute to the total current in the sensor line making it impossible to determine the current contributed by any one pixels. Therefore there remains a need for system, device, method, and computer program and computer program products that solve the afore described problems and limitations in the prior art, including the problems of settling times for conventional closed-loop control, noise interference, and sensor isolation.

SUMMARY Systems, devices and methods for making, calibrating, and operating flat panel displays to provide uniform pixel and display luminance emission levels (sometimes referred to as brightness) and colors over the surface of the display initially and throughout the operational life of a display and to extend the operational life of such displays. A stabilized feedback display system and method for maintaining uniform pixel luminances in a display device. System includes a display device having a plurality of emissive picture elements (pixels) each formed from at least one electronic circuit device, a display driver circuit receiving a raw input image signal from an external image source and applying a corrected image signal to the display, a display luminance detector generating at least one display device luminance value, and a processing logic unit receiving the at least one display device luminance value and communicating information to the display driver circuit, the display driver circuit using this communicated information to generate a transformation for generating the corrected image signal from the raw input image signal. System and method for controlling luminance of pixel in display. Method includes storing transformation between digital image gray level value and display drive signal that generates luminance from pixel corresponding to digital gray level value; identifying target gray level value for particular pixel; generating display drive signal corresponding to identified target gray level based on stored transformation and driving particular pixel with drive signal during first display frame; measuring parameter representative of actual measured luminance of particular pixel at a second time after the first time; determining difference between identified target luminance and actual measured luminance; modifying stored transformation for particular pixel based on determined difference; and storing and using modified transformation for generating display drive signal for particular pixel during frame time following first frame time. Control system and circuits for controlling the luminance of a picture element or pixel in a display device. System, device, and method for operating active-matrix emissive pixel display device. Method includes storing calibration value for pixels and gray levels displayed by pixels in memory; storing transformation in memory for transforming first representations of gray level values to second representations; receiving first gray level representations of image pixel gray level values; transforming first representations to second representations for each pixel; generating image data and control signals for driving pixels during present display frame time; generating integrated photon flux signal for pixels in display indicative of integrated photon flux during portion of present display frame time; comparing plurality of integrated photon flux signals with calibration values on pixel-by-pixel basis and generating plurality of comparison results indicating difference; and identifying deviation for each pixel and directing change in stored transformation to be applied during subsequent time. System provides a gray level logic, calibration memory, a comparator, and pixel deviation logic. An emissive pixel device having integrated luminance sensor and a method of operating an emissive pixel device having an integrated luminance or photon flux sensor. Device includes light or photon emitting device, drive circuit generating current to drive light emitting device to predetermined luminance corresponding to an image voltage and applying drive current to light emitting device during frame time, photo sensor that exhibits change in electrical characteristic in response to change in incident photon flux disposed near the light emitting device to intercept measurable photon flux when light emitting device is in emitting state, charge storage device coupled with sensor for accumulating or releasing charges and exhibiting capacitance charge and voltage proportional to the charge at a time; and control circuit controlling charging and discharging of charge storage device in response to changes in electrical characteristics of sensor during at least a portion of the frame time. Self-calibrating emissive pixel circuit, device and method for operating pixel. Method for operating includes: establishing sensor capacitor at predetermined starting voltage, delivering current to photon emitting device to cause photons to be emitted at predetermined target photon emission level, exposing sensor having electrical properties that vary according to photon flux on sensor to the emitted photon emission during at least portion of display frame time, permitting sensor capacitor to either charge or discharge from predetermined starting state through the sensor so that portion of frame time and resistance of sensor during portion of frame time determine amount of charge on sensor capacitor, measuring voltage or charge remaining on sensor capacitor at end of portion of frame time as indication of integrated photon flux and pixel luminance, and modifying image voltage and/or current applied to pixel during any subsequent display frame time using measured voltage as feedback parameter. Information appliance device and method for operating display associated with information appliance. Information appliance includes display device comprising plurality of active-matrix pixels arranged as two-dimensional array, each pixel including a photon emitter, emitter drive circuit receiving input image data for each pixel and generating pixel drive signal intended to produce a corresponding target pixel luminance during frame time, and emitter luminance sensor and measurement circuit that measures electrical parameter indicative of actual luminance of each pixel over portion of measurement display frame time; and display logic coupled to display and receiving pixel luminance related electrical parameter for each pixel and generating correction for application subsequent time period to input image data for each pixel based on difference between target pixel luminance and measured pixel luminance. Photon emitter may be OLED, electroluminescent, plasma or other emissive device in flat panel display. Information appliance may include a television monitor, a television receiver, a CD player, a DVD player, a computer monitor, a computer system, an automobile instrument panel, an aircraft instrument display panel, a video game, a cellular telephone, a personal data assistant (PDA), a telephone, a graphics system, a printing system, a Scoreboard system, an entertainment system, a domestic or home appliance, a copy machine, a global positioning system navigation display, a dynamic art display device, and/or devices combining these devices and systems.

BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. IA and FIG. IB are illustrations showing a comparison between an exemplary conventional pixel structure and a structure of a pixel according to an embodiment of the invention. FIG. 2 is an illustration showing an embodiment of a Steadylight^(TM) emissive pixel and display calibration and stabilization circuit. FIG. 3 is an illustration showing a first embodiment of a feedback control system for operating an active matrix display device with individual pixel sensor integrated flux detection feedback FIG. 4 is an illustration showing an embodiment of a second embodiment of a feedback control system for operating an active matrix display device with individual pixel sensor integrated flux detection feedback and including a calibration memory and pixel deviation memory for modifying and controlling operation of a gray level logic unit. FIG. 5 is an illustration showing an embodiment of a pixel sensor and integrated photon flux detection and measuring circuit using a voltage sensing amplifier. FIG. 6 is an illustration showing an embodiment of a pixel sensor and integrated photon flux detection and measuring circuit using a charge amp-trans-impedance amplifier. FIG. 7 is an illustration showing a first embodiment of an active matrix pixel including emitter, sensor, and photon-flux integrator elements. FIG. 8 is an illustration showing a second embodiment of an active matrix pixel including emitter, sensor, and photon-flux integrator elements. FIG. 9 is an illustration showing an embodiment of a first calibration procedure that may be executed to calibrate an active matrix display according to the invention during the display manufacturing process. FIG. 10 is an illustration showing embodiment of a second calibration procedure that may be executed to calibrate an active matrix display according to the invention after the display has been manufactured such as during a first time boot-up or power-on. FIG. 11 is an illustration showing an embodiment of a procedure for operating a display according to embodiments of the invention. FIG. 12 is an illustration showing an embodiment of an active-matrix emissive pixel display device incorporating features of the invention.

DETAILED DESCRIPTION OF EMBODIMENTS OF THE INVENTION The present invention is directed to systems, devices and methods for making, calibrating, and operating flat panel displays to provide uniform luminance emission levels and colors over the surface of the display initially and throughout the operational life of a display and to extend the operational life of such displays. U. S. Utility Patent Application Serial No. 10/872,268 (Atty. Docket. No. 34133/US/2 [474125-8]) filed 05/06/2004 naming as inventors Damoder Reddy and W. Edward Naugler, Jr., and entitled Method and Apparatus for Controlling Pixel Emission (which application is incorporated by reference in its entirety) describes and teaches the value of sensor arrays to improve organic light emitting diode (OLED) or other emissive pixel image quality, increase display life, and lower manufacturing costs. The innovations described in this patent application generate emission measurements utilizing photo resistors and or photodiodes and phototransistors to send voltage or current signals to data processing circuits located off the display substrate. In one of the circuits described therein and shown in FIG. 2, and referred to as the Steadylight^(TM) calibration and stabilization circuit 40 (Steadylight is a trademark of Nuelight Corporation), a voltage ramp 55 is placed on the source of thin film transistor TFT Tl 41. The voltage from output pin P3 42 of voltage comparator VCl 43 is high so that TFT Tl 41 conducts the voltage ramp to the gate of TFT T2 46 and storage capacitor Cl 47. This causes OLED Dl 48 to emit light with increasing intensity, which causes the resistance 49 of optical sensor Sl 50 to steadily decrease. As the resistance of sensor Sl 50 decreases the voltage across ground resistor Rl 51 steadily increases placing an increasing voltage on pin Pl 44 of voltage comparator VCl 43. At the beginning of the addressing cycle a reference voltage 46 is placed on pin P2 47 of voltage comparator VCl. The reference voltage represents the desired emission value from OLED Dl 48. When the voltage on pin P2 47 reaches the same voltage as the reference voltage on pin P2 the output voltage on pin P3 42 switches from a positive "on" voltage to a negative "off voltage, thus turning off TFT Tl 41 and freezing the voltage to the gate of TFT T2 46, and thus, freezing the emission from OLED Dl 48 at the desired emission level. One difficulty is that the resistance of optical sensor Sl 50 is in the gig-ohm range causing the voltage across ground resistor Rl 51 to possibly fluctuate with any voltage noise near the circuit. One of the greatest source of voltage noise comes from the digital processing circuitry used to process the data from the optical sensor Sl. The reason for this is that the currents required to produce significant voltage are typically very small in a high impedance circuit. Therefore, the impedance should advantageously be confined to the location of the pixel before a noise free measurement can be made. The present invention now described provides device, system, method, and other means to overcome the limitations associated with conventional active matrix displays generally, with any emissive display type (including for example, electroluminescent devices, plasma emission devices, or any other controllable emissive device) more particularly, and with organic light emitting diode (OLED) displays in particular, by providing a means to measure and track the photon emission or luminance of a pixel (the integrated photon flux over a defined period of time) and to use that information to ensure that any degradation mechanisms, whether they be pixel driver circuitry degradation due to gate threshold drift as in the case of amorphous silicon, or degradation of the OLED materials themselves, is compensated. It will also be appreciated in light of the description provided herein, that even when the emissive device is an organic light emitting diode (OLED) there are several types, including but not limited to small molecule OLEDs, polymer OLEDs (PLEDs), phosphorescent OLEDs (PHOLEDs), and/or any other organic light emitting diode constructed from any organic material in any combination of single or multiple layers of organic materials and electrodes. Among the advantages of the invention, the invention provides a system and method for measuring the luminance or photon flux over time (the time duration of the frame) and storing that information to be used at a later time by the display to maintain uniformity, color balance and to extend life. The use of a photon flux integrator (sensor S 1 coupled with a capacitor C2 in a particular circuit configuration) reduces noise found on feedback systems operating with instantaneous photo currents and with instantaneous feedback to the voltage drive system. Among the advantages of the present invention, this invention recognizes that the instantaneous photocurrents generated by light emitted (actually the photon flux emitted) by the OLED material in a pixel are too small to be used for controlling the voltages on the pixel and thus, we devised an in-pixel photon flux integration circuit so that rather than trying to measure the instantaneous photon flux emitted by the pixel the invention provides a device that integrates that flux over the time length of a display frame. This causes the random instantaneous noise fluctuations in the photon flux to cancel out over the frame time. The invention also provides a system and display panel that utilizes this pixel device structure, and methods for calibrating, controlling, and operating the display. The invention therefore overcomes the problems associated with conventional systems and methods that have attempted to control pixel luminance using low-magnitude, noisy, and fluctuating measured instantaneous light or luminance measurements. The in-pixel nature of the integrated photon flux measurements also compensates for pixel device material and electrical characteristics, operating environment, and operating history. In at least one embodiment of the invention, a particular luminance level produces a photocurrent in the sensor, and the size or magnitude of this photocurrent serves as an indication of the luminance (photon flux through the sensor). In at least one embodiment of the invention, the photocurrent is proportional (linearly or nonlinearly) to the luminance, and in at least one embodiment the photocurrent is directly proportional to the luminance, or linearly proportional within an acceptable non-linear error. In one embodiment, either the current or a voltage created across a resistive element (such as a resistor) by the current that is measured to identify the luminance. In other embodiments, voltage accumulated on charge storage devices, such as capacitors, are measured to identify the luminance. Embodiments of the invention are capable of maintaining a pixel photon flux within one gray level (higher orders of accuracy can be obtained if the bit level is increased ― this is a matter of cost) of an absolute photon flux reference level, and pixel-to-pixel photon flux uniformity to within the same accuracy, over the life of the display. The inventive system, device, and method are also capable of adjusting the integrated photon flux level of each and every pixel element (and hence also the pixel color and display color balance) so that the life¬ time of a display can be extended (and/or so that the aging or degradation can be controlled in a preplanned manner), in spite of the known degradation characteristics of OLED displays, over a relatively longer period of time than in conventional systems and methods. One convention associated with defining the life time of a display is to use the time from an initial time (to) when the luminance is maximum to a half-life time (tx) which is the time when the luminance has fallen to one-half of the initial luminance. Thus, if the display lias a 10,000 hour life time (time tx) it conventionally means that the display will be one-half as luminant (or have one-half the luminance) as it was in the beginning (at time to). The inventive device, system, and method can actually extend the practical lifetime of a display and display system by extending the length of time to one-half of maximum luminance (by compensating for the degradation that leads to one-half luminance). For example, the inventive device, system, and method may extend the period of time to half-life by a factor of 2, 3, 4 or more (to 2tx, 3tx, 4tx, or more). In one embodiment, this is accomplished by programming the display to permit a controlled degradation over time. Recall, that the inventive device, system, and method can actually compensate 100% (and of course for any lesser amount of degradation) for the degrading of the luminance, but the display will last longer if it is permitted to slowly degrade. Achieving a 100% compensation requires that additional voltage be available to apply to the gate of the OLED current driving TFT. The available voltage determines just how long degradation can be fully compensated. If, however, the aging is partially compensated the display will eventually reach half luminance, but is a longer time than an un-compensated display. Uniformity as used here means that the normal or average viewer will not usually be able to visually detect an aberrant pixel luminance (where luminance or more loosely "brightness" is used to describe the characteristic in some conventional systems) or integrated photon flux (as a particular manner of characterizing luminance according to embodiments of invention described in specification) difference or color difference relative to other pixels in the display. In the context of the invention to be described, embodiments of the invention are able to maintain a calibration so that no pixel is more than one-half gray level from a reference level. In one embodiment, having 8-bit per pixel per color data (256 levels of gray), the uniformity is maintained to at or better than one gray level or ± 0.4 percent. This is a pixel quantization level of the display calibration, wherein if the pixel is determined to have a luminance or integrated photon flux that is different from the reference luminance or integrated photon flux, the system and method drive the pixel to the gray level luminance or integrated photon flux nearest the reference. Other embodiments of the invention may quantize at a finer level of calibration, but normally the human visual system will not detect a variation even at the one-half gray level difference in a video display. Recall that "brightness" is a subjective term. Luminance is an objective term that has physical meaning and actual physical units. The most common actual physical units used units today being cd/m2 (candelas per square meter), which is the so called 'nit'. In the inventive device, system, and method, the sensor operates by intercepting photons and turning them into charge carriers (holes and electrons) making the material of the sensor a better conductor and thus having lower resistance. In an embodiment of the invention, the lower resistance of the sensor drains the charge on a capacitor (C2). The amount of drained charge is directly proportional to the number of photons that strike the sensor during the frame time. That is, the photons are counted (integrated) during the frame time. This integrated photon count is quantifiable. A numerical example is now presented, without benefit of rigorous theory and by way of example to illustrate aspects of the operation of embodiments of the inventive device, system. The capacitance of the sensor capacitor (C2) is in the Pico farad (pf) or 1 x 10'12 Farad range. If the capacitor has a capacitance of 1 x 10"12 Farad, and if capacitor C2 drains from an initial voltage of 10 volts at the beginning of the frame to ending voltage or 4 volts at the end of the frame, then 6 x 10~12 coulombs of charge has passed to ground through the sensor. (Actually the starting and ending voltages may be selected at any value, however, voltage magnitude values in the 1 to 10 volt range are typical.) The corresponding amount of charge is 6 x 10"12 coulombs. This is equal to about 37,745,000 electrons. Since it only takes 0.25 electron volts to promote an electron into the conduction band and each light photon has an energy of about 2 to 3 electron volts (depending for example upon the photon wavelength or energy) it can be calculated that a red photon has the ability to put about 8 electrons into the conduction band and a blue photon has the ability to put about 12 electrons into the conduction band. This means that the 37,745,000 electrons would mean that about 4,681,000 red photons hit the sensor during a 16.7 ms frame time or that about 3,121,000 blue photons hit the sensor in the same frame time. The above values and numbers are provided as examples so that the principles may be understood and are not provided as exact values determined via rigorous calculation. The actual promotion of electrons into the conduction band depends on many factors. Among the most important is quantum efficiency, which is the amount of photon energy that promotes electrons into the conduction band versus the amount of photon energy converted into heating the semiconductor material. It may therefore be appreciated that the invention operates as a photon flux integrator for the capacitor, sensor, and frame duration integration time. The photon flux is a flow of photons through a unit area (the area of the sensor) and the total photon count is the photon flux integrated over the sensor area and over the frame or other appropriate partial frame or other integration time. The invention also provides isolation so that the measurement of parameters from one pixel do not impact the measurement of parameters from another pixel. The invention has several aspects that may be used separately or for optimum effect in combination to provide a greater synergistic effect. Some of these are listed below, while others will be apparent from the description of the embodiments of the invention and from the drawings. In one aspect, the invention provides a Feedback Control System and Method for High-Performance Stabilized Active-Matrix Emissive Display. In another aspect, the invention provides an Active-Matrix Display and Pixel Architecture for Feedback Stabilized Flat Panel Display. In another aspect, the invention provides a Method for Calibration of an Active-Matrix Display and Pixel. These three aspects in particular, may advantageously be combined so that a display panel having the inventive pixel and sensor architecture and circuitry may be operated with off display glass (or other display substrate) circuitry such as an off-display integrated circuits (ICs) to provide a uniform and stable display system. In still another aspect, the invention provides a High-Impedance To Low-Impedance Conversion System For Active Matrix Emission Feedback Stabilized Flat Panel Display. In even still another aspect, the invention provides a High-Impedance to Low- Impedance Conversion Circuit for Active-Matrix Display Pixel and Sensor. In another aspect, the invention provides a Structure for and Method of Design of a High-Stability Integrated Light Sensor for Use in Feedback Control System and Method For Making Same. In even another aspect, the invention provides Long-Life and High-Stability Feedback-Stabilized Amorphous Silicon Photoconductor Based OLED Display. In another aspect, the invention provides computer programs, computer program products, data structures and other computer constructs and machines that may be embodied in tangible media or memory devices and either executed within or stored on a computer or other processor or hardware, including a processor and processor coupled memory of either general purpose of special purpose computers. These and other aspects and features of the invention will become clear in light of the description provided herein and the referenced drawings. Attention is first directed toward a comparison of an embodiment of the inventive display pixel with a conventional pixel structure so that aspects of the inventive pixel may be appreciated prior to describing the manner in which its operation is controlled. Then aspects of the closed-loop feedback control system that may be used for the inventive display and pixel structure and architecture as well as for other display and pixel structures. Then several exemplary pixel structures, each having an emitter and a sensor, are described that may be utilized with the inventive control system. A method for calibrating the sensors to establish reference integrated photon flux levels is then described as well as some design methodology for designing sensors that have an appropriate capacitance and dark and illuminated resistance to provide the desired operation and support the inventive calibration and operational procedures and methods. Operation of the calibrated display and electronics so that stable and uniform operation is maintained is then described. When the pixel is on and radiating it emits photons at a particular rate such that at any point in time there is an instantaneous luminance. In the prior art the "brightness" referred to that has been measured has been the instantaneous brightness. As suggested in the Background section, one problem associated with conventional systems and methods has been that the amount of photo power intercepted by a sensor in a pixel is that the photon power has been so small that random and/or non-random noise sources swamp out the instantaneous signal. This is particularly problematic when the read time for the pixel is small and such problems are compounded when the read signal from one pixel cannot be distinguished from other pixels. Note that power is the time rate of energy and power is an issue in the prior-art as compared to the instant invention. Photon flux and luminance are more-or-less interchangeable terms in that both of these terms are power terms. With further reference to FIG. IA, recall that the Kimura et al. pixel structure connects photodiode Dl to the voltage supply line for its voltage, and that this approach is problematic because the exact voltage on that voltage supply line depends on the current being drawn by all the other pixels attached to the line in the same column. There is a voltage drop that depends on the on-off state and gray level value of other pixels in the display column. Recall also that a Kimura pixel lacks any isolation of the photodiode TFTs for different pixels. This means that all the sensor photodiodes in the column are contributing current to the sensor read line at the same time and individual pixel sensor values cannot be determined. Finally, recall that the Kimura pixel and display configuration permits only a very short time to make a current measurement (the current measurement is essentially instantaneous) and that instantaneous measurements are imprecise due to low power, low signal strength, and high noise levels. By comparison, the embodiment of the inventive pixel in FIG. IB overcomes at least these problems. The inventive device, system, and method solve the problems associated with delivery of voltage to the emissive diode, the sensor isolation problems, and the noise and low power problem. The structure and operation of this pixel and others are described in detail elsewhere in this specification. The photon flux integrator operates to store the energy (which is the integral of power) delivered by the OLED to the sensor in a capacitor. What this means is that a weak photon flux is integrated over time for a duration of the display frame time, for example the photon energy is integrated for 16.7 milliseconds (16.7 ms) or 16700 microseconds (16700 μs). In conventional devices and systems, the energy is measured over a portion of the row address time, which is typically about 5 microseconds (5 μs). This means that in the inventive device, system, and method, the power of the signal has been magnified by 16.7 ms divided by 5μs microseconds for a gain factor of about 3,333 times. This represents a gain of about 35 db. Furthermore, while the signal-to-noise ratio is greatly increased by the 35 db of gain, the random noise is effectively cancelled because on average during this lengthy integration time there may generally be expected to be substantially as many positive noise contributions as negative noise contributions of the same magnitude. By integrating the signal over time random noise is cancelled. These are significant advantages over conventional systems and methods which require and therefore attempt to obtain an accurate measurement of instantaneous luminance, however, they do not succeed in obtaining an accurate measurement because the signal to be detected is always plus or minus the random noise and the magnitude of the random noise is at least comparable to the magnitude of the signal to be measured. If, in addition, the photo-sensor employed in the pixel has an impedance in or on the order of the gig-ohm (109 ohm) or greater range, the voltage noise can be at the volt level, which would be a thousand times greater than the signal. As described elsewhere in the detailed description, an additional difference between the inventive device, system, and method as compared to conventional schemes is that the invention no longer attempts to control the luminance of a pixel during the identical pixel write time or cycle. In fact, in embodiments of the invention, the integrated photon flux that is determined as an indication of the pixel luminance during one display frame time (or a portion of the display frame time) is used to control the integrated photon flux (and by extension the pixel luminance) during some subsequent display pixel frame time (or portion of such pixel display frame time). In one embodiment, the subsequent display time is the next frame time or a portion thereof, while in other embodiments it is any future display time, such as a time that is an integer multiple of frame times for that pixel, or a subsequent time that is triggered by an event such as by display power on. Therefore, although the control and adjustment may appear to be real-time and be indistinguishable to the display user (e.g. may lag by a frame time such as a 16.7 ms frame time) from a real-time feedback based measurement and control, some interpretations would suggest that it is not real time. On the other hand, the measurement in one frame write cycle and the use of the measurement to generate the pixel drive signal is in the next frame write cycle are sufficiently close in time such that other interpretations may consider such operation to be real-time or near-real time. Where many minutes, hours, or days were allowed to pass between the measurement of integrated photon flux and adjustment of the pixel drive signal to take the measurement into account, then the device, system, and method are less likely to be characterized as real-time. It will be appreciated that as OLED pixels (and other active photon or luminance emitters) used in displays my typically change over tens or hundreds of hours from a previous operating characteristic, once a particular pixel has been adjusted, the need to update a pixel's drive characteristic every frame diminishes. Therefore, performing the measurement and adjustment every frame is not normally necessary.

1. Exemplary Control System and Method Description An exemplary display system 200 is illustrated in a first embodiment of a feedback control system of FIG. 3 and includes two primary components, a display device 201 having a plurality of picture elements or pixels 202 and photon flux integrator circuits 203, and display driver and control electronics (optionally including software and/or firmware) 204 to drive and control the display device 201. The drive and control electronics are responsible for converting image data 205 into the appropriate pixel drive and control signals 206 to the pixels 202 so that their apparent gray level or integrated photon flux (and their color for a color display) within the image is correct or match a commanded integrated photon flux and color. It will be appreciated that where the basis set of OLED materials are appropriately chosen, maintaining the proper color basis set (for example Red, Green, and Blue) integrated photon flux will also maintain the color balance of the pixel. The display device 201 also includes sensors and sensors coupled with capacitors to form novel photon flux integrators (in one embodiment sensor Sl coupled with capacitor C2) associated with each individual pixels for measuring a characteristic of the perception of luminance based on an integrated photon flux over an integration period TPFI- The sensors 203 generate a sensor output signal 207 (and in one embodiment a plurality of sensors generate a plurality of sensor signals) that is (are) communicated to the display drive and control electronics 204 and used by the drive and control electronics 204 to modify the pixel drive and control signal(s) 206 as necessary to achieve and maintain individual pixel photon flux levels and achieve uniformity performance between and among the plurality of pixels in the display. In one embodiment there is a sensor 203 associated with and located within or adjacent to each pixel 202 so that the pixel integrated photon flux and uniformity is achieved on a pixel-by-pixel basis rather than globally for the entire display. The inventive device, system, and method also advantageously provide for the measurement of the integrated photon flux for each pixel separately and such measurement is not limited to the measurement of a row of pixels, a column of pixels, or any other set of collection of pixels together. Embodiments of the invention also provide for separate pixel senor output signals so that it is not necessary to sense or measure a current, voltage, or other indication of photon flux, integrated photon flux, or luminance serially over a common sensor line. This pixel-by-pixel approach is particularly advantageous as it permits adjustments and corrections to each and every pixel to account for operational history differences of each and every pixel so that in spite of these historical operational differences, the same or any desired pixel integrated photon flux can be achieved. For OLED display pixels or other display types where the integrated photon flux and other operational parameters at any point in time are highly dependent on past operational history at the individual pixel level, this solves the display aging, display and pixel "burn-in" problem, and other operating or age related problems. Another embodiment of the invention incorporates at least some of the features of the FIG. 3 embodiment as well as additional features. In this embodiment, the image data 205 is received from or generated by an analog image source 208 that provides an analog signal, such as an RGB composite signal, separate component red (R), green (G), and blue (B) signals, a monochrome or black/white signal, or any other source or type of graphical, text, symbolic, image, picture, or other data. This data may be dynamic (that is changing over time) or static. Examples of such image data are television (TV) analog or digital signals, computer display signals (such as half-VGA, VGA, super- VGA, any of the digital display interfaces, and the like), cellular or mobile telephone display data, watches, appliances, automotive electronics display data (such as for example automotive instruments, navigation, and entertainment), aircraft avionics and in-flight entertainment, fixed and portable gaming devices, billboards and other large displays, and any other type of display and data. When the image data is in the form of sequential or serial frames or segments of analog data (such as a conventional television signal), the data signal 205 (See FIG. 3) is processed by serial-to-parallel (SfP) and analog-to-digital (AJO) processor circuitry or logic 209 to generate digital red (RD)- digital green (GD), and digital blue (BD) signals. It may be appreciated that monochrome or black/white signals may be achieved for a color display by providing the same integrated photon flux levels from adjacent R, G, and B emitters or pixels (sometimes referred to as RGB subpixels). Alternatively, where only a monochrome display is provided, then only a single pixel signal representing the display image is required rather than three (RGB) signals. Furthermore, where the image data is already in parallel and/or digital form, either or both of the serial-to-parallel and analog-to-digital conversion or processing may be eliminated. For ease of description it will be assumed for purposes of this description that the display is a color display and uses Red 210-1, Green 210-2, and Blue 210-3 signals which will conveniently be referred to as the digital image input data 210; however, it will also be clear that the invention applies to monochrome displays with only one digital input data signal. The description will also user the more usual nomenclature of R, G, B, or simply RGB signals to describe the three signals or data sets typically associated with a color display or image. Whether such signals or data are analog or digital will be apparent from the context of the description. The RGB nomenclature will also stand for any set of color dyes, phosphors, filters, or materials the form a color or colors, or other basis sets (independent on number of color basis element) that may be used to produce a true, false, or pseudo-color display. Normal display operation is carried out by the blocks in FIG. 4 namely, Analog Image Data 208, Image A/D converter 209, Gray level logic Z 103 (modified to accept an inventive input), Display Controller Zl 04, Column Drivers 238, Row Select 240, and the Active matrix Emissive display 292, 293, 294. Optionally the Analog Image Data Block 208 and the Image A/D converter 209 may be replaced by the Digital Image Data Block 208a. In either case, digital image data is fed into the Gray Level Logic block. A top level description of each of the blocks in the FIG. 4 embodiment is provided, followed by additional detail where warranted. The Display controller Z 104 controls all timing signals, converts image voltage data into display voltage data. Column drivers 238 down loads or otherwise communicates display voltages to the rows. Row Select logic 240 enables the rows one at a time to receive data from column drivers. Sample and Hold block ZlOl samples and holds the sensor data from each row as it is addressed by the row select. Analog-to-Digital (A/D) converter 270 is responsible for converting the analog data at the Sample and Hold block ZlOl to digital data. Multiplexer (MUX) 270a coverts the parallel data at the A/D converter into a serial data stream. Calibration Memory 250 stores the original sense data that was taken when the display was first manufactured, by pixel and by gray level. Comparator 260 is responsible for performing a comparison (such as a magnitude or difference arithmetic comparison) between the pixel emission data and the calibrated data. The Digital or Pixel Deviation Memory Z 102 stores the deviation from calibration for each pixel and gray level. Gray Level Logic Block Zl 03 may be responsible for (i) determining a gray level strategy (simple voltage, spatial and/or temporal dithering or the like for achieving a desired luminance), (ii) for determining when to send corrections to display driver controller, (iii) and for determining or identifying how to correct the display driver controller using the data stored in the digital deviation memory. Analog Image Data block 208 sources image data in an analog format when the data is provided in this form (becoming obsolete). Digital Image Data 208a sources image data in a digital format (more and more prevalent today) Image A/D Converter 209 converts the analog image data to digital. The Gray Level Logic block Zl 03 converts the digital image data into a form which can be used by the Active-Matrix emissive display to recreate an image faithfully corresponding to the image data. Although functional blocks having some of the features of the Gray Level Logic block of the invention are known in the art, they are not the same as used in the inventive system and method, at least in part because the inventive Gray Level Logic block Zl 03 includes an input for receiving values from Pixel Deviation Memory Z 102 (described in greater detail below) and structural and methodological means for using both the output of image AJO converter 209 and outputs from the pixel deviation memory Z 102 to provide novel inputs to Display controller Zl 04. The Gray Level Pixel Logic function block Zl 03 may be any circuit, logic, digital function (optionally including software and/or firmware) or any other hardware, software, or hybrid hardware/software means that converts the digital gray level determined by the inputted image data to a voltage calculated to cause the pixel specified to emit luminance at the same gray level as required by the image. It is understood in light of the description provided here that there are many ways to reformat the image data to be able to produce a display image with proper gray levels and colors. For example, the Gray Level Logic block may include a gamma function which transforms image voltage data into display voltage data that will produce the proper luminance changes from one gray level to another. Another function that may optionally be included in the Gray Level Logic block would be a system to effect gray levels by using temporal dithering; that is, by dividing each frame into two or more sub-frames. Operating on x number of gray levels using just one sub-frame (the other always remaining in the dark state) would allow the doubling of the levels by using both sub-frames in the on state. The Gray Level Logic block may also arrange to use spatial dithering for gray levels. This means that each pixel would have an array of sub-pixels, which would be turned on or off depending on the gray level. Some limited forms of this approach are already used color displays in order to use the three primary colors to reproduce all the colors in the visible spectrum. The Gray Level Logic block could also use a combination of temporal and spatial dithering to accomplish the gray level function. The data that emerges from the Gray Level Logic block is sent to the Display Controller Block. The Display Controller block literally runs the display. It provides all the timing signals that control sending the display voltage data to the column drivers, and it provides the timing of the row selection driver so that the proper row is selected for the particular line of data being down loaded to the display from the column drivers. The Gray Level Logic block Z 103 determines what voltages will be down loaded, and the Display controller determines when the voltages will be down loaded. The Column Drivers receive the digital voltage level for the first row of the frame, converts the digital data to analog data, and downloads the data to the first row of pixels which has meanwhile been selected by the row select driver under the command of the Display Controller. Since this is an active-matrix display the data voltages are stored on a storage capacitor and to the gate of the current controlling TFT, thus turning on the OLED in the pixel. The display controller then sends the next row of data and selects the next row of the display and so on until all rows in the frame have been activated. There is then a retrace to the first row and the next frame commences to be down loaded by the Display Controller. These aspects of display operation are known in the art and no further detail provided here. The functional blocks and structure relating separately and in combination to aspects of the invention are the Sample and Hold ZlOl, the AfD converter 270, the multiplexer or MUX 270a, the Comparator 260, the Calibration Memory (CaI Mem) 250, and the Pixel Deviation Memory Zl 02. The Gray Level Logic block Zl 03 is also a modified version of conventional gray level logic because it includes structural and method components that permit it to accept and utilize the output of the pixel deviation memory which are themselves based on the results of comparator 260. In this embodiment of the invention there are two memory blocks the Calibration Memory 250 and the Pixel Deviation Memory Z102. In other embodiment there may be more memory block or less. In the interest of lower cost, the less memory the better. It is, however, easier to understand the principles of invention by referring to the two memory block in this embodiment. Other embodiments my readily use a single memory. In the invention a photo-sensor system called a photon flux integrator has been added to the pixel. When the pixel is activated by the data sent by the column drivers light is emitted in the form of a photon flux from the OLED. A portion of that photon flux is intercepted by the photo-sensitive material in the photon flux integrator, converted to electrons and collected by the capacitor in the photon flux integrator. The collection of photo- electrons continues for the full duration of the frame (at a 60 Hz frame rate this is a time duration of 16.7 ms). On the next frame, the charge or voltage on the photon flux integrator capacitor is read by the Sample and Hold Function out side the display area. In one embodiment the voltage on the capacitor is read and in another embodiment the charge on the capacitor is read. The charge and voltage on the capacitor is proportional and is some embodiments it is directly proportional to the luminance of the pixel during the frame time. While there are many ways to read voltage and charge known in the art, FIG. 5 and FIG. 6 give examples of two embodiments. These circuits and variations of them are described relative to embodiments in FIG. 7 and FIG. 8. It will be appreciated that the circuits and methods for reading voltage and charge (or current) are known in the art and that the circuits and methods described here may be applied to a variety of different pixel circuits and structures, including to different pixel emitter circuits, pixel sensor circuits, and/or pixel photon flux integrator circuits. The FIG. 5 embodiment is a voltage sensing circuit. Line Ll supplies voltage to both power transistor T2 and sensor Sl. The dark resistance of sensor Sl is extremely high and sensor capacitor C2 receives very little charge through Sl when the pixel is off. During the frame time when OLED or other emissive device or diode Dl (such as an OLED) is in the on state and a photo flux is received by Sl the conductivity of Sl significantly increases and allows charge to flow into sensor capacitor C2 causing a voltage to appear across C2 with respect to ground. (Note that the combination of Sensor Sl and sensor capacitor C2 in the context of the rest of the circuit are operative to form a photon flux integrator device.) This voltage is proportional to the photon flux level emitted by Dl. In order to read the voltage on C2, sensor TFT transistor T3 is turned on by applying a voltage to line L2 (this occurs when the row is enabled). The voltage of sensor capacitor C2 is subsequently applied to the plus terminal of an operational amplifier (op amp) OAl or equivalent amplifier circuit. The negative terminal of the operational amplifier OAl is coupled to a reference node such as ground G2. This voltage is amplified by the ratio of resistor R2 (in the voltage sensing amplifier to the line resistance of L4 which is coupled to the positive input of operational amplifier OAl . For example, if the line resistance of line L4 is 3K ohms and the resistance of resistor R2 is 3 Mohms, the voltage on capacitor C2 is amplified by 3OdB (1000 times), which voltage appears at node P4. The amplified voltage is sent to a sample and hold circuit for further processing. Another embodiment is shown by FIG. 6. In this embodiment, when a voltage, for example, 10 volts, is applied to the plus terminal of charge amplifier CAl, line L4 quickly also ramps up to 10 volts. A resistor Rl is coupled between the negative input terminal of the charge amplifier and its output at note P3, and capacitor C3 is connected in parallel across resistor R3. The voltage appearing at node P3 is an offset voltage determined by the characteristics of charge amplifier CAl and any leakage current on L4. This leakage current typically may arise from the fact that in a multi-row display each row will have a transistor T3 attached to line L4 and although the T3s is every row except the row that is enabled will be in the off state there still is an off state current leakage associated with each T3. Capacitor C2 is charged up to the voltage on the plus terminal of CAl when T3 is turned on. Any charge flowing into C2 reduces by the same amount the charge across C3 and the voltage rises on node P3. Resistor Rl may usually be a large resistance that allows the reduced charge on C3 to be restored for the next reading. In practice a reading of P3 is advantageously made prior to turning on transistor T3 in order to measure the offset voltage. Then another reading is made after T3 is turned on and the first reading is subtracted from the second reading to give a value for the amount of charge that flowed into C2. Therefore, as in the embodiment of the circuit of FIG. 5, the photon flux from Dl causes charge to move from C2 to ground during the frame duration. When line L2 is again selected for the next frame, the charge on C2 is read by the charge amp circuit. The column drive unit 238 works in conjunction with line buffer 236 and row select unit 240 too sequentially select and sends pixel signals to each subsequent row of the display. The operation of column drive unit 238 and row select unit 240 are generally known in the art and not described in further detail here. A sensor 294 is positioned or disposed within or adjacent to pixel 292 so that it can receive at least a portion all of the light, photons, or other radiation that may emanate from pixel 292 when the pixel is driven by the column drive circuitry at a level what causes it to emanate. The sensor 294 may also be responsive to ambient light or radiation levels. Sensor 294 may be any type of sensor that undergoes a measurable change in physical or electrical characteristic in response to different levels of the incident light or radiation. Sensor 294 therefore generates an electrical signal, in the form of a photo current that is a measure of, or otherwise indicative of, the incident photon flux on the sensor during the period of the frame time of the measurement. In one embodiment of the invention, the sensor measures the integrated photon flux over a defined period time. In at least one embodiment of the invention, the defined period of time is the frame period. It is noted that most displays operate at a frame rate of at least 60 Hz so that the content (such as a image) displayed does not appear to flicker to a human observer. A frame rate of 60 Hz corresponds to a frame time or period of substantially 16.7 ms. Other displays operate at higher frequencies to further reduce the possible flickering. A frame rate of 100 Hz corresponds to a frame time or period of substantially 10 ms. The invention is not limited to any particular frame rate, and is applicable to non¬ interlaced and interlaced display types. Furthermore, while much of the description indicated that the photo flux is integrated for a period of exactly or substantially the display frame time, there is no reason why the photon flux integration need extend for the full frame time so long as the time is long enough to provide an integrated photon flux of sufficient magnitude in absolute terms and relative to the noise, and so the positive and negative contributions to random noise cancel within required margins. It is anticipated that photon flux integration times on the order of between at least one-quarter of a frame time and one frame time may readily be used, and that photon flux integration times as short as about one-tenth of a frame time (e.g. 1.67 ms) may also be used as this still provides a gain of 333 times as compared to the typical 5 μs instantaneous time for measurement in the prior-art as explained in the previous example. Even a photon flux integration time of between one one-hundredth and one-tenth of a frame time may provide satisfactory performance. Typically the integration time will be one frame time so that a single set of control and timing signals may be used for the pixel write operations and integrated photon flux sensor read operations. It is anticipated that even time frames as short as the row address times may be practical with the use of noise canceling circuitry. It is noted that most displays operate at a frame rate of at least 60 Hz so that the content (such as a image) displayed does not appear to flicker to a human observer. A frame rate of 60 Hz corresponds to a frame time or period of substantially 16.7 ms. Other displays operate at higher frequencies to further reduce the possible flickering. A frame rate of 100 Hz corresponds to a frame time or period of substantially 10 ms. The invention is not limited to any particular frame rate, and is applicable to non-interlaced and interlaced display types. If photon flux is measured in photons/second/meter-squared, then the sensor is integrating or counting the total number of photons intercepted over the sensor area during that time period so that sensor is acting as a photon counter and not as an instantaneous detector of photons, electrons, or other energy or particle. The integration over time permits the acquisition of a single magnitude sufficient to overcome instantaneous noise that may be X present and of a signal that is relatively stable from frame to frame assuming that there are no changes in the display pixels or the electronics that drive the display pixels. It will be appreciated that each pixel (really each subpixel when implemented in a tri- color RGB color display) within each display row has an associated separate sensor 294, and that each sensor 294 generates and communicates a sensor output signal 207 to off-display glass electronics. In one embodiment this sensor output signal is a voltage (Vs), but in other embodiments the sensor output signal is a current (Is). Additional signal processing structures or circuits may be provided either within the pixels or subpixels, display, or in off- display glass processing circuitry to convert from one signal type to another and/or to derive a different signal from the raw sensor signal. In order to simplify the discussion, this description is limited to the manner in which the sensor signal 207 from a single particular sensor is processed through the drive and control electronics 204 to achieve the desired operation and display uniformity. In reality each pixel (and sub-pixel) has a sensor that generates and communicates a sensor output signal 207 to off-display electronics so that a pix-by-pixel (and subpixel-by-subpixel) measurement and feedback based correction can be made. In a separate portion of this description, the calibration and operational procedures will described the manner in which pixel sensor data is used to correct display nonuniformity. Sensor output signals 207 (one for each column in the display) are simultaneously captured by Sample and Hold ZlOl, processed by analog-to-digital (AfD) converter 270 and MUX 270a to convert the normally parallel analog signals 207 into serial digital signals or value Vs 276. This digital sensor signal 276 is received by a signal comparison unit 260 that is responsible for comparing the measured pixel integrated photon flux (as indicated by the sensor output signal 276) with a reference pixel integrated photon flux value 251 that corresponds to the expected pixel gray level stored in calibration memory 250. It will be appreciated that signal levels may be scaled or otherwise processed so that the comparison unit 260 compares signals having the same scale or range so that precise and accurate differences can be computed. The difference between the reference value and the sensed value for that particular pixel is referred to as the difference or delta gray scale ΔQS amount and is sent to Pixel Deviation Memory Zl 02. The reference voltage stored in calibration memory 250 may be generated in any number of different ways. In one embodiment the values placed in calibration memory 250 are generated at the manufacturing point where the active-matrix back plane has been completed before the OLED materials are deployed over the back plane. At this point the active-matrix is fully exposed to ambient luminance. Therefore, the display may be sequentially exposed to calibrated gray levels and each sensor scanned as though in normal operation with the measured sensor values being electronically stored and later introduced into calibration memory 250. Another embodiment uses a procedure in which display manufacture is completed, which includes adjusting the Gray Level Logic block Z 103 to produce the desired color mixing and luminance uniformity using practices well known in the industry. When the display is first booted up or turned on it may enter a calibration mode where it is assumed that the first sensor values are correct since the display has no aging history. These first values are stored in the calibration memory and subsequently used to maintain the initial condition of the display. The Pixel Deviation Memory Z 102 contains the status of all pixels with reference to the initial conditions, or to initial calibration in manufacturing. It is the purpose of the Gray Level logic functional block Z 103 to produce the correct digital voltages that will faithfully reproduce the image data on the display. Procedures for accomplishing this are well known in the display industry and therefore not described in further detail here. In embodiments of the present invention the decisions made by the Gray level logic function are modified by the data stored in the Pixel Deviation Memory. In one embodiment, for example, if the data in the Pixel Deviation memory indicates that pixel has degraded by two gray levels, then the Gray level Logic function adds two levels of gray scale to the normal digital voltage level determined for the image data. Another embodiment would be to subtract two levels of gray from all the other pixels and thus maintain color balance, but decrease the dynamic range of the display. Another embodiment use an approach wherein the on time of the degraded pixel is increased in order to increase its perceived luminance by two gray levels. Other embodiments involve spatial and/or temporal dithering using techniques will known in the industry. Embodiments of the invention provide for performing the calibration at any time either automatically according to some rule, policy or schedule, or manually by the user. Automatic calibration is preferred. Two particular schemes are to perform the calibration every frame, at some integral number of frames interval where that interval can be any number, a power-on, at power-down, at some elapsed time interval (e.g. every 1 hour) or according to any other scheme. It will be appreciated that the user is not aware that the calibration is occurring and there is no or substantially no loss or overhead associated with the calibration once the structures for performing the calibration are in place. Operations such as additional write operations to memory and/or additional switching or logic operations represent the only additional activity, but these are inconsequential compared to the other operations that occur. These and the other circuits described herein may be implemented as integrated circuits either on the same substrate as the display (e.g. the display glass) or on separate substrates off the display. In general the control system elements may advantageously be provided off of the display substrate. In particular embodiments of the inventive control system and circuits provide the sample and hold circuits ZlOl, analog-to-digital converter circuits 270, multiplexer 270a, comparator circuits 260, calibration memory 250 and pixel deviation logic Z 102 a and pixel deviation memory Z 102b. The display controller Z 104, gray level logic Zl 03, and image A/D converter 209 may also advantageously be implemented as one or more integrated circuits off of the display substrate. Embodiments of the pixel circuits described in detail hereinafter are implemented as structures for each pixel on the display glass or substrate.

2. Exemplary Pixel Device Structures and Circuits One aspect of the invention provides a conversion from a high impedance to a low impedance. The conversion from high impedance to low impedance occurs at least in part because of the structure, configuration, and/or operation of the sensor capacitor. The sensor operation of charging or discharging the sensor capacitor C2 is a high impedance operation since the sensor has gig-ohms of resistance. During this charging or discharging time, the sensor line is isolated from the high impedance by' sensor transistor T3. During the read time sensor transistor T3 is opened connecting the sensor capacitor C2 (which had been isolated from sensor line L4) to the sensor line L4. Impedance between the sensor capacitor C2 and the sensor line L4 is only the resistance of the sensor line, which would normally be only about 3 Kohms for typical implementations. The impedance difference is therefore on the order of one million to one (106:l). Interference from noise results in nano-amps of current flow which in a gig ohm impedance system amounts to noise that is on the order of volts, but in a kilo-ohm impedance system amounts to micro-volts. Since it is the long length of the sensor line L4 in a typical display implementation that picks up the noise interference, a measurement should preferably not be made when the sensor line is connected to a high impedance system. When the sensor Sl is isolated by sensor TFT T3 any noise affecting the sensor Sl has to be picked up by the extremely short lines of the pixel circuitry; therefore, very little if any noise affects the charging or discharging of the sensor capacitor. These switching and impedance characteristics contribute to the successful operation of the pixel and sensor circuits. Two exemplary pixel with sensor circuits are now described that may be used with the inventive display, display control system and method, and sensor readout circuits and methods. Although particular pixel emitter, sensor, and circuit topologies are described relative to these two embodiments, it will be appreciated that the invention is not limited to only these particular circuits or device structures and that variations in the design and the particular electrical circuit devices may be modified, such as by changing the types of control devices to be other than particular transistors, TFT, diodes, or the like and substituting any two-terminal or three-terminal control or switching means. While the transistors are indicated as being TFT type transistors, the invention is not limited to only TFT type transistors. Furthermore, other alterations to pixel circuit topology, such as by adding additional circuitry may be made without departing from the spirit and scope of the invention. The type of emissive device may also be modified to be other than an OLED emitter and for example any active emitter may be used including but not limited to inorganic photon emitting devices or structures; and the characteristics of the sensor may be modified so that in addition to photoresistive or photoconductive devices, any sensor device that undergoes a change in response to incident photon flux may be substituted One of the advantages of both of the circuits described relative to the embodiments in FIG. 7 and FIG. 8 are that they provide a high-impedance to low-impedance conversion system for an active matrix emission feedback stabilized flat panel display, such as an OLED display. The circuits of FIG. 7 and FIG. 8 provide this by isolating the off display glass or substrate circuitry (such as voltage comparator amplifier VCl and switching transistor TFT T4) from the high impedance of sensor Sl in the pixel during the photon flux integration operation, which occurs during the frame time. The design of the circuits prevents noise on sensor line L4 that would result if sensor line L4 was connected to a high impedance source. In this regard, it is well known that a conducting line connected to a high impedance will pick up electromagnetic interference from the environment. This is easily demonstrated by observing the behavior of a volt meter with the plus and minus leads open in the air. The voltage will continually range from plus a few volts to minus a few volts due to radio and TV interference. Since Sl has a resistance in the gig-ohm range and higher, it acts like an open circuit to sensor line L4 if L4 is connected directly to sensor Sl without benefit of sensor capacitor C2. During the photon flux integration time sensor TFT T3 is turned off. While power supply line Ll is not isolated from sensor Sl in this pixel circuit configuration, noise on power supply line Ll does not affect the operation of the pixel or the display since power TFT T2 is operating in the saturation mode and therefore changes of voltage (even on the order of volts) across power TFT T2 due to noise does not change the current through T2, and therefore the emission of photons from pixel diode emitters Dl for all pixels in the display remains stable. Furthermore, any noise picked up by power supply line Ll fluctuates around zero volts (that is on average it has substantially equivalent positive and negative fluctuations about zero volts) during the frame time when sensor capacitor C2 is charging through sensor Sl; therefore, the noise cancels out and the voltage on sensor capacitor C2 after the frame time is complete is due only to the discharge rate of sensor Sl when photons are intercepted. During the row address time when the voltage on line selection voltage line L2 goes high and turns on drive TFT Tl and sensor TFT T3, the voltage on sensor capacitor C2 is read by the voltage comparison amplifier VCl at its sensor input on Pl. This sensor input at Pl is compared with a reference voltage at P2 on its other input to generate a difference or error voltage at output P3. Noise does not interfere during the reading of the voltage present on sensor capacitor C2, because the current induced by noise is in the nanoampere range and at most may cause slight changes in the charge on capacitor C2, but since virtually no current goes though the high impedance no voltage results from the low level of noise interference. One of the primary differences between the circuits of the embodiments of FIG. 7 and FIG. 8, is that in the FIG. 7 circuit embodiment, the voltage on sensor capacitor C2 at the beginning of the frame is zero volts and provided by turning on grounding TFT T4 at the end of the read time during the row address time. The voltage on the other side of sensor capacitor C2 is at the line Ll voltage which is the supply voltage to power transistor T2, which may for example be at +10 volts. As sensor Sl in combination with sensor capacitor C2 integrates the photon flux from OLED Dl over the frame time, the voltage at the point P5 between C2 and T3 rises toward the supply voltage on Ll (e.g. toward +10 volts). The more photons received by sensor Sl and integrated by the combination of sensor Sl and sensor capacitor C2, then the closer the voltage between sensor capacitor C2 and sensor transistor T3 comes to the supply voltage on line Ll . While this circuit has many advantages over conventional circuits and methods, a possible drawback of this particular embodiment of the circuit in an actual implementation is that the supply voltage on line L2 may possibly fluctuate a small amount due to the number of pixels and the level of OLED emission from each pixel being supplied by Ll. Since this can be any combination of pixels and emission levels the voltage reading on sensor capacitor C2 may theoretically have some slight ambiguity but this ambiguity may generally be small and performance still an improvement over conventional circuits and methods. The circuit 380 described by FIG. 8 on the other hand is referenced to ground and to the voltage of Vcap 355 that is fed or communicated to sensor capacitor C2 327 through the sensor TFT T3 330 and TFT T4 340 transistors during the address time. Although the two circuits have a somewhat different structure and operation, they have certain features in common. In each of the circuits, an emissive device (such as an OLED diode) coupled to ground is driven by a controlled current source (such as a TFT transistor T2). The pixel data value in the form of a voltage is applied to the control terminal (TFT gate) so that the pixel emission (number of photons) is related to its intended integrated photon flux. Recall that a sensor Sl 324 and a capacitor C2 327 are coupled as a photon flux integrator device 339 (along with supporting circuitry) with the pixel emissive element (OLED diode) so that a representative and measurable number of the photons emitted from the emitter are incident on the sensor and the combination of the sensor and capacitor generates a photon count. The sensor Sl and capacitor C2 combination integrates or counts the total number of photons it has collected during a defined period (in one embodiment the display frame time of 16.7 milliseconds). This integrated photon flux is a useful measure because it provides greater repeatability and immunity from noise than any instantaneous measure, provides a larger signal amplitude, and the integrated nature of the photon flux may likely be more representative of the integrated photon flux perceived by a human observer owing to the relatively slow response and latency of the human visual system. A reference integrated photon flux has been established, and the sensor signal is then communicated to the control system and used with the reference to adjust the data signal that is applied to the control device during the next calibration period (such as the next frame) so that the actual pixel integrated photon flux (effectively photons emitted by the OLED diode or other emitter) matches the desired integrated photon flux (number of photons identified during calibration). Having now described some of common aspects of the pixel circuit structure and operation, attention is now directed to a more detailed description of the two embodiments illustrated in FIG. 7 and FIG. 8. An embodiment of an active matrix display pixel with emitter, sensor, photon flux integration, and control components is now described relative to FIG. 7. A pixel diode drive transistor Tl 310 is coupled to a image voltage line L3 301 at its drain (DT1) terminal 311, to a first terminal 315 of storage capacitor Cl 314 and to the gate terminal (GT2) 323 of a power control transistor TFT T2 320 at its source (ST1) terminal 312, and to a line selection voltage line L2 302 at its gate (GTi) or control terminal 313. Power TFT transistor T2 320 is coupled to power supply voltage line Ll 301 at its drain terminal 321, and this drain terminal is also coupled to a first terminal 325 of sensor Sl 324 and to a first terminal 328 of sensor capacitor C2 327 at a common node. A second terminal 316 of storage capacitor Cl 324 is coupled to the source terminal 322 of power TFT T2 320 and to the input terminal 337 of emitter (OLED diode) 336. The output terminal 337 of OLED emitter 336 is coupled to ground 305. A second terminal 326 of sensor Sl 324 is coupled to the second terminal 329 of sensor capacitor C2 327. A calibration read voltage (Veal) is measured or read at node P5 334 defined by the connection of sensor Sl output at 326 and the sensor capacitor terminal 329 as described hereinafter. This node P5 is also coupled to the source terminal 331 of sensor TFT T3 330. Sensor TFT T3 330 is also coupled at its source terminal 332 to sensor line L4 304 which provides an input signal at an input port Pl 351 of voltage comparator VCl 350. Voltage comparator 350 receives a reference voltage at a second input port 352 and generates a difference or error signal P3 353 computed as the difference between the Pl 351 and P2 352 inputs. In this embodiment, the sensor output that is applied as an input to the voltage comparator VCl 350 is also applied at a common node 351 as the drain terminal 341 input of grounding TFT T4 340. The source terminal 342 of TFT T4 340 is coupled to ground 306, and receives a control signal 344 at its gate terminal 343. These transistors provide switching to connect pixel elements at times and to isolate other pixel elements at the same or different times so that tight management, control, and or measurement of small voltages, currents, charges, and/or photon counts may be precisely and accurately accomplished. Note that the sense of source and drain terminals of the TFT may be reversed depending upon the n- or p- type of material used for the TFT transistors. While certain elements of the circuit described cooperate and contribute to operation of the pixel emitter, the pixel photon flux integrator, and the measurement and calibration operation, some approximate categories may be developed to assist the reader in understanding aspects of the invention; however, these categorizations are should not be applied to limit the scope of the invention as elements of the circuit described contribute to more than one category at some times and not at all at other times as described in detail in this specification. With this in mind, drive TFT Tl, storage capacitor Cl, power control TFT T2 and diode Dl may contribute primarily to operation of the OLED diode emitter; sensor Sl, sensor capacitor C2, and sensor TFT T3 contribute primarily to the operation of determining or generating an integrated photon flux measurement; and voltage comparator VCl and grounding TFT T4 in this embodiment contribute primarily to reading the integrated photon flux measurement and determining a difference between that measurement and a reference so that a correction may be applied to adjust the pixel emitter luminance as indicated by the measured integrated photon flux. Having described the general topology and connectivity of the circuit elements in FIG. 7, attention is now focused on its operation so that additional aspects and advantages of the invention will be better appreciated. A power source voltage (Vps) typically in the range of 10 to 15 volts is applied to line Ll 301, which serves as the power source for both OLED Dl 336 and the charging source for sensor capacitor C2 327. The invention is not limited to any particular range and higher and lower voltages may be used consistent with device characteristics. At the same time, a line selection voltage (VLS) is applied to line L2 302 causing data drive TFT Tl 301 to turn on. Also at the same time an image voltage (VJM) representing the image to be displayed and referred to as the image voltage is applied to line L3 303, and due to the fact that data drive TFT Tl 301 is turned on (or conducting), this image voltage (VIM) is delivered by TFT Tl to the gate GT2 323 of power control TFT T2 320 and storage capacitor Cl 314. This causes a device current (ID1) to be delivered by TFT T2 320 to OLED Dl 336 and a specific light emission level is emitted from OLED Dl 336 that is calculated to be the proper light emission (ECALC) required by the image. When the display is new and freshly adjusted by the manufacturer the image voltages will produce the correct pixel/OLED emission values. In one embodiment, sensor Sl 324 is physically located in contact with the semiconductor anode side of the OLED Dl 336 for optimum optical coupling so that sensor Sl collects or intercepts at least a portion of the light emitted by OLED during its emission, and preferably as much of the emitted photons as possible so as to improve integrated photon count and signal strength. In terms of luminance, in this embodiment sensor Sl receives the same or substantially the same luminance as the OLED pixel emits, because the flux density striking the pixel (the sensor portion of the pixel) is the same as the flux density emitted by the pixel (the emitter portion of the pixel) as a whole because the portions are preferably (but not necessarily) in contact. (Other embodiments provide the sensor Sl to be physically located near the OLED so that it collects or intercepts enough light to provide useful sensor signals but not in contact with the anode side of the OLED Dl.) In one embodiment, the sensor Sl is a photoresistive (or photoconductive) sensor in which the resistance decreases (or conductivity increases) with increasing photon flux density emitted by the OLED emitter. During the frame duration (TFR), which at 60 frames per second (fps) is 16.7 ms, the light emitted from OLED Dl 336 impinges on sensor Sl 324 and causes a resistance (Rsi) 347 component of the sensor Sl 324 to decrease in proportion to the intensity of the light (photon) emission. During the display frame time, sensor capacitor C2 327 is being discharged through sensor Sl 324. The frame duration and the average resistance (RaVe) 348 of sensor Sl during the frame time determine the amount of charge discharged by sensor capacitor C2. The amount of charge discharged by sensor capacitor C2 is an important parameter because it controls or determines the voltage (VCAL) on the node P5 connected between sensor capacitor C2 and sensor TFT T3. This read calibration voltage will be the read value sent to the circuit or other logic that determines the correction that is used to calibrate and maintain the uniformity and color balance of the display during normal operation. (Different embodiments of the invention provide different read circuits which are described elsewhere in this specification.) It is important to note that the higher the voltage measured at the node P5 between sensor capacitor C2 and sensor TFT T3, the greater amount of photon flux (pixel luminance) that was detected or intercepted by sensor Sl. This happens because the lower the resistance of Sl, the closer (or the smaller the difference) the voltage at the node P5 between sensor capacitor C2 and sensor TFT T3 comes to the supply voltage on Ll. With reference to FIG. 8, there is illustrated a second embodiment of the present invention. Like numbered elements in this specification have the same or similar operation unless such differences are described. There are many similarities between the two circuits and the entire topology and connectivity of elements is not repeated here. In this embodiment sensor capacitor C2 327 is first charged to a predetermined voltage as it was in the first embodiment of FIG. 7 using the power line, but in this embodiment sensor capacitor C2 327 is charged through the sensor line by TFT T4 340 and a capacitor charging voltage source (Vcap) 355, such as for example to +10 volts (or to any other voltage value). (Recall that the FIG. 7 embodiment does not utilize a capacitor charging voltage Vcap in this manner and note that the TFT T4 transistor is operable to interact between the Pl input of the voltage comparator 350 and Vcap 355 rather than between the Pl input and ground 306.) During the frame time (for example, a frame time of about 16.7 ms for a 60 frame/sec (fps) system), light or photons from the OLED Dl causes the resistance of sensor Sl 324 to decrease and accelerate the discharge of sensor capacitor C2 327 to ground. As compared with the FIG. 7 embodiment, in this FIG. 8 embodiment the voltage on sensor capacitor C2 336 moves towards the ground voltage at Gl 305 (or other voltage) instead of moving towards the positive supply voltage as in the FIG. 7 embodiment. Therefore, the greater the photon flux emission from OLED Dl, the lower the resistance of sensor Sl, the greater the current during the frame time discharge, and the lower the voltage remaining on sensor capacitor C2 when sensor capacitor C2 is measured during the read time. This FIG. 8 embodiment therefore has advantages over the FIG. 7 embodiment, because the charge voltage may be better controlled on the sensor line L4 than it is on the supply voltage line Ll, but both embodiments are useful and have significant advantages over conventional circuits and methods. In general for an actual implementation, the voltage on supply voltage line Ll varies according to the amount of current being delivered by line Ll and the row being measured. For many display architectures, the higher the row number the further away the row will be from the line Ll power supply and more current times resistance (I*R) voltage drop in the line to that row. By comparison, because the sensor line L4 in this embodiment only delivers current when a reading or measurement is being made, or when sensor capacitor C2 is being re-charged, the voltage is highly stable and not subject to possible variations as the supply voltage line may be so subject. These and the other circuits described herein may be implemented as integrated circuits either on the same substrate as the display (e.g. the display glass) or on separate substrates off the display. 3. Embodiment of Calibration of the Sensors and Circuit The sensors may be calibrated during manufacturing before the display is completed (pre-manufacrure calibration) or after manufacturing has been complete (or at selected stages in between these two times). The first embodiment of calibration is the calibration during manufacturing. FIG. 9 is an illustration showing an embodiment of the calibration flow chart for pre-manufacturing calibration. The point of calibration is after the active-matrix and sensor circuitry has been completed, but before the OLED structure has been deposited on the active-matrix back plane. At this point the completed active matrix back plane is inserted into a test fixture that connects all the display inputs except the Ll supply voltage to a display control board which drives the active-matrix backplane in an identical fashion as it will be in full operation as a display. There need be no connection to Ll since there is no OLED Dl yet integrated with the back plane. This calibration process is described relative to the second embodiment of the pixel circuitry illustrated and described relative to FIG. 8, where capacitor C2 is charged through the sensor line and Vcap. First (Step 801), the active-matrix backplane (am backplane) is loaded into the test fixture which is connected to the display control system, such as for example the control system illustrated in FIG. 4. Second (Step 802), the am backplane is uniformly illuminated with a calibrated laboratory uniform light source at a luminance equal to gray scale luminance 1. (This step may be performed with the backplane uniformly illuminated with a light source at a luminance equal to gray scale luminance of a different level, such as another low level illumination so long as the level is known and the calibration procedure takes this different level into account, but this approach is not preferred.) Third (Step 803), the display controller Z 104 sends a select row 1 to Row Select 240 to turn on all the T3 transistors in row 1 of the display. Fourth (Step 804), since the third step (Step 803) turned on all the transistor T3s in row 1 , and charge flows from the sensor line L4 into capacitor C2 charging it to a voltage, such as for example, charging it to 10 volts. Fifth (Step 805), when capacitor C2 charges, the current is sensed by operational amplifier (OP amp) to generate VCl and the value is sampled and held by ZlOl for each pixel in row 1. Sixth (Step 806), the sampled and held voltages are digitized and multiplexed (MUX) to a serial data stream by AfD Converter 207 and MUX, 207a. The sequence of the D/ A and MUX may be interchanged with no affect on performance. Seventh (Step 807), the display controller Z 104 directs the serial data stream to be stored as the zero line to Calibration Memory (CaI Mem) 250. This is referred to as the zero line because this data is on sensors that have not had the full frame time to photon flux integrate the gray level. Next (Step 808), Steps 803 through Steps 807 are repeated for all rows in the display to be calibrated (usually every row) until all rows in the frame have been sampled. At this point the first gray level of emission for the first row has been integrated by Sl and C2 for the full frame time. After all rows have been calibrated for the gray level 1 value, the next step (Step 809) repeats Steps 803 though Step 807 for the next gray level to be calibrated, usually gray level 2 in the preferred embodiment. The sample and held values determined from Step 806 are the proper values for the first gray level and are stored in Step 807 to the first row values for gray level 1. In a final step (Step 810), each of the first nine steps (Step 801 through Step 809) are repeated until all gray levels have been sampled and stored to Calibration Memory (CaI Mem) 205. Note that in one embodiment, the last or highest gray level (e.g. gray level 256 for an 8-bit system) may be or is run for two frames since the gray level values recorded at the beginning of the 256th frame are for the 255n gray level and this assures that the final value is stored in the Calibration Memory 250. The second embodiment for calibration (post-manufacture calibration), calibrates the completed manufactured display, such as for example when the display is first powered on, booted-up, or otherwise initialized or used for the first time. This calibration system assumes that the manufacturer adjusted the display in the usual manner prior to shipment for sale to the display user or OEM manufacturer of another device. Therefore the voltages used to operate the display have been put into a gamma table or other look-up table as is the usual practice in the industry. This means that the first sensor values measured are automatically calibrated. This embodiment takes advantage of the manufacturer's calibration. Details of this post-manufacture calibration are described with reference to the embodiment illustrated in FIG. 10. First (Step 831), the analog image Data function logic block 208 sends first gray level 1 image voltage for the first pixel (pixel 1) in the first row (row 1) to image A/D converter 209 where the analog voltage is digitized to a gray level 1 digital value. (Where the gray level image values are already in digital form this analog-to-digital conversion is not necessary.) Second (Step 832), this digitized gray level 1 voltage value is sent or otherwise communicated to gray level logic function block Z 103. Third (Step 833), gray level logic function block Zl 03 combines information from (i) the manufacturer's (or an otherwise generated or available) gamma table Zl 03b and from (ii) a pixel deviation memory Z 102 within a pixel deviation logic block, but since there are no values yet stored or only default values stored in the pixel deviation memory there is no change to the manufacturer's value determined by the gamma table. (The pixel deviation logic block and the pixel deviation memory and its stored values are described in greater detail herein below.) Fourth (Step 834), the digital gray level 1 voltage is sent to Display Controller function logic block Zl 04. Fifth (Step 835), Display Controller function logic block Z 104 relays the digital gray level 1 voltage value to display first column driver (column driver 1) in function logic block 238. Sixth (Step 836), Step 831 through Step 835 are repeated for all the pixels in the first row until all the pixels data in row 1 have been loaded into a line buffer in column driver 238. Seventh (Step 837), on command from Display Controller Zl 04, the row 1 pixel data is downloaded to a series of digital-to-analog converters (DACs) at the head of each column, where each digital pixel voltage is converted to an analog voltage and loaded onto the line L3s for each column of pixels. Eighth (Step 838), display controller Zl 04, after waiting for the analog voltages on the column lines L3 to stabilize, sends a select row 1 signal to the Row Select function logic block 240. Ninth (Step 839), the row select function logic block 240 puts a high voltage on line L2 and turns on all the gates to all the transistor Tl in row 1, causing the display voltage on line L3 to flow into capacitor Cl where it is held when the voltage on line L2 goes low; and at the same time transistor T3 is turned on causing charge to flow into capacitor C2 from sensor line IA Tenth (Step 840), the movement of charge into capacitor C2 causes a voltage to be sampled and held in function logic block ZlOl, and a value for each individual sensor Sl in row one is read. Eleventh (Step 841), the sample and held voltages are digitized and multiplexed (or multiplexed and then digitized) to a serial data stream by A/D Converter 207 and multiplexer (MUX) 207a. Twelfth (Step 842), Display Controller Zl 04 directs the serial sensor data stream to be stored in row 1 of Calibration Memory (CaI Mem) 250 for gray level zero. Thirteenth (Step 843), Step 836 through Step 843 are repeated until all rows in the frame have been sampled and stored for gray level 0. Fourteenth (Step 844), Step 831 through Step 843 are repeated for gray level 2. The sensor values read on this frame are for the previous gray level 1 and are stored in calibration memory (CaI Mem 250) as the values for the first gray level or gray level 1. Fifteenth (Step 845), Steps 831 through Step 844 are repeated until all gray levels have been sampled and saved to the calibration memory CaI Mem 250. Note that as in the pre-manufacture calibration procedure, the last gray level is run for two frames so that the final value is stored in calibration memory CaI Mem 250. The Pixel Deviation memory has been referred to in the above calibration procedures. In one embodiment, the Pixel Deviation memory stores data or other information that indicates changes, differences, history, aging or other data or information relevant to display operation and calibration. There are many methods to use the data such as aging data stored in Pixel Deviation Memory Z 102. In one embodiment, for example, the voltage can be raised for the aged pixels that have undergone a decrease in luminance to bring them back to the correct luminations. One possible drawback in some embodiments may be that voltage head room has to be built into the column drivers in Column Drivers 238 to fully utilize this type of correction or compensation. In another embodiment, another way to use the data in Pixel Deviation Memory is implemented to reduce the number of gray levels for the less aged (or less degraded) pixels. Yet another method is to use a 9-bit gray scale in a nominally 8-bit system allowing the highest gray level to increase beyond gray level 256 so that an aged pixel can be effectively be driven to level 257 (or other required gray level value) so that it will emit a luminance at the luminance level specified for a gray level 256. Therefore, all the image gray levels for that pixel would be bumped up by one (or an appropriate number) level of gray. Another method uses spatial dithering, a well know gray scale method, to increase the effective number of gray levels without increasing the number of bits in the logic. Alternately, temporal dithering which is known for conventional displays may be used, or combinations of spatial and temporal dithering can be used. These different methods or techniques and the structures associated with such methods may be used alone or in any combination with each other or with other techniques.

4. Embodiment of the Sensor Read Circuit and Method FIG. 5 shows an exemplary embodiment of a voltage sensing amplifier read circuit. When the row is selected by Row Select 240 the voltage goes high on line L2 turning on transistor T3 allowing voltage on capacitor C2 to transfer to the plus terminal on operational amplifier OAl. This voltage is amplified according to the ratio of resistance R2 to the resistance (Ru)of line L4. Typically the resistance RL4 of L4 is on the order of several kilo- ohms (ml O3 ohms). Therefore, if resistance R2 is several megohms (?106 ohms) the amplification factor is 30 dB or 1000 to 1. Therefore, a one-millivolt reading on capacitor C2 would show up on pin or node P4 as one-volt and be sent to the sample and hold function block ZlOl . One possible drawback to this circuit is that any parasitic capacitance on line L4 may reduce the voltage on capacitor C2 during the read time. Therefore this circuit is best used for a display with a low number of rows and therefore a relatively low resolution display, but in any event even with this possible limitation, performance relative to conventional circuits and methods is improved and this potential constraint is only pointed out so that the virtues of a second embodiment may be appreciated to the fullest. The second embodiment of the read circuit is shown in FIG. 6 and is termed a charge amp/transimpedance amplifier. It gets its name from the fact that the charge required to re-charge capacitor C2 to the full voltage is measured by this circuit and that the input of the circuit (the negative input on charge amplifier CAl) is in the Gig-ohms range or higher and the output at pin or node P3 is almost zero ohms. In fact the node at P3 may sometimes be viewed as a virtual ground. Operation of this embodiment of the circuit is now described with reference to FIG. 6. A voltage is placed on the plus input pin of first charge amplifier CAl, for example, 10 volts (or other established value). Since initially there is no voltage on the negative input pin, 10 volts instantly appears on pin P3 and is transferred to the negative input pin by C3. Subsequently, the now 10 volts appearing on the negative pin is subtracted from the 10 volts on the positive input pin of the first charge amplifier CAl, causing the voltage on pin P3 to become zero (or substantially zero), but the 10 volts on the negative pin remains, because if the voltage on the negative input pin decays by an amount of voltage (such as by a volt, for example) then this voltage difference (a volt) shows up on pin P3 thereby boosting the voltage on the negative pin back up to 10 volts (or other established value). This is similar to how a charge pump works. When the circuit settles, there is 10 volts (or other established value) on both the input pin to charge amplifier CAl and zero volts on pin P3. Node or pin P3 may almost never be exactly 0 volts for a couple of reasons. First of all, the family of operational amplifiers to which charge amplifier CAl belongs may typically have an offset voltage, because the pair of internal transistors that make up the operational transistor may not usually be exactly alike in characteristics or performance and the difference shows up a the offset voltage. Another reason that the voltage on P3 is not zero is that L4 is connected to all the T3 transistors in the column. This may for example, be as high as one-thousand T3 transistors for a high resolution display having 1000 rows, and an even greater number for larger and/or higher resolution displays. Each of these T3s may typically have a current leakage on the order of several pico-amps (10~12 amps) that tends to lower the voltage on the negative pin of the charge amplifiers CAl causing a voltage to appear at pin P3 on top of the afore described offset voltage. In operation, the voltage on pin P3 is sampled before the voltage on L2 goes high, in order to determine the voltage caused by the offset voltage and the leakage current on line L4. Pin P3 is advantageously again sampled after the voltages on line L2 goes high and the two voltage subtracted (using logic functions common in the industry) to generate a difference voltage. The difference between the two readings is a measure of the charge moving into capacitor C2 to bring line L4 and capacitor C2 up to the 10 volts (or other established value) as used in the example. One advantage of this embodiment is that the reading of charge by a voltage change on pin P3 is independent (or substantially independent) of the capacitance on line L4. The first charge amplifier CAl keeps line L4 charged to the voltage on its plus (+) input pin. If one electron is removed from L4 then one electron moves out of capacitor C3 to replace it, and any movement of electrons from capacitor C2 cause the voltage to decrease on the negative input pin of charge amplifier CAl with a corresponding voltage change on pin P3. In one embodiment, the value of the C3 capacitance is selected to be on the same order as the C2 capacitance; therefore, if capacitor C2 has a capacitance of about a picofarad then C3 should also be selected to have a capacitance of about a picofarad, but they need not have identical values. The charge amplifier may be a typical operational amplifier as used in the industry. The size of the charge amplifier (its power rating) is determined by taking into account the leakage on line L4. If for example the leakage of one-thousand T3 transistors is a several nano-amps, then charge amplifier CAl is advantageously able to supply several nano- amps, and preferable this amount with some safety margin. Embodiments of the invention provide safety margins of a factor of two or three times the leakage current, but lesser or greater safety margins may be implemented. The discussion has focused on the inventive sensor circuit and its operation. It will be appreciated that any photoconductive (or photoresistive) material may be used for the sensor, including for example any of amorphous silicon, poly-silicon, cadmium selenide, or other photoconductive or photoresistive materials that are know in the art or to be developed in the future. It will also be appreciated that a poly-silicon based sensor may provide for an inherently more stabile operation than an amorphous silicon based sensor, the use of poly- silicon also has inherently greater production costs for a display because the flat panel display manufacturing infrastructure is well established for amorphous silicon, but would need to be rebuilt for poly-silicon at costs measured in the billions of dollars. Therefore the inventive system, structure, and method that permit use of amorphous silicon materials through its calibration and feedback stabilization and control provide distinct advantages. Issues associated with the differences between crystalline silicon (x-Si), poly-silicon (p-Si) and amorphous silicon (a-Si) are described elsewhere in this specification.

5. Embodiment of Method Of Operation the Display Device and System Having described many features of the inventive system and device and calibration methods and techniques related thereto, further attention is directed to aspects of operation of the display. Attention is focused on embodiments that use the read circuit of the FIG. 6 embodiment, and the pixel circuit of the FIG. 8 embodiment with VCl and T4 being replaced with charge amplifier CAl in FIG. 6. It will be apparent to those workers having ordinary skill in the art in light of the description provided here that other combinations of the different embodiments already described may be utilized for the display device and system. An embodiment of a system and method for operating a display and display system is now described with reference to the flow-chart diagram of FIG. 11. This sequence of steps is exemplary, including optional steps, and it will be apparent that some reordering of steps may be made, and that other steps may be performed in parallel, without deviating from the spirit and scope of the invention. First (Step 851), the analog image Data function logic block 208 sends the image voltage for the first pixel in the first row (pixel 1, row 1) to the image A/D Converter 209 where the image analog voltage is converted to a digital number representing the image gray level, which, in an 8-bit gray level system, is a number between 0 and 255. For a gray level system supporting a different number of bits of pixel gray level data, the digital number will correspond to that range or to a lesser range if fewer than all possible levels are actually utilized. An 8-bit gray level system with 256 levels for each color channel will be assumed for purposes of this description, but this in no way limits the invention. (Note that performing this procedure or any of the other procedures beginning with the first pixel of the first row and then subsequent pixels of the first row and then all the other rows makes logical sense, but neither this procedure requires this starting point or sequence, and in reality so long as the logic is designed to calibrate and/or operate each pixel in the described manner, any ordering may be used.) Second (Step 852), this image gray level value between 0 and 255 is sent to the gray level logic function block Z 103. Third (Step 853), gray level logic function block Zl 03 converts the gray level number for the first pixel in the first row (pixel 1, row 1) into a digital voltage to be applied to the pixel to cause the OLED Dl to emit a photon flux at a level of luminance to equal the image gray level input to the display system at the first step. This voltage is determined using information in the manufacturer's gamma table and the information from the Pixel Deviation Memory Zl 02. Initially when the display is new there is no deviation data in Pixel Deviation Memory or the values stored there are default values so that these values will not really change the manufacturer's gamma table values, but as the display ages pixel deviation values are built up in the Pixel Deviation Memory Z 102. Fourth (Step 854), the digital voltage for the first pixel of the first row (pixel 1, row 1) is sent to Display Controller Zl 04. Fifth (Step 855), Display Controller Z104 relays or otherwise communicates a digital voltage for the first pixel in the first row (pixel 1, row 1) to a line buffer in Column Driver 238. Line buffers for displays are known in the art and not described here in greater detail. The pixel voltage for the first pixel in the first row (pixel 1, row 1) is loaded into the line buffer at the first column position (column position 1). Sixth (Step 856), Step 851 through Step 855 are repeated for all the pixels in the row until all the pixels in the row have voltages loaded into the line buffer of Column Driver 238. Seventh (Step 857), on command from the Display Controller Zl 04, the first row (row 1) pixel data is downloaded to a series of parallel DACs (one for each column in the display) which convert the digital pixel voltages to analog voltage applied to all the L3 (one for each column). Eighth (Step 858), Display controller Zl 04, after waiting for the voltage placed on L3 to settle sufficiently, sends a select row 1 signal to Row Select logic block 240. Ninth (Step 859), Row Select logic block 240 places a high voltage on line L2 for row 1, therefore turning on all Tl transistors in the first row and causing the voltages applied to the line L3s to be transferred to the Cl capacitors in all the pixels in the first row. This in turn, causes the power TFT transistor T2 to supply current to the Dl OLED diodes in the first row. At the same or substantially the same time, all the sensor TFTs T3 are turned on causing charge to flow into capacitor C2 until capacitor C2 is at the re-charge voltage, for example, the 10V exemplary value described in the earlier example. Tenth (Step 860), the movement of charge into capacitor C2 causes a voltage to be sampled and held in function logic block ZlOl for each pixel in the row. Eleventh (Step 861), the sampled and held voltages are digitized and multiplexed to a serial data stream (the order of digitizing and multiplexing can be reversed without loss of performance) by AfD Converter 207 and multiplexer MUX 207a. Twelfth (Step 862), Display Controller Zl 04 directs the serial sensor data and a stream of calibration data from Calibration Memory (CaI Mem) 250 to meet at Comparator 260 so that a comparison of the serial sensor data and the calibration data for the pixels can be generated. Thirteenth (Step 863), comparator 250 subtracts (or generates a difference between) the sensor data from the calibration data and sends the result to Pixel Deviation Memory Z 102 for the first row (row 1) where the data is stored according to pixel number and row (or any other scheme) and by gray level established for the pixel in the first step (Step 851) that is a digital number representing the image gray level. Fourteenth (Step 864), Step 856 through Step 863 are repeated for all rows until all rows in the frame have been down loaded and deviations (if any) have been determined and stored in Pixel Deviation Memory. Fifteenth (Step 865), Step 851 through Step 864 are repeated for each frame (or for any designated frame according to an established plan of operation). While one embodiment performs the procedure for each frame, this is not necessary as pixels do not normally age or otherwise change at this rate. Alternatives may include repeating the procedure at any predetermined number of frames, at device power-on, after a clock determined period of time of operation, in response to an automatically or manually generated signal, or other event. In one embodiment, the procedure is repeated for every frame as once the circuits and methods have been established, there is no cost in performing the procedure for every frame.

6. Embodiment of a Display System FIG. 12 is an illustration showing an embodiment of a display system according to aspects of the present invention. A display screen 602 having a plurality of emissive pixels 603 of the type already described arranged in an array is held or mounted within a housing 604 such as a monitor frame, cabinet, or other device, and displays an image 605 or other two dimensional graphic. (Note that one-dimensional displays may also be fabricated using the features of the invention but although possibly useful are less interesting.) Circuits and devices that are formed on the display substrate (often glass or polymeric material) are referred to as on-glass circuits and devices while those that are not formed on the display substrate are referred to as off-glass circuits and devices. The pixels including the pixel emitters Dl, sensors Sl, sensor capacitors C2, and other elements formed within each of the display pixels are formed on-glass. Other elements may be formed off glass according to conventional display design principles. The on-glass circuits and devices connect to the off-glass circuits and elements such as display drive and control electronics 606 over an interface 608. These display drive and control electronics 606 may be mounted within or without the monitor housing 604 but may usually be housed within so that a user may simply plug in one or more (analog or digital) video or image sources (such as for example, a DVD player 610, a computer 612, a video or digital camera 614, or memory card 616) and have the image or video displayed. Alternatively or in addition, the display system 600 may include image generators within the system, such as a TV tuner or receiver 618 or other internal generator. Of course there may be various other wired or wireless interfaces for sending data to the system 600 for display. A switching device SW 620 may be provided to manually or automatically select which of the sources are to be displayed, and multiple sources may be simultaneously displayed such as by using picture-in-picture technology. The system may also support various forms of image processing and enhancement. This is only one example of the application of the display technology to imaging applications and it will be appreciated that although a primary application of the technology is to flat-panel displays, the inventive technology may be applied to displays having curved surfaces as well. There are an endless variety of display applications for which the inventive technology may be applied. We list several by way of example but not limitation; they include: any information appliance, a television monitor, a CD player, a DVD player, a computer monitor, a computer system, an automobile instrument panel, an aircraft instrument display panel, a video game, a cellular telephone, a personal data assistant (PDA), a telephone, a graphics system, a printing system, a Scoreboard system, document and image scanners, an entertainment system, a domestic or home appliance, a copy machine, a global positioning system navigation display, a dynamic art display device, a digital or video camera, and any combinations of these.

7. Exemplary Embodiments Having Particular Combinations of Features Various structures, devices, systems, architectures, methods, procedures, and computer programs have been described in this specification and illustrated in the figures. It will be appreciated in light of the description that the invention provides many different features and elements that can be utilized separately or in various combinations. This section of the description sets forth some particular embodiments that have or require particular combinations of features and elements of the invention. The combinations set forth are merely exemplary, and any of the features and elements described in this section or in the specification as a whole may be used separately or in combination. It will also be appreciated that the section headers and sub-headers set forth in the detailed description are merely intended to serve as a guide to the reader and that different aspects, features, and elements of the invention are set forth throughout the specification. In one aspect the invention provides a system and method for a long-life luminance feedback stabilized display panel. In a first embodiment, the invention provides a stabilized feedback display system comprising: a display device having a plurality of emissive picture elements (pixels) each formed from at least one electronic circuit device; a display driver circuit receiving a raw input image signal from an external image source and applying a corrected image signal the display; a display luminance detector generating at least one display device luminance value; and a processing logic unit receiving the at least one display device luminance value and communicating information to the display driver circuit, the display driver circuit using this communicated information to generate a transformation for generating the corrected image signal from the raw input image signal. In second particular embodiment of this system, each of the picture elements comprises: a sample and hold circuit; a current source controlled by the sample and hold circuit; a photon emission device supplied by the current source; and a luminance detection device disposed within a separation distance from the photon emission device for detecting photons emitted by the photon emission device. In a third embodiment, each of the picture elements comprises: a photon emitter; and a photon flux integrator disposed within the pixel to intercept a flux of photons from the photon emitter during a specified time, to undergo an electrical property change in response to the photons intercepted, to integrate or count the number of photons intercepted during the time, and to generate a signal indicative of a the total integrated photon flux during the specified time. In a fourth embodiment, the photon flux integrator comprises: a sensor formed of a photo device that exhibits changing or variable properties in response to a changing or variable photon flux; a charge storage device adapted to store or release charges; and a control circuit that directs charges to or removes charges from the charge storage device in response to the change in resistance or conductance of the sensor. In a fifth embodiment, the charge storage device comprises a capacitor. In a sixth embodiment, the control circuit includes a transistor. In a seventh embodiment, the photo device comprises a photo sensitive resistor that changes its resistance or conductance with changes of photon flux impinging on its surface. In an eighth embodiment, photo device comprises a photo diode the leakage of which increases or decreases with variations of photon flux impingent on its surface. In a ninth embodiment, the photo diode leakage comprises one or more of voltage leakage, current leakage, or charge leakage. In a tenth embodiment, the photo device comprises a phototransistor the current of which increases or decreases with variations of photon flux impingent on the phototransistor surface. In another embodiment of the system, the luminance detector comprises a photon flux integrator. In another embodiment of the system, the picture element (pixel) comprises a particular photon flux integrator that integrates a photon flux emitted by the photon emission device within the same pixel as the photon flux integrator. In another embodiment of the system, each photon flux integrator comprises: an isolation switching device for isolating a first circuit node from a second circuit node and having an output port (node); a photosensitive unit having an input coupled to the isolation switching device output port (node) and an output connected with a voltage reference node; and a charge storage device having a first electrode coupled with a first port of the isolation switch and a second electrode coupled with the voltage reference node. In another embodiment of the system, the charge storage device comprises a capacitor. In another embodiment of the system, the isolation switch comprises a transistor. In another embodiment of the system, the isolation switch is formed on a substrate as a thin film transistor (TFT). In another embodiment of the system, the thin film transistor is constructed from amorphous silicon. In another embodiment of the system, the thin film transistor is constructed from polysilicon. In another embodiment of the system, the thin film transistor is constructed from cadmium selenide. In another embodiment of the system, the thin film transistor is constructed from any semiconductor material. In another embodiment of the system, the thin film transistor comprises a channel defined in a material, and the material is selected from the set of materials consisting of: an amorphous silicon channel, a poly-silicon channel, a cadmium selenide channel, a gallium arsenide channel, and a channel formed or defined in any other semiconducting material. In another embodiment of the system, the display device comprises multiple picture elements arranged in a planar array. In another embodiment of the system, the multiple individual picture elements are addressed by column and row. In another embodiment of the system, the specified time is equal to or less than the row address time. In another embodiment of the system, the specified time is between 0.01 (1 percent) of the row address time and the row address time. In another embodiment of the system, the specified time is between 0.1 (10 percent) of the row address time and the row address time. In another embodiment of the system, the specified time is equal to or less than the frame time. In another embodiment of the system, the specified time is greater than 0.01 of the row address time and less than or equal to the frame time. In another embodiment of the system, the specified time is equal to multiple frame times. In another embodiment of the system, the display emissive device is an organic light emitting diode (OLED). In another embodiment of the system, the organic light emitting diode (OLED) is a small molecule OLED. In another embodiment of the system, the organic light emitting diode (OLED) is a polymer OLED (PLED). In another embodiment of the system, the organic light emitting diode (OLED) is a phosphorescent OLED (PHOLED). In another embodiment of the system, the organic light emitting diode (OLED) is constructed from any organic material in any combination of single or multiple layers of organic materials and electrodes. In another embodiment of the system, the organic light emitting diode (OLED) is a active matrix OLED. In another embodiment of the system, the display emissive device is an electroluminescent device. In another embodiment of the system, the display emissive device is a plasma emission device. In another embodiment of the system, the display emissive device is any controllable photon emissive device. In another embodiment of the system, the active matrix is constructed from amorphous silicon. In another embodiment of the system, the active matrix is constructed from poly silicon. In another embodiment of the system, the active matrix is constructed from cadmium selenide. In another embodiment of the system, the active matrix is constructed from any type of semiconductor material. In another aspect, the invention provides a method for stabilizing a display system comprising: providing a display device having a plurality of emissive picture elements (pixels) each formed from at least one electronic circuit device; receiving a raw input image signal by a display driver circuit from an external image source and applying a corrected image signal to the display; detecting a display luminance and generating at least one display device luminance value; and receiving the at least one display device luminance value by a processing logic unit and communicating information to the display driver circuit, and using this communicated information to generate a transformation for generating the corrected image signal from the raw input image signal. In another aspect the invention provides a method for operating and individually controlling the luminance of each pixel in an emissive active-matrix display device. In one embodiment of this method, the invention provides a method for controlling the luminance of a picture element (pixel) in a display device, the method comprising: storing a transformation between a digital image gray level value and a display drive signal that generates a luminance from a pixel corresponding to the digital gray level value; identifying a target gray level value for a particular pixel; generating a display drive signal corresponding to the identified target gray level based on the stored transformation and driving the particular pixel with the drive signal during a first display frame; measuring a parameter representative of an actual measured luminance of the particular pixel at the end of the first display time; determining a difference between the identified target luminance and the actual measured luminance for the particular pixel; modifying the stored transformation for the particular pixel based on the determined difference; and storing and using the modified transformation for generating the display drive signal for the particular pixel during a frame time following the first frame time. In another embodiment of this method, the first display frame is any display frame designated by software programming or by the display user or by a combination of the programming and the user. In another embodiment of this method, the frame time following the first frame is any subsequent frame time. In another embodiment of this method, the first display frame is any display frame designated by software programming or by the display user or by a combination of the programming and the user. In another embodiment of this method, the first display time may be either a single continuous period of time or comprised of a plurality of discontinuous periods of time, and wherein either of the continuous period of time and the discontinuous periods of time may occur during a single frame time or over multiple frame times. In another embodiment of this method, storing and/or the using of the modified transformation for generating the display drive signal for the particular pixel is applied at any subsequent portion of a single frame or at different frames. In another embodiment of this method, the storing and/or the using of the modified transformation for generating the display drive signal for the particular pixel may be either at single continuous period of time or comprised of a plurality of discontinuous periods of time, and wherein either of the continuous period of time and the discontinuous periods of time may occur during a single frame time or over multiple frame times. In another embodiment of this method, the storing and/or the using of the modified transformation for generating the display drive signal for the particular pixel may be either at single continuous period of time or comprised of a plurality of discontinuous periods of time, and wherein either of the continuous period of time and the disconti

「特表2008-505366およびWO2006005033より引用」

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[Claims] 高周波無線受信機の回路および方法

【特許請求の範囲】
【請求項1】
アンテナと、
ソースを有する第1のトランジスタと、
ゲートを有する第2のトランジスタと、
前記アンテナに結合された第1の端子、前記第1のトランジスタの前記ソースに結合された第2の端子、および前記第2のトランジスタの前記ゲートに結合された第3の端子を含む回路網とを備え、
前記回路網は、前記第2の端子と第3の端子の間にトランスインピーダンスを有し、したがって、前記第1のトランジスタによって生成される雑音は、所定の周波数範囲にわたって、システムにより差動的に除去されることを特徴とする無線受信機。
【請求項2】
前記第1のトランジスタの入力インピーダンスは、前記アンテナの等価抵抗に略等しいことを特徴とする請求項1に記載の無線受信機。
【請求項3】
前記トランスインピーダンスは、前記アンテナの等価抵抗を含むことを特徴とする請求項1に記載の無線受信機。
【請求項4】
前記回路網は、LC梯子を備えたことを特徴とする請求項1に記載の無線受信機。
【請求項5】
前記回路網は、前記第1のトランジスタの前記ソースに結合された第1の端子と、前記第2のトランジスタの前記ゲートに結合された第2の端子とを有する、第1のインダクタを備えたことを特徴とする請求項1に記載の無線受信機。
【請求項6】
前記回路網は、
前記第1のインダクタの前記第2の端子に結合された第1の端子、および前記第2のトランジスタの前記ゲートに結合された第2の端子を有するコンデンサと、
前記コンデンサの前記第1の端子に結合された第1の端子、および集積回路のパッドに結合された第2の端子を有する第2のインダクタとをさらに備えたことを特徴とする請求項5に記載の無線受信機。
【請求項7】
前記回路網は、
前記第1のインダクタの前記第2の端子と、前記コンデンサの前記第1の端子との間に結合された第3のインダクタをさらに備えたことを特徴とする請求項6に記載の無線受信機。
【請求項8】
前記第1のトランジスタのドレインに結合されたソース、第1のバイアス電圧に結合されたゲート、および第1の抵抗の第1の端子に結合されたドレインを有する第3のトランジスタと、
前記第2のトランジスタのドレインに結合されたソース、第2のバイアス電圧に結合されたゲート、および第2の抵抗の第1の端子に結合されたドレインを有する第4のトランジスタとをさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の無線受信機。
【請求項9】
前記第3のトランジスタの前記ドレインに結合された第1の端子、および前記第1の抵抗に結合された第2の端子を有する第1のインダクタと、
前記第4のトランジスタの前記ドレインに結合された第1の端子、および前記第2の抵抗に結合された第2の端子を有する第2のインダクタとをさらに備えたことを特徴とする請求項8に記載の無線受信機。
【請求項10】
前記第1のインダクタと第1の抵抗の間に結合された第3のインダクタと、
前記第1および第3のインダクタにまたがって結合された第1のコンデンサと、
前記第2のインダクタと前記第2の抵抗の間に結合された第4のインダクタと、
前記第2および第4のインダクタにまたがって結合された第2のコンデンサとをさらに備えたことを特徴とする請求項9に記載の無線受信機。
【請求項11】
前記第1または第2のトランジスタに結合された可変利得回路をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の無線受信機。
【請求項12】
前記第1のトランジスタの前記ドレインに結合されたソース、およびイネーブル信号によって制御されるゲートを有する第5のトランジスタをさらに備え、前記イネーブル信号が能動状態にある場合、前記第5のトランジスタはオンになり、前記イネーブル信号が能動状態にない場合、前記第5のトランジスタはオフになることを特徴とする請求項8に記載の無線受信機。
【請求項13】
前記第2のトランジスタのソースに結合されたソース、前記第2のトランジスタの前記ゲートに結合されたゲート、およびドレインを有する第5のトランジスタと、
前記第5のトランジスタの前記ドレインに結合されたソース、前記第4のトランジスタの前記ドレインに結合されたドレイン、およびイネーブル信号によって制御されるゲートを有する第6のトランジスタとをさらに備え、
前記イネーブル信号が能動状態にある場合、前記第5および第6のトランジスタはオンになり、前記イネーブル信号が能動状態にない場合、前記第5および第6のトランジスタはオフになることを特徴とする請求項8に記載の無線受信機。
【請求項14】
前記第1および第2のトランジスタは、ミクサ段または増幅器段にDC結合されることを特徴とする請求項1に記載の無線受信機。
【請求項15】
前記第1の抵抗の前記第1の端子に結合された第1の入力、および前記第1の抵抗の第2の端子に結合された出力を有し、後続段が適切にバイアスされるように電圧を生成する電圧制御回路をさらに備えたことを特徴とする請求項8に記載の無線受信機。
【請求項16】
前記第1の抵抗の前記第1の端子は、第5のトランジスタのゲートにDC結合され、前記第5のトランジスタの前記ゲートは、
増幅器と、
バイアス発生器と、
制御されたインピーダンスとを備えた電圧制御回路の入力に結合されることを特徴とする請求項8に記載の無線受信機。
【請求項17】
前記第2のトランジスタは、相互コンダクタンスを有し、前記回路網の前記トランスインピーダンスと前記第2のトランジスタの前記相互コンダクタンスとの積は、3ギガヘルツから10ギガヘルツの周波数範囲にわたって、前記第1のトランジスタのドレインに結合された第1の抵抗と前記第2のトランジスタのドレインに結合された第2の抵抗との比にほぼ等しいことを特徴とする請求項1に記載の無線受信機。
【請求項18】
等価抵抗を有するアンテナと、
前記アンテナに結合されたソース、第1のバイアス電圧に結合されたゲート、およびドレインを有する第1のトランジスタであって、前記第1のトランジスタの前記ソースの入力インピーダンスは、前記アンテナの前記等価抵抗にマッチする第1のトランジスタと、
前記第1のトランジスタの前記ドレインに結合された第1のインピーダンスと、
ソース、ゲート、およびドレインを有し、標準の動作時に相互コンダクタンスを有する第2のトランジスタと、
前記第2のトランジスタの前記ドレインに結合された第2のインピーダンスと、
前記第1のトランジスタの前記ソースと前記第2のトランジスタの前記ゲートとの間に結合され、前記第1のトランジスタの前記ソースと前記第2のトランジスタの前記ゲートとの間にトランスインピーダンスを有する雑音除去回路網とを備え、
前記第1のインピーダンスと前記第2のインピーダンスとの比は、前記第2のトランジスタの前記相互コンダクタンスと前記雑音除去回路網の前記トランスインピーダンスとの積にほぼ等しいことを特徴とする一連の周波数にわたって高周波信号を受信する回路。
【請求項19】
前記第1のインピーダンスは、前記第2のインピーダンスに略等しいことを特徴とする請求項18に記載の回路。
【請求項20】
前記第1のインピーダンスは、前記第2のインピーダンスよりも大きいことを特徴とする請求項18に記載の回路。
【請求項21】
前記雑音除去回路網は、前記アンテナの前記等価抵抗を備え、前記雑音除去回路網の前記トランスインピーダンスは、前記アンテナの前記等価抵抗に略等しいことを特徴とする請求項18に記載の回路。
【請求項22】
前記雑音除去回路網は、前記アンテナの前記等価抵抗と少なくとも1つのインダクタとを備えたことを特徴とする請求項18に記載の回路。
【請求項23】
前記雑音除去回路網は、LC梯子を備えたことを特徴とする請求項18に記載の回路。
【請求項24】
前記雑音除去回路網の前記トランスインピーダンスは、受動利得を提供することを特徴とする請求項18に記載の回路。
【請求項25】
ソース入力およびドレイン出力を有する共通ゲート段と、
前記共通ゲート段の前記ドレイン出力に結合された第1の抵抗と、
前記共通ゲート段の前記ソース入力に結合されたゲート入力、およびドレイン出力を有し、相互コンダクタンスを有する共通ソース段と、
前記共通ソース段の前記ドレイン出力に結合された第2の抵抗と、
前記共通ゲート段の前記ソース入力と前記共通ソース段のゲート入力との間に結合されたトランスインピーダンスを有する回路網とを備え、
前記回路網の前記トランスインピーダンスと前記共通ソース段の前記相互コンダクタンスとの積は、2ギガヘルツを超える一連の周波数にわたって、前記第1の抵抗と前記第2の抵抗との比に略等しいことを特徴とする電子回路。
【請求項26】
前記回路網は、
前記共通ゲート段の前記ソースに結合された第1の端子、および第2の端子を有する第1のインダクタと、
前記第1のインダクタの前記第2の端子に結合された第1の端子、および前記共通ソース段の前記ゲート入力に結合された第2の端子を有する第1のコンデンサと、
前記第1のインダクタの前記第2の端子に結合された第1の端子、およびアンテナに結合された第2の端子を有する第2のインダクタとを備えたことを特徴とする請求項25に記載の回路。
【請求項27】
前記共通ゲート段の前記ドレイン出力と前記第1の抵抗との間に直列に結合された第3および第4のインダクタと、
前記第3および第4のインダクタにまたがって結合された第2のコンデンサと、
前記共通ソース段の前記ドレイン出力と前記第2の抵抗との間に直列に結合された第5および第6のインダクタと、
前記第5および第6のインダクタにまたがって結合された第3のコンデンサとをさらに備えたことを特徴とする請求項26に記載の回路。
【請求項28】
前記第1または第2のトランジスタに結合された可変利得回路をさらに備えたことを特徴とする請求項25に記載の回路。
【請求項29】
前記第1および第2のトランジスタは、ミクサ段または増幅器段にDC結合されることを特徴とする請求項25に記載の無線受信機。
【請求項30】
入力インピーダンスをアンテナにマッチングさせる手段と、
高い相互コンダクタンス利得を提供する手段と、
入力インピーダンス整合のための前記手段と電流を受け取るために高い相互コンダクタンス利得を提供するための前記手段との間に結合され、それにより、コモンモードノイズを除去するための電圧を提供するトランスインピーダンス回路網とを備えたことを特徴とする集積回路。
【請求項31】
入力インピーダンスをマッチングさせる前記手段と、高い相互コンダクタンス利得を提供する前記手段と、前記トランスインピーダンス回路網とは、約3ギガヘルツの周波数から10ギガヘルツまで動作可能であることを特徴とする請求項30に記載の回路。
【請求項32】
入力インピーダンスをマッチングさせる前記手段、または高い相互コンダクタンス利得を提供する手段の利得を調整する手段をさらに備えたことを特徴とする請求項30に記載の回路。
【請求項33】
マッチングさせる前記手段、および高い相互コンダクタンスを提供する手段の出力を、後続段にDC結合するための手段をさらに備えたことを特徴とする請求項30に記載の回路。

WHAT IS CLAIMED IS:

1. A wireless receiver comprising: an antenna; a first transistor having a source; a second transistor having a gate; and a network comprising a first terminal coupled to the antenna, a second terminal coupled to the source of the first transistor and a third terminal coupled to the gate of the second transistor, wherein the network has a transimpedance between the second and third terminals so that noise generated by the first transistor is differentially rejected by the system across a predetermined range of frequencies.

2. The wireless receiver of claim 1 wherein the input impedance of the first transistor is approximately equal to an equivalent resistance of the antenna.

3. The wireless receiver of claim 1 wherein the transimpedance comprises an equivalent resistance of the antenna.

4. The wireless receiver of claim 1 wherein the network comprises an LC ladder.

5. The wireless receiver of claim 1 wherein the network comprises a first inductor having a first terminal coupled to the source of the first transistor and a second terminal coupled to the gate of the second transistor.

6. The wireless receiver of claim 5 wherein the network further comprises: a capacitor having a first terminal coupled to the second terminal of the first inductor and a second terminal coupled to the gate of the second transistor; and a second inductor having a first terminal coupled to the first terminal of the capacitor and a second terminal coupled to an integrated circuit pad.

7. The wireless receiver of claim 6 wherein the network further comprises a third inductor coupled between the second terminal of the first inductor and the first terminal of the capacitor. 8. The wireless receiver of claim 1 further comprising: a third transistor having a source coupled to the drain of the first transistor, a gate coupled to a first bias voltage and a drain coupled to a first terminal of a first resistor; and a fourth transistor having a source coupled to the drain of the second transistor, a gate coupled to a second bias voltage and a drain coupled to a first terminal of a second resistor.

9. The wireless receiver of claim 8 further comprising: a first inductor having a first terminal coupled to the drain of the third transistor and a second terminal coupled to the first resistor; and a second inductor having a first terminal coupled to the drain of the fourth transistor and a second terminal coupled to the second resistor.

10. The wireless receiver of claim 9 further comprising: a third inductor coupled between the first inductor and first resistor; a first capacitor coupled across the first and third inductor; a fourth inductor coupled between the second inductor and the second resistor; and a second capacitor coupled across the second and fourth inductors.

11. The wireless receiver of claim 1 further comprising a variable gain circuit coupled to the first or second transistors.

12. The wireless receiver of claim 8 further comprising a fifth transistor having a source coupled to the drain of the first transistor and a gate controlled by an enable signal, wherein if the enable signal is active the fifth transistor is on, and if the enable signal is inactive the fifth transistor is off.

13. The wireless receiver of claim 8 further comprising: a fifth transistor having a source coupled to the source of the second transistor, a gate coupled to the gate of the second transistor and a drain; a sixth transistor having a source coupled to the drain of the fifth transistor, a drain coupled to the drain of the fourth transistor and a gate controlled by an enable signal, wherein if the enable signal is active the fifth and sixth transistors are turned on, and if the enable signal is inactive the fifth and sixth transistors are off.

14. The wireless receiver of claim 1 wherein the first and second transistors are DC coupled to a mixer or amplifier stage.

15. The wireless receiver of claim 8 further comprising a voltage control circuit having a first input coupled to the first terminal of the first resistor and an output coupled to a second terminal of the first resistor, wherein the voltage control circuit generates a voltage so that a subsequent stage is properly biased.

16. The wireless receiver of claim 8 wherein the first terminal of the first resistor is DC coupled to the gate of a fifth transistor, and wherein the gate of the fifth transistor is coupled to the input of a voltage control circuit comprising: an amplifier; a bias generator; and a controlled impedance.

17. The wireless receiver of claim 1 wherein the second transistor has a transconductance and wherein the product of the transimpedance of the network and the transconductance of the second transistor is approximately equal to the ratio of a first resistor coupled to the drain of the first transistor to a second resistor coupled to the drain of the second transistor across a frequency range of three gigahertz to ten gigahertz.

18. A circuit for receiving high frequency signals across a range of frequencies comprising: an antenna having an equivalent resistance; a first transistor having a source coupled to the antenna, a gate coupled to a first bias voltage and a drain, wherein the source input impedance of the first transistor matches the equivalent resistance of the antenna; a first impedance coupled to the drain of the first transistor; a second transistor having a source, a gate and a drain, wherein the second transistor has a transconductance during normal operation; a second impedance coupled to the drain of the second transistor; and a noise rejection network coupled between the source of the first transistor and the gate of the second transistor, the noise rejection network having a transimpedance between the source of the first transistor and the gate of the second transistor, wherein the ratio of the first impedance to the second impedance is approximately equal to the product of the transconductance of the second transistor and the transimpedance of the noise rejection network.

19. The circuit of claim 18 wherein the first impedance is approximately equal to the second impedance.

20. The circuit of claim 18 wherein the first impedance is greater than the second impedance. 21. The circuit of claim 18 wherein the noise rejection network comprises the equivalent resistance of the antenna and wherein the transimpedance of the noise rejection network is approximately equal to the equivalent resistance of the antenna. 22. The circuit of claim 18 wherein the noise rejection network comprises the equivalent resistance of the antenna and at least one inductor.

23. The circuit of claim 18 wherein the noise rejection network comprises an LC ladder.

24. The circuit of claim 18 wherein the transimpedance of the noise rejection network provides passive gain.

25. An electronic circuit comprising: a common gate stage having a source input and drain output; a first resistance coupled to the drain output of the common gate stage; a common source stage having gate input coupled to the source input of the common gate stage and a drain output, the common source stage having a transconductance; a second resistance coupled to the drain output of the common source stage; and a network having a transimpedance coupled between the source input of the common gate stage and gate input of the common source stage, wherein the product of the transimpedance of the network and the transconductance of the common source stage is approximately equal to the ratio of the first resistance to the second resistance across a range of frequencies above two gigahertz. 26. The circuit of claim 25 wherein the network comprises: a first inductor having a first terminal coupled to the source of the common gate stage and a second terminal; a first capacitor having a first terminal coupled to the second terminal of the first inductor and a second terminal coupled to the gate input of the common source stage; and a second inductor having a first terminal coupled to the second terminal of the first inductor and a second terminal coupled to an antenna.

27. The circuit of claim 26 further comprising: third and fourth inductors coupled in series between the drain output of the common gate stage and the first resistor; a second capacitor coupled across the third and fourth inductors; fifth and sixth inductors coupled in series between the drain output of the common source stage and the second resistor; and a third capacitor coupled across the fifth and sixth inductors.

28. The circuit of claim 25 further comprising a variable gain circuit coupled to the first or second transistors.

29. The wireless receiver of claim 25 wherein the first and second transistors are DC coupled to a mixer or amplifier stage.

30. An integrated circuit comprising: means for matching input impedance to an antenna; means for providing high tranconductance gain; and a transimpdeance network coupled between the means for matching input impedance and the means for providing high tranconductance gain for receiving a current, and in accordance therewith, providing a voltage for rejecting common mode noise.

31. The circuit of claim 30 wherein the means for matching input impedance, the means for providing high tranconductance gain and the transimpedance network are operational from a frequency of about three gigahertz to ten gigahertz. 32. The circuit of claim 30 further comprising means for adjusting the gain of the means for matching input impedance or means for providing high transconductance gain.

33. The circuit of claim 30 further comprising means for DC coupling outputs of the means for matching and means for providing high transconductance to a subsequent stage.

「特表2008-512058およびWO2006026497より引用」

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高周波無線受信機の回路および方法

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、電子回路に関し、詳細には、高周波入力信号を受信するために使用することができる回路および方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、電子システムのうちの圧倒的多数は、様々なタイプのワイヤまたはケーブルを使用して、共に接続されてきた。たとえば、コンピュータシステムは、通常、イーサネット(登録商標)ケーブル、同軸ケーブル、電話線または光ファイバリンクによってリンクされる。同様に、コンピュータのプリンタ、スキャナならびにデジタルカメラ、携帯型情報端末または電子楽器装置などの他の周辺装置は、様々なタイプのワイヤまたはケーブルによってリンクされる。他のタイプの電子装置は、何らかの形の配線またはケーブル布線を使用して、同様に共に接続される。しかし、電子システムが普及するにつれて、関連する配線が乱雑になり混乱するのを排除しようとする要求が増してくる。
【0003】
日増しに増える上記要求に対する解決策の1つとして、無線技術がある。無線システムでは、電子装置および電子システムは、大気を介して伝搬する電磁信号を使用して互いに通信する。通常、無線通信は、電子信号内に情報を符号化し、次いでアンテナを使用して大気中に信号を送出することにより達成される。図1Aに、簡略化された無線チャネルが示す。まず、音声信号またはデータ信号など対象となる信号は、送信機110内のエンコーダ101を使用して符号化される。次いで、符号化された信号は、変調器102を使用して、より高い周波数に変調されてもよい。符号化された音声またはデータの信号は、変調されたのち、図1Bに示されるように、変調器の周波数に中心がある周波数範囲内に含まれる。時々、変調器の周波数は「搬送周波数」または「チャネル周波数」と呼ばれ、電磁的な伝送に適した非常に高い周波数でもよい。こうした高周波信号は、それらが歴史的に無線伝送システムで使用されてきたので、無線周波数(すなわち、「RF(radio frequency)」)信号と呼ばれる。電力増幅器103は、変調された信号を受け取り、アンテナ104を駆動する。電力増幅器103は、搬送周波数周りの周波数で信号を増幅するのに十分高速でなければならない。このことは、電力増幅器103が、信号を処理するのに必要な「帯域幅」(すなわち、対象となる周波数範囲全体にわたって、信号を効果的に増幅する能力)をもたなければならないことを意味する。増幅された信号は、アンテナを駆動し、アンテナは、符号化され変調された信号を、大気を介して伝播する電磁エネルギーに変換する。
【0004】
受信機120内の第2のアンテナ121は、電磁信号を検出する(すなわち、検知する)のに使用されてもよい。受信機120は、アンテナ121で受信される信号の振幅を増大させるのに使用されてもよい増幅器122を備える。送信機110と受信機120の間の距離が増大するにつれて、電磁的な伝送は、通常強さが急激に減少するので、増幅器122は、送信機110と受信機120の間の